屏蔽及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种屏蔽，包括第一表面以及与第一表面相对的第二表面，且具有全蚀区及多个净空区。屏蔽在全蚀区具有多个贯孔，且各贯孔连通第一表面及第二表面。多个净空区分布在全蚀区内，且全蚀区的多个贯孔围绕各净空区，其中，各净空区内更具有通孔，其连通第一表面及第二表面。各净空区的形状为圆形或多边形；其中，当多边形的每一内角小于120度，净空区更包括第一净空区域及第二净空区域。第一净空区域包围第二净空区域，且屏蔽在第一净空区域具有多个蚀槽。本发明专利技术还提供一种屏蔽的制造方法。本发明专利技术还提供一种屏蔽的制造方法。本发明专利技术还提供一种屏蔽的制造方法。

【技术实现步骤摘要】
屏蔽及其制造方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2023年4月12日提交的台湾专利申请No.112113665的优先权，为了所有目的通过引用将该专利申请并入本文，如同在此完全阐述一样。


[0003]本专利技术涉及一种蒸镀
，尤其是涉及一种屏蔽。

技术介绍

[0004]随着光源及背光模块的发展，显示器例如液晶显示器(LCD)的屏幕厚度已大幅下降，再因对手机的轻薄的需求，有机发光二极管(OLED)显示器随之发展。OLED显示器利用无背光模块的特性，达到手机更轻薄的要求，且画质更佳，更省电。
[0005]精密金属屏蔽(Fine Metal Mask)常见用于显示器产业，例如在OLED显示面板的制造中，用以将像素材料蒸镀到基板上，形成像素数组。在蒸镀制程中，需要进行屏蔽与基板的对位，而任何影响屏蔽结构的因素，都可能造成对位失准以及蒸镀误差。举例来说，即便精密金属屏蔽上具有用以对位的标记，但若屏蔽产生折曲或有不平整的情形，将可能干扰标记的对位工作，并因此无法提供使用。

