一种马铃薯栅格式地膜及覆盖工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种马铃薯栅格式地膜及覆盖工艺，与现有马铃薯地膜不同的是，在膜上加工有栅格划痕，其深度大于地膜厚度1/2，根据当地马铃薯种植农艺要求的株距和行距，分别确定栅格划痕的间距和行距，覆膜后覆土只需将种床和膜边盖实即可。当薯苗破土出苗后，会自行顶破栅格划痕而出膜，不用由人工及时破膜，省去破膜工序，减轻劳动力。由于靠薯苗自行出膜，所以出苗率与传统覆盖整膜种植方式相比，出苗率可达95～98%，增加马铃薯产量。另外，比传统覆盖整膜种植方式膜上要求覆盖的土方量减少了2/3，因而减轻了机具工作负荷。因而减轻了机具工作负荷。因而减轻了机具工作负荷。

【技术实现步骤摘要】
一种马铃薯栅格式地膜及覆盖工艺


[0001]本专利技术涉及农作物覆膜栽培，特别指一种马铃薯栅格式地膜及覆盖工艺。

技术介绍

[0002]覆膜栽培是马铃薯栽培的重要技术，它能够凭借覆膜保湿、保温、改良土壤的技术优势，获得高产的栽培效果，具有十分重要的应用价值。一方面，利用地膜的透光性能够将热能进行储存，维持作物生长所需的适宜温度；另一方面，地膜不透气，能够有效减少土壤中水分的挥发，进而更好地保证了适宜的湿度。并且水循环的有效作用能够更好地促进作物生长发育，这是高产栽培的重要基础。地膜能够在田间形成“小气候”，通过地膜保温、保湿，以及光的反射作用，有效改善作物的栽培环境。
[0003]目前，国内马铃薯覆膜播种方式较多。作业工序要求是，先播薯种，再覆盖整张地膜。地膜覆盖地面时，让地膜平贴畦面，然后在地膜上方全部覆土，覆土厚度控制在8～10cm。如果膜上覆土量过大，影响采光，膜下垄形高度不足，严重影响产量；覆土量过小，春季风大，容易被风揭膜，而且遮盖不严，膜下与地表孔隙处，使地膜内温度升高，灼伤作物幼苗。特别是种床周围不能露光，否则出苗后容易被光照灼伤，苗被烧死。但膜边压紧盖实，防止风吹掀膜，势必加大了机具圆盘覆土器的覆土量。当马铃薯苗破土出苗3cm以上或未出苗时，还需要由人工及时在出苗上方地膜划一个3cm左右的口子，以使马铃薯苗露出地膜，并同时放少许细土盖住地膜破口处。人工破膜耗费大量劳力，往往容易贻误农时，拖延时间影响出苗率。所以，必须从地膜研发、机具适应性加以改造。改进地膜形式，增加采光面积，提高出苗率，增加膜下土量，减少人工辅助劳力。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题是提供一种马铃薯栅格式地膜及覆盖工艺。本地膜及覆盖工艺针对马铃薯甜菜种植地区沿用的整张地膜，耗费大量劳力所存在的问题，摸索出一条用于马铃薯栽培栅格式地膜及覆盖工艺，它利用覆盖地膜能够保湿、保温、改良土壤的技术优势，改善马铃薯种床区域湿度、温度，能够更好地促进作物生长，获得高产栽培效果。
[0005]本专利技术的技术问题是由如下方案解决的：一、马铃薯栅格式地膜1、栅格划痕式地膜规格：栅格划痕式地膜是普通农用地膜，其上面加工有栅格划痕，覆盖地面后，栅格划痕位于种床附近。其作用是当薯苗出土后，可以很顺利地从栅格划痕的交叉处破膜出土。其外形尺寸宽度为：2A+430mm。式中：A是栅格划痕到地膜外边缘距离，可根据垄高垄宽选定，如一般高垄：采用750mm膜，A是160mm ；如高垄可采用850mm膜，A是210mm ；如果平垄可选窄膜。
[0006]2、栅格划痕规格：根据当地马铃薯甜菜种植的农艺要求而定。
[0007]所述栅格划痕呈十字型，横向宽度B为50～80mm。
[0008]栅格划痕间距C是按当地农艺要求任意选定，一般为30～50 mm；即3～5株距。
[0009]栅格划痕之间行距E按作物行距而定，一般为320～450 mm。马铃薯行距在270～450mm范围内种植，即小行距以270～350mm选定。
[0010]栅格划痕深度必须适中，一方面确保不易被风刮起破裂，另一方面薯苗容易顶破出膜，其深度应大于膜厚度的1/2。一般使用地膜厚度为0.0010mm，栅格划痕2深度则为0.0005～0.0007mm。
[0011]二、播种覆膜用马铃薯覆膜种植机进行覆膜播种，种植机可一次完成高垄整形
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施肥
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覆膜
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播种
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复土
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镇压。改进点播覆膜机形式，要求种子点播在出苗栅格附近，改进展膜辊、压膜轮、复土器，采用大小勺式取种器，增加取种检测及深度检测，增加高垄复土及成型器。
[0012]播种深度以当地农艺要求而定，一般马铃薯种植深度为80～130mm为宜。
