一种微条纹易洁环保镀层的制备方法及其应用技术

一种微条纹易洁环保镀层的制备方法以及包括该镀层的产品，所述镀层包括底层镀层和复合镀层，所述底层镀层与基材结合并位于基材上，所述复合镀层位于所述底层镀层上，所述底层镀层为硅氧化物层，所述复合镀层为硅氧化物复合金属氧化物层，所述方法包括：S100)清洗基材；S200)制备底层镀层；S300)制备共沉积镀层；S400)后处理所述共沉积镀层。本申请方法采用物理气相沉积技术，并利用稀盐酸去除共沉积镀层中的Al2O3，进而获得耐腐蚀易洁环保SiO2/SiO2‑

【技术实现步骤摘要】
一种微条纹易洁环保镀层的制备方法及其应用


[0001]本文涉及一种微条纹易洁环保镀层及其制备方法以及应用。

技术介绍

[0002]家居厨卫产品(水龙头、淋浴房玻璃、浴室柜玻璃、水槽、挂件、淋浴器、地漏、橱柜等)在使用过程中表面很容易沾上灰尘、油污、水渍等，难以易清洁。为了解决以上问题，已知有在产品表面涂镀具有惰性的疏水氟硅系复合物、非氟硅系高分子溶体聚合物、具有纳米结构的有机
‑
无机杂化超疏水材料等疏水性材料。然而，当人们用手或抹布接触具有疏水效果的产品后，其表面很容易残留指纹或者白色痕迹，进而导致疏水或超疏水易清洁寿命短。亲水性膜是另外一种易清洁的材料，一般包括含二氧化硅的有机
‑
无机复合物、不含二氧化硅的有机复合物两种类型，相关专利中对于亲水性膜在也有如下记载：
[0003]1、专利CN100430452C中，通过涂敷技术在基材表面制备具有亲水性质的颗粒(优选亲水性二氧化硅颗粒)并固定，进而获得亲水性的表面；
[0004]2、专利CN110093081B中，通过涂布方式形成有具有由特殊的高分子构成的平滑表面的亲水性聚合物层的亲水性基材；亲水性单体的均聚物和共聚物可列举聚丙烯酸、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酰吗啉、聚甲基丙烯酰吗啉、聚丙烯酰胺、聚甲基丙烯酰胺等；亲水性基团可列举酰胺基、硫酸基、磺酸基、羧酸基、羟基、氨基、氧乙烯基等公知的亲水性基团；
[0005]3、专利CN106660798B中，通过化学气相沉积CVD法将非石墨碳层与颗粒材料进行混合涂覆，随后通过引入亲水性表面基团的氧化处理对涂覆的颗粒材料改性，从而提高颗粒表面的亲水性。
[0006]但是以上这些专利存在如下问题：
[0007]1、通过涂敷技术制备的亲水性材料，其与底材的结合力较差，涂层容易脱落。
[0008]2、亲水性材料是反应活性高的材料，很容易被腐蚀，此外其在光亮面基材的表面，很容易发生二次反应，进而失去亲水状态。
[0009]因此，为了克服复合涂镀层结合力差、光亮金属基材表面难以结合亲水性膜等缺点，现有技术中急需亲水复合膜的制备方法，不仅能够适用于光亮面的基材，也能够适用于暗淡面的基材。

