一种AOI真空清洁检测设备制造技术

本发明专利技术提出了一种AOI真空清洁检测设备，解决了常规AOI检测方式存在异物二次污染的问题，其主要方案包括：三工位式转盘，每一工位设置有对应的承载盘，转盘上的三工位分别对应取放位、检测位与清洁位，取放位对应接入外部产品流水线，检测位由合模气缸用以带动上模安装板向检测位承载板压合，上模安装板顶部与导光板固定密封，硅胶压头与上模安装板底部固定为一体且底部外凸设置，硅胶压头结构与产品边界对应，其内还设置有与产品对应接通的PIN探针，检测位承载盘底部通过密封板密封，其顶部通过硅胶压头压合并形成密闭的空腔，每一工位承载盘均通过真空管道与气电滑环连通，产品图片由CDD相机检测，清洁位用以产品清洁。清洁位用以产品清洁。清洁位用以产品清洁。

【技术实现步骤摘要】
一种AOI真空清洁检测设备


[0001]本专利技术涉及显示屏背光检测
，尤其涉及一种AOI真空清洁检测设备。

技术介绍

[0002]对于平板PAD或笔记本电脑not book的显示屏背光模组进行点亮检测和异物检测时，目前行业内大概率使用两类检测方式：
[0003]第一种方式：产品通过DC24V电源点亮后使用2700万视觉相机拍照检测，视觉软件通过图片分析产品的亮点异常及产品表面的异物。
[0004]第二种方式：产品屏幕表面覆上透明薄膜然后通过24V电源点亮，使用2700万视觉相机拍照检测，视觉软件通过图片分析产品的亮点异常及产品表面的异物
[0005]以上第一种方式检测时由于产品屏幕内的扩散板与扩散膜中间平贴会有气体或异物将扩散膜顶起，视觉拍照时图片很难将微小的异物检出，导致屏幕不良率较高。第二种检测方式在第一种方式上有改进覆膜后对产品进行抽真空检测，可较高概率检测出异物但是此方式在生产时会增加作业人员工作量浪费生产工时，且覆膜过程中透明保护膜接触产品时也可能存在二次污染屏幕的风险。