[0013]1.覆膜要求：平展，紧贴畦面，地膜栅格划痕处缝隙不开缝。
[0014]2.覆土要求：播种后，在种床上方地膜覆土，覆土宽度100～150mm,覆土厚度50～80mm,膜外边缘压实，防止被风揭膜，前期经常检查地膜是否被风刮起，及时补压刮起、破损的地膜。
[0015]三、顶膜出土当马铃薯长出两片子叶时，逐渐从栅格划痕处缝隙自行顶膜出土，这时要及时浇水和向种苗培土，可明显加快马铃薯的生长发育进程，由于薯是自行顶格出膜，不需人工辅助破膜，保证出苗整齐，出苗率高，可达到95%以上，确保苗提早现蕾、开花、收获时间。
[0016]本专利技术的优点在于：一是减少由人工破膜的工序，大大减轻劳动力，不会因缺少劳动力而贻误农时。由于薯苗可以自行破膜出苗，因而提高了出苗率，与传统覆盖整膜种植方式相比，出苗率可达95～98%，提高5%～8%。二是减少膜上覆盖土方量，传统覆盖整膜种植方式要求必须将垄台上面覆盖的地膜全部或大部分用土覆盖，特别是种床上面地膜不能露光。本专利技术只要将种床上方和膜边用土盖实即可，用土量相当于传统种植方式的1/3，减轻拖拉机和机具工作负荷，节省油耗。三是由于薯苗出苗率高，出苗齐，确保苗提早现蕾、开花及收获时间，因此马铃薯产量与传统种植方式相比可提高8%～10%。研究表明，在北方干旱半干旱地区，应用和推广本马铃薯栅格式地膜及覆盖工艺，可普遍提高马铃薯产量，达到丰产高效的效果。四是本马铃薯栅格式地膜既可用于马铃薯种植覆膜，也可用于甜菜种植覆膜，只需将栅格式地膜上的栅格划痕的有关尺寸按甜菜种植农艺要求改变即可。
附图说明
[0017]图1是本马铃薯栅格划痕式地膜示意图图2是本马铃薯栅格划痕式地膜覆土示意图图中：1栅格划痕式地膜
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2栅格划痕
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3种床
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4覆土带A—栅格划痕2到膜边距离
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B—栅格划痕2宽度 C—栅格划痕之间间距
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D—地膜总宽度
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E—栅格划痕2之间行距（即作物行距)
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F—覆土带宽度
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G—覆土带高度。
具体实施方式
[0018]为了更清楚地说明本专利技术的技术方案，下面结合实施例和附图做一详细阐述，以
使马铃薯栅格划痕式地膜及覆盖工艺的优点和特征更易被本领域技术人员理解，从而对本专利技术的保护范围做出更为明确的界定。
[0019]本专利技术的技术问题是由如下方案解决的：一种马铃薯栅格划痕式地膜及覆盖工艺，栅格划痕式地膜1属于普通农用地膜，其上面加工有栅格划痕2。
[0020]一、马铃薯栅格式地膜栅格划痕式地膜1规格：如图1、图2所示，所述栅格划痕式地膜1外形尺寸宽度D为：2A+430mm，式中A是栅格划痕到地膜外边缘距离。外形尺寸宽度可根据垄高垄宽选定，如一般高垄：采用750mm膜，A是160mm ；如高垄可采用850mm膜，A是210mm ；如果平垄可选窄膜。
[0021]栅格划痕2规格：如图1、图2所示，根据当地马铃薯甜菜种植的农艺要求而定。所述栅格划痕2呈十字型，栅格划痕2横向宽度B为50～80mm；栅格划本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种马铃薯栅格划痕式地膜，栅格划痕式地膜为普通农用地膜，其上面加工有栅格划痕，其特征在于： 所述栅格划痕式地膜外形尺寸宽度D为2A+430mm，A为所述栅格划痕到膜边距离；所述栅格划痕呈十字型，栅格划痕的横向宽度B为50～80mm；所述栅格划痕间距C选定为为30～50 mm，即3～5株距：所述栅格划痕之间行距E为320～450 mm；马铃薯行距在270～450mm范围内种植，即小行距以270～350mm选定；所述栅格划痕深度大于膜厚度的1/2。2.一种马铃薯栅格划痕式地膜的覆盖工艺，步骤包括栅格划痕式地膜覆膜、覆土、顶膜出土，其特征在于： 使用马铃薯覆膜种植机进行覆膜播种，种植机可一次完成起垄
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高垄整形

【专利技术属性】
技术研发人员：杨少楠，杨彬，
申请(专利权)人：呼和浩特市得利新农机制造有限责任公司杨少楠，
类型：发明
国别省市：