一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备制造技术

本实用新型专利技术涉及金属表面处理设备技术领域，公开了一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，包括底座、水冷阳极靶组件、水冷阴极靶组件和依次连通设置的真空室、左侧波纹管、左侧高压防护管、中间高压防护管、右侧高压防护管、右侧波纹管和电弧沉积室，所述真空室和电弧沉积室分别与底座滑动连接；所述水冷阳极靶组件的一端与真空室固定连接，所述水冷阳极靶组件的延长段依次穿过左侧波纹管、左侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内；本实用新型专利技术提供的一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，解决了现有技术中对于细长管件的内壁镀膜非常困难的问题。对于细长管件的内壁镀膜非常困难的问题。对于细长管件的内壁镀膜非常困难的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备


[0001]本技术涉及金属表面处理设备
，具体涉及一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备。

技术介绍

[0002]传统的电弧离子镀设备主要由真空室、阴极弧源系统、真空泵组及电气控制系统组成。其基本技术原理就是将金属蒸发源作为阴极弧源，当真空室内的压强达到1～0.1Pa时，在阴极弧源上通以负电压，在真空室壁通上正电压，使阴极弧源与阳极壳体之间形成弧光放电，从而使靶材蒸发离化，正离子在负高压电场的作用下，被吸引到工件上进行沉积镀覆，从而改变了工件表面的性状。现有设备的结构是真空室大而工件小，将被镀工件置于真空室之中。这种设备的结构就决定了对被镀工件的外表面进行涂层的电弧离子沉积很容易，但对管状工件的内表面进行涂层的电弧离子沉积就遇到了困难，由于管状工件外壁对为正极的真空室室壁的隔绝，阻挡了离子云进入管内，使得管状工件的内壁镀膜非常困难，尤其是对小口径、长管件内壁的涂层电弧沉积几乎不可能。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，用以解决现有技术中存在的至少一个上述问题。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，包括底座、水冷阳极靶组件、水冷阴极靶组件和依次连通设置的真空室、左侧波纹管、左侧高压防护管、中间高压防护管、右侧高压防护管、右侧波纹管和电弧沉积室，所述真空室和电弧沉积室分别与底座滑动连接；
[0006]所述水冷阳极靶组件的一端与真空室固定连接，所述水冷阳极靶组件的延长段依次穿过左侧波纹管、左侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内，所述水冷阴极靶组件的一端与电弧沉积室固定连接，所述水冷阴极靶组件的延长段依次穿过右侧波纹管、右侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内。
[0007]本技术方案中，由于真空室和电弧沉积室分别与底座滑动连接，水冷阳极靶组件的一端与真空室固定连接，水冷阴极靶组件的一端与电弧沉积室固定连接，则通过真空室和电弧沉积室在底座上的位置移动可实现对水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件的位置移动；左侧波纹管和右侧波纹管的设置在保证了密封效果的同时能够为真空室和电弧沉积室的移动提供可移动伸缩量；中间高压防护管的设置能够方便实现对细长管件的安装，在需要更换细长管件时，通过对中间高压防护管两端进行拆卸即可；由于水冷阳极靶组件的延长段依次穿过左侧波纹管、左侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内，水冷阴极靶组件的延长段依次穿过右侧波纹管、右侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内，因此，在水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件的位置移动的过程中实现
了对水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件延长端上的水冷阳极和水冷阴极在细长管件内的位置调整，也即是，水冷阳极和水冷阴极之间的距离可调并且能够在细长管件内移动，从而使得涂层均匀、致密，从而解决现有技术中对于细长管件的内壁镀膜非常困难的问题。
[0008]此外，由于左侧波纹管、左侧高压防护管、中间高压防护管、右侧高压防护管、右侧波纹管本身替代了大部分真空室，且将细长管件设置在真空室外，与现有的将待镀工件放置在真空室内完全不同，本设计很大程度上缩小了真空室的体积，使抽真空的进程加快，进而提高了工作效率。
[0009]进一步的，为了方便将细长管件定位安装在中间高压防护管内，所述细长管件通过管件支撑件定位在中间高压防护管内。
