一种小型填料精馏塔的液体再分布器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种小型填料精馏塔的液体再分布器包括：塔体；壁流收集盘，所述壁流收集盘中部具有供介质流通的穿孔；集液筒，设置在所述壁流收集盘底部，所述集液筒外壁与所述塔体内壁之间形成气流通道；汽相分布孔，开设在所述集液筒侧壁上；液相分布孔，竖直贯穿所述集液筒底部；其中，所述液相分布孔流出液体的体积小于流至所述集液筒底部的液体的体积，以使所述集液筒底部始终存在一定液位空间；本实用新型专利技术可解决现有的锥形圈再分布器和莲蓬头再分布器，分布效果比较差，且存在汽相阻滞涡旋的情况，导致传质返混，填料等板高度增加的问题。增加的问题。增加的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种小型填料精馏塔的液体再分布器


[0001]本技术涉及精馏塔
，具体涉及一种小型填料精馏塔的液体再分布器。

技术介绍

[0002]填料精馏塔目前应用较多的再分布器为槽盘式分布器，在直径大于300mm的精馏塔中有良好的液体再分布性能，但对于直径小于300mm的精馏塔，由于槽盘式分布器结构较复杂，焊接难度增大，因此并不适合。目前小型精馏塔采用的再分布器形式一般为建议的锥形圈或莲蓬头的形式，分布效果比较差，且存在汽相阻滞涡旋的情况，导致传质返混，填料等板高度增加。

