一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统技术方案

本发明专利技术公开了一种干涉

【技术实现步骤摘要】
一种干涉
‑
荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统


[0001]本专利技术涉及测量
，具体涉及一种干涉
‑
荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统。

技术介绍

[0002]光学式荧光染色薄膜厚度测量技术是一种基于光学方法测量透明荧光染色液体或固体薄膜厚度的技术，如测量LED荧光薄膜厚度、间隙内荧光液体薄膜厚度，或间接测量结构间隙的高度、表面凹槽的深度等，在机械、电子、生物等行业中均有应用。干涉条纹法与荧光法是两种不同原理的透明薄膜厚度测量方法。其中，荧光法基于激光诱导荧光原理，使用荧光剂将待测薄膜均匀染色，使用激光进行激发并得到荧光图像，通过荧光光强计算薄膜厚度，一般用于微米至毫米尺度的薄膜厚度测量，量程较大，但是对于微米尺度以下的膜厚测量灵敏度欠佳；而干涉条纹法以光干涉原理为基础，得到薄膜的激光干涉图像，通过干涉条纹级次与相对光强计算间隙厚度，一般用于纳米尺度的薄膜厚度测量，灵敏度较高，但是并不适用于微米尺度以上的膜厚测量。如果能够基于同一光路在原位实现荧光法与干涉条纹法的耦合，可以同时实现微米级、纳米本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种干涉
‑
荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统，其特征在于，包括干涉
‑
荧光原位耦合主光路和待测薄膜组合模块；待测薄膜组合模块包括黄金镀膜(3)、玻璃片(4)、反射镜(1)、待测荧光染色薄膜(2)；所述玻璃片(4)下表面镀有黄金镀膜(3)；所述待测荧光染色薄膜(2)贴合在黄金镀膜(3)的下方，发射峰波长为λ
E
；所述反射镜(1)贴合在待测荧光染色薄膜(2)下方放置；所述干涉
‑
荧光原位耦合主光路包括物镜(5)、第一成像透镜(13)、第二成像透镜(15)、荧光模块、光干涉模块、分光模块、第一相机(14)、第二相机(16)、第一激光源(7)、第二激光源(10)；待测薄膜组合模块、物镜(5)、荧光模块、干涉模块、分光模在主光路中顺次布置；所述荧光模块包括阈值为λ1的二相色长通滤光片(17)、阈值为λ2的第一长通滤光片(18)；二相色长通滤光片(17)与主光路光轴呈45度角，第一长通滤光片(18)垂直主光路光轴放置；所述光干涉模块包括全波长半反半透滤光片(19)；所述全波长半反半透滤光片(19)滤光片与主光路光轴呈45度角；所述分光模块包括阈值为λ3的二相色短通滤光片(20)、阈值为λ4的短通滤光片(21)、阈值为λ5的第二长通滤光片(22)；二相色短通滤光片(20)与主光路光轴呈45度角；短通滤光片(21)垂直主光路光轴，第二长通滤光片(22)平行主光路光轴；所述荧光模块、光干涉模块、分光模块均可分别移入、移出主光路；所述第一相机(14)与第一成像透镜(13)放置于第二长通滤光片(22)的反射光路中，用于干涉成像；所述第二相机(16)与第二成像透镜(15)放置于全波长半反半透滤光片(19)的反射光路中，用于荧光成像；所述第一激光源(7)的工作波长为λ
F
，其产生的激光经二相色长通滤光片(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：王文中，陈虹百，梁鹤，
申请(专利权)人：北京理工大学，
类型：发明
国别省市：