【技术实现步骤摘要】
一种用于电磁定位跟踪的三维磁场发生装置
[0001]本申请涉及电磁
,尤其是涉及的是一种用于电磁定位跟踪的三维磁场发生装置。
技术介绍
[0002]电磁定位技术可以实现较大范围的高精度定位跟踪,在人机交互、虚拟现实、微创无创手术等领域具有较大的市场应用价值。电磁定位跟踪技术是通过磁场发生装置产生一个稳定交变磁场,磁场感知装置处于距离磁场发生装置的有效范围内,基于产生的稳定交变磁场实时感应出信号强度,基于该信号强度及交变磁场模型得到相对于磁场发生装置的精确位置和姿态信息。因此,磁场发射装置所产生的交变磁场的稳定性直接决定了电磁定位跟踪的精度及稳定性。
[0003]在中国专利技术专利(申请公布号CN112959311A)中公开了一种基于多级电磁铁的高频磁场发生装置及磁场控制方法。其解决了现有磁场发生装置产生的磁场不可控且工作空间大小不可调整的问题,可以驱动各类型的微执行器,属于电磁驱动相关
,但不适用于电磁定位跟踪。
[0004]在中国专利技术专利(申请公布号CN112967858A)中公开了一种利用 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于电磁定位跟踪的三维磁场发生装置,其特征在于,包括:磁场控制模块,其用于生成控制磁场发生的驱动信号;磁场发射模块,其响应该磁场控制模块生成的驱动信号后产生磁场信号;磁屏蔽模块,其用于隔离该磁场发射模块与该磁场控制模块,以防止该磁场发射模块对该磁场控制模块产生干扰;该磁屏蔽模块包括具有空心结构的磁屏蔽立体结构,该磁场控制模块设置在该磁屏蔽立体结构之内,该磁场发射模块设置在该磁屏蔽立体结构之外。2.根据权利要求1所述的用于电磁定位跟踪的三维磁场发生装置,其特征在于,该磁场发射模块包括三个正交绕设在该磁屏蔽立体结构外侧壁的发射线圈。3.根据权利要求1所述的用于电磁定位跟踪的三维磁场发生装置,其特征在于,该磁屏蔽立体结构由磁屏蔽层构成的。4.根据权利要求1所述的用于电磁定位跟踪的三维磁场发生装置,其特征在于,该磁屏蔽立体结构包括支撑架体、磁屏蔽层,该磁屏蔽层设置在该支撑架体的内侧壁或外侧壁。5.根据权利要求1所述的用于电磁定位跟踪的三维磁场发生装置,其特征在于,该磁屏蔽立体结构呈立方体结构或球体...
【专利技术属性】
技术研发人员:夏许可,戴厚德,林志榕,连阳林,
申请(专利权)人:泉州装备制造研究所,
类型:新型
国别省市:
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