【技术实现步骤摘要】
一种IC装备结构件的加工工艺
[0001]本专利技术属于精密机械制造业
,IC装备设备通过不同的制程将硅制造成晶元的过程。该部件就是在不同反应腔体中实现晶元传送的关键部件。
技术介绍
[0002]随着电子集成电路,智能制造的快速发展和普及,对于IC装备的需求量也日益增加。该零部件在晶元制造中起到传递和传送的作用,随着IC装备产业的不断发展,对于设备的需求也剧增,则此类零件也有很大的市场需求。
技术实现思路
[0003]本专利技术的目的是解决IC装备中异形零部件尺寸精度及形位公差要求的一种IC装备结构件的加工工艺。
[0004]为了实现上述目的,本专利技术采用的技术方案是:
[0005]第一步:铣两大面,保证厚度,平面度平行度0.1;
[0006]第二步:粗铣孔及下陷;
[0007]第三步:粗铣长槽及腰槽;
[0008]第四步:精铣长槽及腰槽,打孔;
[0009]第五步:使用压板,精铣部分外形;
[0010]第六步:翻面使用压板,精铣剩余外形;
[0011]第七步:稳定化热处理,保温时间8H。
[0012]第八步:钳工校形,保证基准平面度0.15。
[0013]第九步:精铣上下面,保证基准平面度0.04。
[0014]第十步:精铣燕尾槽,补正孔。
[0015]第十一步:钳工去毛刺,修整倒角,攻螺纹。
[0016]第十二步:校形,保证平面度0.04。
[0017]本专利技术的有益效果是:< ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种IC装备结构件的加工工艺,结构件主体为异形件,中心圆尺寸精度高,对于中心孔有严格的位置度要求和平面度要求;其特征在于,采用如下加工步骤:第一步:铣两大面,保证厚度,平面度平行度0.1;第二步:粗铣孔及下陷;第三步:粗铣长槽及腰槽;第四步:精铣长槽及腰槽,打孔;第五步:使用压板,精铣部分外形;第六步:翻面使用压板,精铣剩余外形;第七步:稳定化热处理,保温时间8H。2.根据权利要求1所述的一种IC装备结构件的加工工艺,其特征在于,还包括:第八步:采用钳工校形,保证基...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘行,
申请(专利权)人:沈阳富创精密设备股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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