本实用新型专利技术公开了一种波导内腔镀银装置，包括镀银容器，还包括：支架，其相对设置于所述镀银容器上，各所述支架上相对设置有延伸部；各所述延伸部上相对设置有搭载部，各所述搭载部上设置有搭架，各所述搭架用于与波导件搭载。本实用新型专利技术提供的波导内腔镀银装置，当需要调节波导件镀银时的状态时，将其中一个搭架置于延伸部上下一层的搭载部上，此时两个搭架不处于同一高度，从而使得波导件的右端向下倾斜，整体呈倾斜状态，该装置通过对镀银时的波导件调节其状态，便于镀液于波导腔内流动，削弱乃至避免了导致内腔中镀液不足不均匀，给波导件电镀后内腔性能效果带来一定不足。导件电镀后内腔性能效果带来一定不足。导件电镀后内腔性能效果带来一定不足。
【技术实现步骤摘要】
一种波导内腔镀银装置
[0001]本技术涉及波导镀银
，具体来说涉及一种波导内腔镀银装置。
技术介绍
[0002]公知的，电镀是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化，同时电镀能增强金属的抗腐蚀性、增加硬度、提高导电性、耐热性以及防止磨耗等等。
[0003]通过将被镀工件放置到夹具上并浸入装有电镀液的容器中，镀件接电为负极作为阴极，同时镀层金属也放入容器中，并接电为正极作为电镀时的阳极，通电后在电场作用下，镀液中的镀层金属分解出金属原子沉积在阴极工件内腔上获得镀层。
[0004]当被镀工件于夹具上浸入镀液内后，被镀工件在镀液的过程中，因其状态始终保持不变，使得镀液不便于于波导腔内流动，导致内腔中镀液流动不均匀，给波导件电镀后内腔性能效果带来一定不足。
技术实现思路
[0005]鉴于现有技术存在的上述问题，本技术的一方面目的在于提供一种波导内腔镀银装置，以解决现有技术的上述不足之处。
[0006]为了实现上述目的，本技术提供的一种波导内腔镀银装置，包括镀银容器，还包括：支架，其相对设置于所述镀银容器上，各所述支架上相对设置有延伸部；各所述延伸部上相对设置有搭载部，各所述搭载部上设置有搭架，各所述搭架用于与波导件搭载。
[0007]作为优选，各所述支架具体为凹形结构，其竖直滑动设置在所述镀银容器上。
[0008]作为优选，各所述支架上开设有多个限位孔，各所述限位孔具体为圆形结构。
[0009]作为优选，所述镀银容器上相对插接有与各所述限位孔相配合的卡杆。
[0010]作为优选，各所述搭载部上开设有一凹陷部，各所述凹陷部具体为弧形结构。
[0011]作为优选，各所述凹陷部与所述搭架端部相适配。
[0012]作为优选，所述搭架包括一U形架以及设置于所述U形架端部上的圆杆。
[0013]作为优选，所述波导件上相对设置有法兰盘，所述镀银容器上设置有镀液池。
[0014]在上述技术方案中，本技术提供的一种波导内腔镀银装置，具备以下有益效果：该技术，当需要波导件保持水平状态镀液时，两个搭架搭载于两个处于水平状态的搭载部上，如图1状态所示，从而使得搭架上搭载的波导件处于水平状态，当需要调节波导件镀银时的状态时，将其中一个搭架置于延伸部上下一层的搭载部上，如图2状态所示，此时两个搭架不处于同一高度，从而使得波导件的右端向下倾斜，整体呈倾斜状态，该装置通过能对镀银时的波导件调节状态，便于镀液于波导腔内流动，削弱乃至避免了导致内腔中镀液不足不均匀，给波导件电镀后内腔性能效果带来一定不足。
附图说明
[0015]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本技术整体结构示意图；
[0017]图2为本技术波导件第一实施状态结构示意图；
[0018]图3为本技术波导件第二实施状态结构示意图；
[0019]图4为本技术搭架与波导件结构示意图；
[0020]图5为本技术卡杆与镀银容器爆炸结构示意图。
[0021]附图标记说明：
[0022]1、镀银容器；2、支架；3、卡杆；4、波导件；5、搭架；1.1、镀液池；1.2、卡孔；2.1、延伸部；2.2、搭载部；2.3、凹陷部；2.4、限位孔；2.5、加强部；4.1、法兰盘。
具体实施方式
[0023]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面将结合附图对本技术作进一步的详细介绍。
[0024]请参阅图1
