一种AOI真空清洁检测设备制造技术

本发明专利技术提出了一种AOI真空清洁检测设备，解决了常规AOI检测方式存在异物二次污染的问题，其主要方案包括：三工位式转盘，每一工位设置有对应的承载盘，转盘上的三工位分别对应取放位、检测位与清洁位，取放位对应接入外部产品流水线，检测位由合模气缸用以带动上模安装板向检测位承载板压合，上模安装板顶部与导光板固定密封，硅胶压头与上模安装板底部固定为一体且底部外凸设置，硅胶压头结构与产品边界对应，其内还设置有与产品对应接通的PIN探针，检测位承载盘底部通过密封板密封，其顶部通过硅胶压头压合并形成密闭的空腔，每一工位承载盘均通过真空管道与气电滑环连通，产品图片由CDD相机检测，清洁位用以产品清洁。清洁位用以产品清洁。清洁位用以产品清洁。

【技术实现步骤摘要】
一种AOI真空清洁检测设备


[0001]本专利技术涉及显示屏背光检测
，尤其涉及一种AOI真空清洁检测设备。

技术介绍

[0002]对于平板PAD或笔记本电脑not book的显示屏背光模组进行点亮检测和异物检测时，目前行业内大概率使用两类检测方式：
[0003]第一种方式：产品通过DC24V电源点亮后使用2700万视觉相机拍照检测，视觉软件通过图片分析产品的亮点异常及产品表面的异物。
[0004]第二种方式：产品屏幕表面覆上透明薄膜然后通过24V电源点亮，使用2700万视觉相机拍照检测，视觉软件通过图片分析产品的亮点异常及产品表面的异物
[0005]以上第一种方式检测时由于产品屏幕内的扩散板与扩散膜中间平贴会有气体或异物将扩散膜顶起，视觉拍照时图片很难将微小的异物检出，导致屏幕不良率较高。第二种检测方式在第一种方式上有改进覆膜后对产品进行抽真空检测，可较高概率检测出异物但是此方式在生产时会增加作业人员工作量浪费生产工时，且覆膜过程中透明保护膜接触产品时也可能存在二次污染屏幕的风险。
专利
技术实现思路

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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种AOI真空清洁检测设备，包括设备主体，其特征在于，所述设备主体中心设有三工位式的转盘，每一工位设置有对应的承载盘，所述转盘上的三工位分别对应取放位、检测位与清洁位，所述取放位对应穿插接入外部产品流水线，所述检测位包括合模气缸、上模安装板、导光板、硅胶压头、密封板，所述合模气缸用以带动上模安装板向检测位承载板压合，所述上模安装板顶部与导光板固定密封，所述硅胶压头与上模安装板底部固定为一体且底部外凸设置，所述硅胶压头结构与产品边界对应，其内还设置有与产品对应接通的PIN探针，所述检测位承载盘底部通过密封板密封，其顶部通过所述硅胶压头压合并形成密闭的空腔，所述空腔高度不高于0.03mm，所述转盘中心还设有气电滑环，每一工位所述承载盘均在对应所述气电滑环的一侧设有真空管道，所述真空管道与所述气电滑环连通，所述设备主体内还设有对应检测位的CDD相机，所述清洁位用以对经检测位检测后的产品清洁。2.根据权利要求1所述的一种AOI真空清洁检测设备，其特征在于：所述设备主体内还设有与所述CDD相机对应的立式导向轴支座，所述立式导向轴支座为滚丝丝杆结构，所述CDD相机顶部固定有双轴千分尺式的微调节平台，所述立式导向轴支座用以带动所述微调节平台以转盘轴向升降，所述立式导向轴支座底部转动连接有用以微调节平台升降高度调节的摇轮。3.根据权利要求2所述的一种AOI真空清洁检测设备，其特征在于：所述CDD相机与检测位间隔距离在100～850mm。4.根据权利要求1所述的一种AOI真空清洁检测设备，其特征在于：所述清洁位包括伺服模组、连接架、升降架、下压气缸与清洁辊，所述伺服模组...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷泽江，
申请(专利权)人：南京永红自动化设备有限公司，
类型：发明
国别省市：