技术实现思路

[0003]为克服上述缺点，本技术的目的在于提供一种小型填料精馏塔的液体再分布器。
[0004]为了达到以上目的，本技术包括：
[0005]塔体；
[0006]壁流收集盘，水平设置在所述塔体内壁，所述壁流收集盘中部具有供介质流通的穿孔；
[0007]集液筒，设置在所述壁流收集盘底部，所述集液筒外壁与所述塔体内壁之间形成气流通道；
[0008]汽相分布孔，开设在所述集液筒侧壁上；
[0009]液相分布孔，竖直贯穿所述集液筒底部；
[0010]其中，所述汽相分布孔和所述液相分布孔均设置有若干个；
[0011]其中，所述液相分布孔流出液体的体积小于流至所述集液筒底部的液体的体积，以使所述集液筒底部始终存在一定液位空间。
[0012]本申请通过设置经液相分布孔流出的液体体积小于流至集液筒底部的液体体积，从而使得冷凝的液体能够在集液筒底部累积形成一定的液位空间，以使积存的液体能够将多个液相分布孔全部封堵，使得从塔体底部向上流动的汽相流仅能够通过汽相分布孔流至集液筒上方空间，从而避免产生汽相阻碍旋涡的情况，继而避免传质返混，填料板高度增加的问题。
[0013]在上述液体再分布器的优选技术方案中，在高度方向上，所述液相分布孔与位于最底部的汽相分布孔之间的距离为5
‑
20cm。
[0014]在上述液体再分布器的优选技术方案中，所述集液筒高度为10
‑
40cm。
[0015]在上述液体再分布器的优选技术方案中，所述穿孔直径为塔体内径的0.5
‑
0.8。
[0016]在上述液体再分布器的优选技术方案中，所述汽相分布孔的流量为0.5
‑
1m3/s。
[0017]在上述液体再分布器的优选技术方案中，所述液相分布孔的直径为2
‑
5mm。
[0018]在上述液体再分布器的优选技术方案中，所述集液筒内壁上喷涂有PTFE涂层。
[0019]本技术的有益效果是：
[0020](1)本申请通过设置经液相分布孔流出的液体体积小于流至集液筒底部的液体体积，从而使得冷凝的液体能够在集液筒底部累积形成一定的液位空间，以使积存的液体能够将多个液相分布孔全部封堵，使得从塔体底部向上流动的汽相流仅能够通过汽相分布孔流至集液筒上方空间，从而避免产生汽相阻碍旋涡的情况，继而避免传质返混，填料板高度增加的问题。
[0021](2)本申请的汽相流穿过汽相分布孔时，汽相流流动产生的微压使得集液筒内壁上的液体不会通过汽相分布孔流出，实现汽液两相的独立再分部，有效提高本申请的使用效果。
附图说明
[0022]图1为本技术的示意图；
[0023]图中：塔体1、壁流收集盘2、穿孔3、集液筒4、气流通道5、汽相分布孔6、液相分布孔7。
具体实施方式
[0024]下面参照附图来描述本技术的优选实施方式。本领域技术人员应当理解的是，这些实施方式仅仅用于解释本技术的技术原理，并非旨在限制本技术的保护范围。
[0025]需要说明的是，在本技术的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”等指示方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0026]此外，还需要说明的是，在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0027]如图1所示，本技术的一种小型填料精馏塔的液体再分布器包括：
[0028]塔体1；
[0029]壁流收集盘2，水平设置在所述塔体1内壁，所述壁流收集盘2中部具有供介质流通的穿孔3；
[0030]集液筒4，设置在所述壁流收集盘2底部，所述集液筒4外壁与所述塔体1内壁之间形成气流通道5；
[0031]汽相分布孔6，开设在所述集液筒4侧壁上；
[0032]液相分布孔7，竖直贯穿所述集液筒4底部；
[0033]其中，所述汽相分布孔6和所述液相分布孔7均设置有若干个；
[0034]其中，所述液相分布孔7流出液体的体积小于流至所述集液筒4底部的液体的体
积，以使所述集液筒4底部始终存在一定液位空间。
[0035]参见图1，塔体1内壁上焊接有壁流收集盘2，壁流收集盘2与塔体1内壁相互垂直，壁流收集盘2中部具有穿孔3，以使壁流收集盘2呈圆盘状，穿孔3用于供汽相流和液相流流通，集液筒4竖直设置在壁流收集盘2的底部，集液筒4与壁流收集盘2共轴，且集液筒4的内壁与穿孔3的表壁相切设置，集液筒4外壁和塔体1内壁之间存在一定距离，从而使得两者之间形成供汽相流运动的气流通道5，集液筒4外壁上开设有多个汽相分布孔6，汽相分布孔6自上而下设置且以集液筒4中轴线为中心均匀排列，集液筒4底部贯穿开设有多个液相分布孔7，液相分布孔7以集液筒4中轴线为中心均匀分布。
[0036]当本申请在工作初始时，塔体1底部对溶液进行蒸馏以形成向塔体1上方流动的汽相流，汽相流通过气流通道5以及汽相分布孔6进入集液筒4上方空间，同时汽相流还通过液相分布孔7进入集液筒4上方空间，汽相流在塔体1上部遇冷凝结在塔体1内壁上以形成液相流，液相流经塔体1内壁流至集液筒4底部，由于经液相分布孔7流出的液体体积小于流至集液筒4底部的液体体积，从而使得冷凝的液体能够在集液筒4底部累积形成一定的液位空间，以使积存的液体能够将多个液相分布孔7全部封堵，使得从塔体1底部向上流动的汽相流仅能够通过汽相分布孔6流至集液筒4上方空间，从而避免产生汽相阻碍旋涡的情况，继而避免传质返混，填料板高度增加的问题，相较于传统的锥形圈再分布器和莲蓬头再分布器，本申请具有液体分布更加均匀，塔体1内部传质效果好等优点。
[0037]此外，本申请中，在汽相流穿过汽相分布孔6时，汽相流流动产生的微压使得集液筒4内壁上的液体不会通过汽相分布孔6流出，实现汽液两相的独立再分部，有效提高本申请的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种小型填料精馏塔的液体再分布器，其特征在于，包括：塔体；壁流收集盘，水平设置在所述塔体内壁，所述壁流收集盘中部具有供介质流通的穿孔；集液筒，设置在所述壁流收集盘底部，所述集液筒外壁与所述塔体内壁之间形成气流通道；汽相分布孔，开设在所述集液筒侧壁上；液相分布孔，竖直贯穿所述集液筒底部；其中，所述汽相分布孔和所述液相分布孔均设置有若干个；其中，所述液相分布孔流出液体的体积小于流至所述集液筒底部的液体的体积，以使所述集液筒底部始终存在一定液位空间。2.根据权利要求1所述的一种小型填料精馏塔的液体再分布器，其特征在于：在高度方向上，所述液相分布孔与位于最底部的汽相分布孔之间的距离为5
‑
20cm。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵昌哲，陈跃飞，黄胜，喻文军，
申请(专利权)人：常熟龙飞医药设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：