技术实现思路

[0010]本申请提供了一种微条纹易洁环保镀层及其制备方法以及包括该镀层的产品，具体地，所述镀层实际上为耐腐蚀亲水的复合镀层。本申请制备方法所得的镀层与基材的结合力好，不仅能够与光亮金属基材表面容易结合，也能够适用于暗淡面的基材。
[0011]与相关技术相比，本申请第一方面提供了一种微条纹易洁环保镀层，所述微条纹易洁环保镀层包括底层镀层和复合镀层，其中所述底层镀层与基材结合并位于基材上，所述复合镀层位于所述底层镀层上。
[0012]在一种示例性的实施例中，所述底层镀层为硅氧化物层，具体地，为SiO2镀层。
[0013]在一种示例性的实施例中，所述复合镀层为硅氧化物复合金属氧化物层，任选地，为SiO2‑
Ta2O5复合镀层。
[0014]在一种示例性的实施例中，所述微条纹易洁环保镀层的结构为SiO2/SiO2‑
Ta2O5。
[0015]本申请第二方面提供了一种微条纹易洁环保镀层的制备方法，其中，所述微条纹易洁环保镀层包括底层镀层和复合镀层，所述制备方法包括：
[0016]S100)清洗基材；S200)制备底层镀层；S300)在所述底层镀层上制备共沉积镀层；S400)后处理所述共沉积镀层，得到复合镀层；
[0017]其中，所述复合镀层为硅氧化物复合金属氧化物层，任选地，为SiO2‑
Ta2O5复合镀层。
[0018]在一种示例性实施例中，所述底层镀层为硅氧化物层，具体地，为SiO2镀层；所述共沉积镀层为硅氧化物复合一种或多种金属氧化物层，任选地，所述共沉积镀层为硅氧化物复合两种金属氧化物层，优选地为SiO2‑
Ta2O5‑
Al2O3层；所述微条纹易洁环保镀层的结构为SiO2/SiO2‑
Ta2O5。
[0019]在一种示例性的实施例中，步骤S200)中，采用PVD镀所述底层镀层，任选地，包括以下步骤：S210)将基材安装在PVD设备内腔室的样品架上，对设备内腔室抽真空；S220)向所述腔室中通入惰性气体并进行硅靶(纯度99.9％)的预溅射；S230)预溅射结束后，向所述腔室内通入反应气体，并打开硅靶表面挡板进行溅射；S240)溅射结束后关闭硅靶表面挡板，并关闭惰性气体管道和反应气体管道。
[0020]在一种示例性的实施例中，步骤S210)中，所述腔室的真空度为低于5.5
×
10
‑4Pa。
[0021]在一种示例性的实施例中，步骤S220)中，所述惰性气体的流量为400
‑
600sccm，所述硅靶的预溅射功率为35
‑
50KW，所述腔室内的真空度维持在0.8Pa以下，预溅射时间为1500
‑
2100s；优选地，所述惰性气体的流量为500sccm，所述硅靶的预溅射功率为40KW，所述腔室内的真空度维持在0.6Pa，所述预溅射时间为1500s。
[0022]在一种示例性的实施例中，步骤S230)中，所述反应气体的流量为60
‑
100sccm，溅射时间为1200
‑
1800s；优选地，所述反应气体的流量为80sccm，溅射时间为1500s。
[0023]在一种示例性的实施例中，步骤S300)中，采用PVD共沉积的方式镀所述共沉积镀层，任选地，包括以下步骤：S310)向所述腔室中再次通入惰性气体，并同时预溅射Ta靶(纯度99.9％)和Al靶(纯度99.9％)；S320)预溅射结束后，再次通入反应气体并同时打开Ta靶表面挡板、Al靶表面挡板和硅靶表面挡板进行溅射，制备共沉积镀层；S330)溅射结束后，关闭Ta靶、Al靶、硅靶电源以及惰性气体和反应气体管通道开关。
[0024]在一种示例性的实施例中，步骤S310)中，所述惰性气体的流量为400
‑
600sccm，所述Ta靶的功率为50
‑
70KW，所述Al靶的功率为20
‑
40KW，所述预溅射时间为1500
‑
2100s；优选地，所述惰性气体的流量为500sccm，所述Ta靶的功率为65KW，所述Al靶的功率为35KW，所述预溅射时间为1500s。
[0025]在一种示例性的实施例中，步骤S320)中，所述反应气体流量为60
‑
100sccm，溅射时间为1200
‑
1800s；优选地，所述反应气体流量为100sccm，溅射时间为1500s。
[0026]在一种示例性的实施例中，步骤S400)中，后处理所述共沉积镀层的步骤为采用稀盐酸浸泡所述共沉积镀层，具体地，将镀有共沉积镀层的基材在稀盐酸(质量分数为10％)
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微条纹易洁环保镀层的制备方法，其中所述微条纹易洁环保镀层包括底层镀层和复合镀层，所述底层镀层与基材结合并位于基材上，所述复合镀层位于所述底层镀层上；所述方法包括：S100)清洗基材；S200)制备底层镀层；S300)在所述底层镀层上制备共沉积镀层；S400)后处理所述共沉积镀层，得到复合镀层；其中，所述复合镀层为硅氧化物复合金属氧化物层，任选地，为SiO2‑
Ta2O5复合镀层。2.根据权利要求1所述的制备方法，其中，所述底层镀层为硅氧化物层，优选地，为SiO2镀层；所述共沉积镀层为硅氧化物复合多种金属氧化物层，任选地，所述共沉积镀层为硅氧化物复合两种金属氧化物层，优选地为SiO2‑
Ta2O5‑
Al2O3层；优选地，所述微条纹易洁环保镀层的结构为SiO2/SiO2‑
Ta2O5。3.根据权利要求2所述的制备方法，步骤S200)中，采用PVD镀所述底层镀层，任选地，包括以下步骤：S210)将基材安装在PVD设备内腔室的样品架上，对所述腔室抽真空；S220)向所述腔室中通入惰性气体并进行硅靶的预溅射；S230)预溅射结束后，向所述腔室内通入反应气体，并打开硅靶表面挡板进行溅射；S240)溅射结束后关闭硅靶表面挡板，并同时关闭惰性气体和反应气体管道。4.根据权利要求3所述的制备方法，步骤S210)中，所述腔室的真空度为低于5.5
×
10
‑4Pa；步骤S220)中，所述惰性气体的流量为400
‑
600sccm，所述硅靶的预溅射功率为35
‑
50KW，所述腔室内的真空度维持在0.8Pa以下，预溅射时间为1500
‑
2100s，优选地，所述惰性气体的流量为500sccm，所述硅靶的预溅射功率为40KW，所述腔室内的真空度为0.6Pa，预溅射时间为1500s；步骤S230)中，所述反应气体的流量为60
‑
100sccm，溅射时间为1200
‑
1800s，优选地，所述反应气体的流量为80sccm，溅射时间为1500s。5.根据权利要求3所述的制备方法，步...

【专利技术属性】
技术研发人员：林孝发，林孝山，刘小龙，赵林，杨权，张晓强，江文毫，高立峰，王乾廷，崔志香，
申请(专利权)人：九牧厨卫股份有限公司，
类型：发明
国别省市：