技术实现思路

[0006]本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术存在的缺陷，本专利技术提出了一种能够避免产品检测过程中异物二次污染以及连续式对产品进行取放入料、真空点亮检测、辊式清洁的AOI真空清洁检测设备。
[0007]为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是：一种AOI真空清洁检测设备，包括设备主体，所述设备主体中心设有三工位式的转盘，每一工位设置有对应的承载盘，所述转盘上的三工位分别对应取放位、检测位与清洁位，所述取放位对应穿插接入外部产品流水线，所述检测位包括合模气缸、上模安装板、导光板、硅胶压头、密封板，所述合模气缸用以带动上模安装板向检测位承载板压合，所述上模安装板顶部与导光板固定密封，所述硅胶压头与上模安装板底部固定为一体且底部外凸设置，所述硅胶压头结构与产品边界对应，其内还设置有与产品对应接通的PIN探针，所述检测位承载盘底部通过密封板密封，其顶部通过所述硅胶压头压合并形成密闭的空腔，所述空腔高度不高于0.03mm，所述转盘中心还设有气电滑环，每一工位所述承载盘均在对应所述气电滑环的一侧设有真空管道，所述真空管道与所述气电滑环连通，所述设备主体内还设有对应检测位的CDD相机，所述清洁位用以对经检测位检测后的产品清洁。
[0008]进一步地，所述设备主体内还设有与所述CDD相机对应的立式导向轴支座，所述立式导向轴支座为滚丝丝杆结构，所述CDD相机顶部固定有双轴千分尺式的微调节平台，所述立式导向轴支座用以带动所述微调节平台以转盘轴向升降，所述立式导向轴支座底部转动连接有用以微调节平台升降高度调节的摇轮。
[0009]进一步地，所述CDD相机与检测位间隔距离在100～850mm。
[0010]进一步地，所述清洁位包括伺服模组、连接架、升降架、下压气缸与清洁辊，所述伺服模组为滚珠丝杆式，其用以带动所述连接架往复运动，所述连接架固定架设在所述伺服模组上，所述升降架与所述连接架滑动连接，所述下压气缸用以带动升降架以转盘轴向升降，所述升降架一端设置有延伸至伺服模组外侧的延伸部，所述延伸部与所述清洁位承载盘对应，所述清洁辊与所述延伸部转动连接。
[0011]进一步地，所述延伸部上开设有有多个以清洁辊轴向分布的调位孔，所述调位孔内固定有转动架，所述转动架包括两个并以所述清洁位承载盘中心对称，所述转动架一端与调节孔螺栓固定，另一端与所述清洁辊转动连接，两所述转动架侧端还设有电驱动的自清洁辊，所述自清洁辊与清洁辊平行设置且通过转动架上调位轨道调位，所述清洁位还包括与所述延伸部对应的自清洁区域，所述伺服模组能够带动所述升降架由清洁位承载至自清洁区运动。
[0012]进一步地，所述硅胶压头底部凸出上模安装板0.35mm，所述检测位承载盘顶面在承载产品后高于产品顶面0.32mm。
[0013]进一步地，所述真空管道为双回路设置，其中一回路用以产品背面真空吸附，另一回路用以所述空腔内真空抽取。
[0014]进一步地，所述气电滑环型号为6通道式MK61，所述气电滑环顶部还电连接有真空显示区，所述真空显示区通过接入每一通道的压力表实时反馈吸附状态。
[0015]进一步地，所述产品流水线包括电控式的入料轨道与出料轨道，所述取放位上下料过程为手动。
[0016]与现有技术相比，本专利技术的有益效果包括：
[0017]1.能够连续式对产品进行抽真空以及点亮检测，检测后再由清洁辊进行自清洁，CDD相机检测过程可控，确保图片拍照过程不会有二次异物的污染，提高检测精度；
[0018]2.产品抽真空过程，密封度高，抽真空方式自动气控，产品对准度高，真空值可实时数显，便于操作人员观测；
[0019]3.设备具备共用性，产品更换时只需更换产品对应承载盘以及密封硅胶。
附图说明
[0020]参照附图来说明本专利技术的公开内容。应当了解，附图仅仅用于说明目的，而并非意在对本专利技术的保护范围构成限制。在附图中，相同的附图标记用于指代相同的部件。其中：
[0021]图1示意性显示了根据本专利技术一个实施方式提出的整体结构示意图；
[0022]图2示意性显示了根据本专利技术一个实施方式提出的检测位结构示意图；
[0023]图3示意性显示了根据本专利技术一个实施方式提出的清洁位结构示意图；
[0024]图4示意性显示了根据本专利技术一个实施方式提出的立式导向轴支座结构示意图；
[0025]图5示意性显示了根据本专利技术一个实施方式提出的图1A处局部放大图。
[0026]图中标号：1、设备主体；2、转盘；3、承载盘；4、取放位；401、入料轨道；402、出料轨道；5、检测位；501、合模气缸；502、上模安装板；503、导光板；504、硅胶压头；505、密封板；506、PIN探针；507、空腔；6、清洁位；601、伺服模组；602、连接架；603、升降架；604、下压气缸；605、清洁辊；606、延伸部；607、调位孔；608、转动架；609、自清洁辊；610、调位轨道；611、自清洁区；7、气电滑环；8、真空管道；9、CDD相机；10、立式导向轴支座；11、微调节平台；12、
摇轮。
具体实施方式
[0027]容易理解，根据本专利技术的技术方案，在不变更本专利技术实质精神下，本领域的一般技术人员可以提出可相互替换的多种结构方式以及实现方式。因此，以下具体实施方式以及附图仅是对本专利技术的技术方案的示例性说明，而不应当视为本专利技术的全部或者视为对本专利技术技术方案的限定或限制。
[0028]根据本专利技术的一实施方式结合图1
‑
图5示出。
[0029]如图1
‑
图5所示，整体而言，一种AOI真空清洁检测设备，包括设备主体1，设备主体1中心设有三工位式的转盘2，每一工位设置有对应的承载盘3，转盘2上的三工位分别对应取放位4、检测位5与清洁位6，以下结合附图对每一工位进行具体说明。对于设备主体1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种AOI真空清洁检测设备，包括设备主体，其特征在于，所述设备主体中心设有三工位式的转盘，每一工位设置有对应的承载盘，所述转盘上的三工位分别对应取放位、检测位与清洁位，所述取放位对应穿插接入外部产品流水线，所述检测位包括合模气缸、上模安装板、导光板、硅胶压头、密封板，所述合模气缸用以带动上模安装板向检测位承载板压合，所述上模安装板顶部与导光板固定密封，所述硅胶压头与上模安装板底部固定为一体且底部外凸设置，所述硅胶压头结构与产品边界对应，其内还设置有与产品对应接通的PIN探针，所述检测位承载盘底部通过密封板密封，其顶部通过所述硅胶压头压合并形成密闭的空腔，所述空腔高度不高于0.03mm，所述转盘中心还设有气电滑环，每一工位所述承载盘均在对应所述气电滑环的一侧设有真空管道，所述真空管道与所述气电滑环连通，所述设备主体内还设有对应检测位的CDD相机，所述清洁位用以对经检测位检测后的产品清洁。2.根据权利要求1所述的一种AOI真空清洁检测设备，其特征在于：所述设备主体内还设有与所述CDD相机对应的立式导向轴支座，所述立式导向轴支座为滚丝丝杆结构，所述CDD相机顶部固定有双轴千分尺式的微调节平台，所述立式导向轴支座用以带动所述微调节平台以转盘轴向升降，所述立式导向轴支座底部转动连接有用以微调节平台升降高度调节的摇轮。3.根据权利要求2所述的一种AOI真空清洁检测设备，其特征在于：所述CDD相机与检测位间隔距离在100～850mm。4.根据权利要求1所述的一种AOI真空清洁检测设备，其特征在于：所述清洁位包括伺服模组、连接架、升降架、下压气缸与清洁辊，所述伺服模组...

【专利技术属性】
技术研发人员：雷泽江，
申请(专利权)人：南京永红自动化设备有限公司，
类型：发明
国别省市：