[0010]进一步的，为了更好的实现对细长管件进行更好的定位安装，所述左侧高压防护管和中间高压防护管之间设有第一连接管，所述右侧高压防护管和中间高压防护管之间设有第二连接管；所述底座上分别设有第一对中装置和第二对中装置，所述第一对中装置对第一连接管进行支撑，所述第二对中装置对第二连接管进行支撑。
[0011]进一步的，为了使得细长管件在中间高压防护管内更为稳定且使得通过对中装置对第一连接管和第二连接管的高度位置的调整，进而使得细长管件保持较好的对中状态，所述管件支撑件设有两个，分别为左侧管件支撑件和右侧管件支撑件，所述左侧管件支撑件和右侧管件支撑件分别位于第一连接管和第二连接管内。
[0012]进一步的，为了通过升降结构实现对第一连接管和第二连接管的高度的调整，所述第一对中装置和第二对中装置均为可调升降结构。
[0013]进一步的，为了更好的实现对左侧高压防护管和右侧高压防护管的稳定安装，所述左侧高压防护管和右侧高压防护管分别通过左侧支撑架和右侧支撑架固定安装在底座上。
[0014]进一步的，为了方便实现对水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件的稳定安装，所述水冷阳极靶组件通过连接法兰固定在真空室内，所述水冷阴极靶组件通过连接法兰固定在电弧沉积室内。
[0015]进一步的，为了提供一种具体的可滑动结构，所述真空室和电弧沉积室的下端分别设有滑块，所述底座上对应的位置分别设有滑轨，所述滑块与对应的滑轨滑动配合。
[0016]进一步的，为了实现水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件分别与弧源电源的正负极连接，所述水冷阳极靶组件与弧源电源的正极连接，所述水冷阴极靶组件与弧源电源的负极连接。
[0017]进一步的，所述水冷阴极靶组件上靠近水冷阴极的位置设有引弧装置，所述引弧装置采用高功率脉冲方式，引弧脉冲峰值高达20Kv。由于采用高功率脉冲引弧方式使得弧源结构直径大幅缩小。
[0018]本技术的有益效果为：本技术方案中，由于真空室和电弧沉积室分别与底座滑动连接，水冷阳极靶组件的一端与真空室固定连接，水冷阴极靶组件的一端与电弧沉积室固定连接，则通过真空室和电弧沉积室在底座上的位置移动可实现对水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件的位置移动；左侧波纹管和右侧波纹管的设置在保证了密封效果的同时能够为真空室和电弧沉积室的移动提供可移动伸缩量；中间高压防护管的设置能够方便实现对细长管件的安装，在需要更换细长管件时，通过对中间高压防护管两端进行拆卸即可；由
于水冷阳极靶组件的延长段依次穿过左侧波纹管、左侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内，水冷阴极靶组件的延长段依次穿过右侧波纹管、右侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内，因此，在水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件的位置移动的过程中实现了对水冷阳极靶组件和水冷阴极靶组件延长端上的水冷阳极和水冷阴极在细长管件内的位置调整，也即是，水冷阳极和水冷阴极之间的距离可调并且能够在细长管件内移动，从而使得涂层均匀、致密，从而解决现有技术中对于细长管件的内壁镀膜非常困难的问题。
[0019]此外，由于左侧波纹管、左侧高压防护管、中间高压防护管、右侧高压防护管、右侧波纹管本身替代了大部分真空室，且将细长管件设置在真空室外，与现有的将待镀工件放置在真空室内完全不同，本设计很大程度上缩小了真空室的体积，使抽真空的进程加快，进而提高了工作效率。
附图说明
[0020]图1为本技术的主视结构示意本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，其特征在于：包括底座、水冷阳极靶组件、水冷阴极靶组件和依次连通设置的真空室、左侧波纹管、左侧高压防护管、中间高压防护管、右侧高压防护管、右侧波纹管和电弧沉积室，所述真空室和电弧沉积室分别与底座滑动连接；所述水冷阳极靶组件的一端与真空室固定连接，所述水冷阳极靶组件的延长段依次穿过左侧波纹管、左侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内，所述水冷阴极靶组件的一端与电弧沉积室固定连接，所述水冷阴极靶组件的延长段依次穿过右侧波纹管、右侧高压防护管后伸入位于中间高压防护管内的细长管件内。2.根据权利要求1所述的一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，其特征在于：所述细长管件通过管件支撑件定位在中间高压防护管内。3.根据权利要求2所述的一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，其特征在于：所述左侧高压防护管和中间高压防护管之间设有第一连接管，所述右侧高压防护管和中间高压防护管之间设有第二连接管；所述底座上分别设有第一对中装置和第二对中装置，所述第一对中装置对第一连接管进行支撑，所述第二对中装置对第二连接管进行支撑。4.根据权利要求3所述的一种带有双水内冷小口径管件电弧离子沉积设备，其特征在于：所述管件支撑件设有两个，分别为左侧管件支撑件...

【专利技术属性】
技术研发人员：富之柢，卢怨谊，
申请(专利权)人：北京茂孚工业控制技术中心，
类型：新型
国别省市：