技术实现思路

[0006]针对现有技术的不足，本专利技术提供一种屏蔽，能避免应力集中及因应力所导致的折痕产生，并进而提升对位工作的准确度以及当进行蒸镀时，对于蒸镀材料层厚度的有效监控。
[0007]本专利技术所提供的屏蔽包括第一表面以及与第一表面相对的第二表面，且具有全蚀区及多个净空区。屏蔽在全蚀区具有多个贯孔，且各贯孔连通第一表面及第二表面。多个净空区分布在全蚀区内，且全蚀区的多个贯孔围绕各净空区，其中，各净空区内更具有通孔，其连通第一表面及第二表面。各净空区的形状为圆形或多边形；其中，当多边形的每一内角小于120度，净空区更包括第一净空区域及第二净空区域。第一净空区域包围第二净空区域，且屏蔽在第一净空区域具有多个蚀槽。
[0008]在本专利技术的一实施例中，上述的第一净空区域的面积相对于净空区的面积的百分比为大于5％，且多个蚀槽开口在第一表面或第二表面。
[0009]在本专利技术的一实施例中，上述的第一净空区域的面积相对于净空区的面积的百分比更为大于等于10％。
[0010]在本专利技术的一实施例中，上述的净空区的形状为矩形，且包括第一净空区域及第二净空区域。
[0011]在本专利技术的一实施例中，上述的全蚀区更包括多个工作区，多个工作区间相互间隔排列；其中，多个净空区配置在各工作区之周边。
[0012]在本专利技术的一实施例中，上述的全蚀区更包括周边区围绕多个工作区；多个净空
区更配置在各工作区之边缘与屏蔽之边缘间。
[0013]本专利技术还提供一种屏蔽，其包括第一表面以及与第一表面相对的第二表面，且具有全蚀区及多个净空区。屏蔽在全蚀区具有多个贯孔，且各贯孔连通第一表面及第二表面。多个净空区分布在全蚀区内，且多个净空区的至少之一包括第一净空区域及第二净空区域，其中第一净空区域包围第二净空区域。第一净空区域的面积相对于至少一净空区的面积的百分比为大于5％。屏蔽在第一净空区域还具有多个蚀槽，且在第二净空区域具有通孔；多个蚀槽开口在第一表面或第二表面，而通孔连通第一表面及第二表面。
[0014]本专利技术还提供一种屏蔽的制造方法，包括步骤：提供板材，其具有相对的第一表面及第二表面，以及全蚀预备区及多个净空预备区；在板材的第一表面形成第一光阻层，以及在第二表面形成第二光阻层，其中，第一光阻层具有多个第一开孔位于全蚀预备区，且第二光阻层具有多个第二开孔位于全蚀预备区；在第一表面形成多个第一蚀刻部分别对应多个第一开孔；在第二表面形成多个第二蚀刻部分别对应该多个第二开孔；连通各第一蚀刻部及各第二蚀刻部并形成多个贯孔。
[0015]由以上方案可知，本专利技术的优点在于：
[0016]本专利技术因可采用形状为圆形或多边形的净空区，且多边形的每一内角大于或等于120度，因此不易形成区域性应力集中，进而避免折痕产生。本专利技术因净空区可包括第一净空区域及第二净空区域，且第一净空区域具有多个蚀槽并包围第二净空区域，因此可弱化净空区与全蚀区间的结构差异，降低应力梯度，进而避免折痕产生。本专利技术进一步有助于提升对位工作的准确度以及当进行蒸镀时，对于蒸镀材料层厚度的有效监控。本专利技术制造方法并有助于提升屏蔽的合格率及可用性。
附图说明
[0017]图1为本专利技术第一实施例的屏蔽的仰视示意图；
[0018]图2为图1的局部放大图；
[0019]图3为图2沿A
‑
A
’
剖面线的局部剖视示意图；
[0020]图4A～4B为图1的实施例的照片示意图；
[0021]图5为本专利技术一实施例的屏蔽的制造方法的第一流程示意图；
[0022]图6A～6C为本专利技术一实施例的屏蔽的制造方法的第一操作示意图；
[0023]图7为本专利技术一实施例的屏蔽的制造方法的第二流程示意图；
[0024]图8A～8D为本专利技术一实施例的屏蔽的制造方法的第二操作示意图；
[0025]图9为本专利技术一实施例的屏蔽的制造方法的第三流程示意图；
[0026]图10为本专利技术一实施例的屏蔽的制造方法的第三操作示意图；
[0027]图11为本专利技术第二实施例的屏蔽的仰视示意图；
[0028]图12为图11的局部放大图；
[0029]图13为图12沿B
‑
B
’
剖面线的局部剖视示意图；
[0030]图14～14B为图11的实施例的显微图像示意图；
[0031]图15A～15B为图11的实施例的照片示意图；
[0032]其中：
[0033]10、10a
‑
屏蔽；
[0034]100
‑
板材；
[0035]110
‑
第一表面；
[0036]120
‑
第二表面；
[0037]200
‑
全蚀区；
[0038]200
’‑
全蚀预备区；
[0039]2000
‑
贯孔；
[0040]300、300a
‑
净空区；
[0041]300
’‑
净空预备区；
[0042]3000
‑
通孔；
[0043]3000
’‑
通孔范围；
[0044]310
‑
第一净空区域；
[0045]320
‑
第二净空区域；
[0046]330
‑
蚀槽；
[0047]335
‑
开口；
[0048]410
‑
第一光阻层；
[0049]415
‑
第一开孔；
[0050]420
‑
第二光阻层；
[0051]425
‑
第二开孔；
[005本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽，其特征在于，包括一第一表面以及与该第一表面相对的一第二表面，且具有：一全蚀区；该屏蔽在该全蚀区具有多个贯孔，且各贯孔连通该第一表面及该第二表面；以及多个净空区；该多个净空区分布在该全蚀区内，且该全蚀区的该多个贯孔围绕各净空区；其中，各净空区内更具有一通孔，该通孔连通该第一表面及该第二表面；各净空区的形状为圆形或多边形；其中，当该多边形的每一内角小于120度，该净空区更包括一第一净空区域及一第二净空区域；该第一净空区域包围该第二净空区域，且该屏蔽在该第一净空区域具有多个蚀槽。2.根据权利要求1所述的屏蔽，其特征在于，所述第一净空区域的面积相对于该净空区的面积的百分比为大于5％，且该多个蚀槽开口在该第一表面或该第二表面。3.根据权利要求1所述的屏蔽，其特征在于，所述第一净空区域的面积相对于该净空区的面积的百分比更为大于等于10％。4.根据权利要求1所述的屏蔽，其特征在于，所述净空区的形状为矩形，且该净空区包括该第一净空区域及该第二净空区域。5.根据权利要求1所述的屏蔽，其特征在于，所述全蚀区更包括多个工作区，该多个工作区间相互间隔排列；其中，该多个净空区配置在各工作区的周边。6.根据权利要求5所述的屏蔽，其特征在于，所述全蚀区更包括一周边区围绕该多个工作区；该多个净空区更配置在各工作区的边缘与该屏蔽的边缘间。7.一种屏蔽，其特征在于，包括一第一表面以及与该第一表面相对的一第二表面，且具有：一全蚀区；该屏蔽在该全蚀区具有多个贯孔，且各贯孔连通该第一表面及该第二表面；以及多个净空区，分布在该全蚀区内，且该多个净空区的至少之一包括一第一净空区域及一第二净空区域，该第一净空区域包围该第二净空区域；该第一净空区域的面积相对于该至少一净空区的面积的百分比为大于5％；其中，该屏蔽在该第一净空区域具有多个蚀槽，且在该第二净空区域具有一通孔；该多个蚀槽开口在该第一表面或该第二表面，而该通孔连通该第一表面及该第二表面。8.一种屏蔽的制造方法，其特征在于，包括：提供一板材，该板材具有相对之一第一表面及一第二表面，以及一全蚀预备区及多个净空预备区；在该板材的该第一表面形成一第一光阻层，以及在该第二表面形成一第二光阻层；其中，该第一光阻层具有多个第一开孔位于该全蚀预备区，且该第二光阻层具有多个第二开孔位于该全蚀预备区；在该第一表面形成多个第一蚀刻部，该多个第一蚀刻部分别对应该多个第一开...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡明宏，林启维，
申请(专利权)人：达运精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：