水基元件超声清洗剂制造技术

本发明专利技术属于清洗剂技术领域，尤其涉及水基元件超声清洗剂，它由如下重量百分比的原料组成：水７０％～８３％、二甲基甲酰胺１０％～２０％、烷氧基醚胺氧化物６％～８％、其它添加剂１％～２％；本发明专利技术产品通过水的改性使水可以溶解松香，达到清洗松香的目的，通过特殊的添加剂处理元件表面，使元件清洗后保存长时间不会发生氧化现象，一如刚清洗的状态，此类清洗剂由于不含破坏臭氧层的物质，不会破坏环境，不含易挥发溶剂，在超声清洗制程中不存在危险。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
水基元件超声清洗剂，其特征在于：由如下重量百分比的原料组成：　水　７０％～８３％　二甲基甲酰胺　１０％～２０％　烷氧基醚胺氧化物　６％～８％　其它添加剂　１％～２％　其中，烷氧基醚胺氧化物为十二烷基二甲 基氧化胺；　其中，其它添加剂为壬基酚聚氧乙烯醚。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：钟立新，
申请(专利权)人：东莞优诺电子焊接材料有限公司，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]