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5，波导内腔镀银装置，用来解决当被镀工件于夹具上浸入镀液内后，被镀工件在镀液的过程中，因其状态始终保持不变，使得镀液不便于于波导腔内流动，导致内腔中镀液流动不均匀，给波导件电镀后内腔性能效果带来一定不足的问题。
[0025]作为本技术进一步提出的技术方案中，包括镀银容器1，还包括：支架2，其相对设置于镀银容器1上，各支架2上相对设置有延伸部2.1；各延伸部2.1上相对设置有搭载部2.2，各搭载部2.2上设置有搭架5，各搭架5用于与波导件4搭载，具体的，当需要波导件4保持水平状态镀液时，两个搭架5搭载于两个处于水平状态的搭载部2.2上，如图1状态所示，从而使得搭架5上搭载的波导件4处于水平状态，当需要调节波导件4镀银时的状态时，将其中一个搭架5置于延伸部2.1上下一层的搭载部2.2上，如图2状态所示，此时两个搭架5不处于同一高度，从而使得波导件4的右端向下倾斜，整体呈倾斜状态，同理左端倾斜反之，该装置通过对镀银时的波导件4调节其状态，便于镀液于波导腔内流动，削弱乃至避免了导致内腔中镀液不足不均匀，给波导件电镀后内腔性能效果带来一定不足。
[0026]本技术另一个实施例中，优选的，各支架2具体为凹形结构，其竖直滑动设置在镀银容器1上，进一步的，如图3状态所示，两个支架2之间相对设置有加强部2.5，该加强部2.5具体为连接杆，其与两个支架2固定连接，通过设置的圆杆提高了两个支架2之间的稳定性。
[0027]本技术再一个实施例中，优选的，各支架2上开设有多个限位孔2.4，各限位孔2.4具体为圆形结构，镀银容器1上相对插接有与各限位孔2.4相配合的卡杆3，进一步的，镀银容器1相对的外壁上开设有两个卡孔1.2，如图5状态所示，通过将卡杆3的两端插入卡孔1.2内，使其与竖直滑动在镀银容器1上支架2的限位孔2.4相配合，将支架2进行锁止，即当波导件4搭载到支架2上后，通过支架2滑动下降使得波导件4浸入镀液里，浸入后通过两个卡杆3将两个支架2的两端进行锁止固定，如图3状态所示。
[0028]本技术再一个实施例中，优选的，波导件4上相对设置有法兰盘4.1，镀银容器
1上设置有镀液池1.1，其为现有技术，镀银容器1上的镀液池1.1用于对波导件4进行镀银。
[0029]本技术再一个实施例中，优选的，各搭载部2.2上开设有一凹陷部2.3，各凹陷部2.3具体为弧形结构，各凹陷部2.3与搭架5端部相适配，进一步的，该凹陷部2.3与搭架5的端部相配合，提高了搭架5位于搭载部2.2上的稳定性，如图4状态所示。
[0030]本技术再一个实施例中，优选的，搭架5包括一U形架以及设置于U形架端部上的圆杆，其中，该U形架搭载于波导件4与法兰盘4.1之间，进而提高了波导件4于搭架5上的稳定性，如图4状态所示，该圆杆与凹陷部2.3相适配，提高了搭架5的圆杆于搭载部2.2上的稳定性。
[0031]以上只通过说明的方式描述了本技术的某些示范性实施例，毋庸置疑，对于本领域的普通技术人员，在不偏离本技术的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种波导内腔镀银装置，包括镀银容器(1)，其特征在于，还包括：支架(2)，其相对设置于所述镀银容器(1)上，各所述支架(2)上相对设置有延伸部(2.1)；各所述延伸部(2.1)上相对设置有搭载部(2.2)，各所述搭载部(2.2)上设置有搭架(5)，各所述搭架(5)用于与波导件(4)搭载。2.根据权利要求1所述的波导内腔镀银装置，其特征在于，各所述支架(2)具体为凹形结构，其竖直滑动设置在所述镀银容器(1)上。3.根据权利要求2所述的波导内腔镀银装置，其特征在于，各所述支架(2)上开设有多个限位孔(2.4)，各所述限位孔(2.4)具体为圆形结构。4.根据权利要求3所述的波导内腔镀银装置，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：秦海平，
申请(专利权)人：南京海创表面处理技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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