光学结构及制品制造技术

本实用新型专利技术涉及一种光学结构及制品。光学结构包含若干个阵列排布的微结构单元，微结构单元中包含若干个用以呈现哑白素面的微结构，微结构的排布周期大于或者等于4μm，且微结构单元中包含至少两种不同的微结构取向。上述光学结构中微结构的排布周期大于或者等于4μm，且微结构单元中包含至少两种不同的微结构取向，因而能够在呈现哑白素面的同时，通过打光呈现加密效果，从而具有防伪功能；同时，还可以通过调整微结构单元中微结构取向的分布和组合，从而呈现出不同打光效果的素面。此外，本实用新型专利技术还涉及一种包括上述光学结构的制品。用新型还涉及一种包括上述光学结构的制品。用新型还涉及一种包括上述光学结构的制品。

【技术实现步骤摘要】
光学结构及制品


[0001]本技术涉及光学
，特别是涉及一种光学结构。

技术介绍

[0002]传统呈现哑白素面的光学结构为单方向柱透镜阵列或者单方向短线条柱透镜阵列组合，因结构取向单一，所以宏观效果的最佳观察视角单一，且在打光后呈现线状衍射光点。因此，传统呈现哑白素面的光学结构的应用场景单一，只能作为外观，无防伪功能。

技术实现思路

[0003]基于此，有必要供一种光学结构及制品，这种光学结构及制品能够在呈现哑白素面的同时，通过打光呈现加密效果，从而具有防伪功能。
[0004]一种光学结构，所述光学结构包含若干个阵列排布的微结构单元，所述微结构单元中包含若干个用以呈现哑白素面的微结构，所述微结构的排布周期大于或者等于4μm，且所述微结构单元中包含至少两种不同的微结构取向。
[0005]上述光学结构中微结构的排布周期大于或者等于4μm，且微结构单元中包含至少两种不同的微结构取向，因而能够在呈现哑白素面的同时，通过打光呈现加密效果，从而具有防伪功能；同时，还可以通过调整微结构单元中微结构取向的分布和组合，从而呈现出不同打光效果的素面。
[0006]在一个可行的实现方式中，所述光学结构中，相同取向的微结构的排布周期为4μm～300μm。
[0007]在一个可行的实现方式中，所述微结构为凸起的微线条，所述微线条为直线条或者曲线条。
[0008]在一个可行的实现方式中，所述微线条的宽度大于所述微线条的高度。
[0009]在一个可行的实现方式中，所述微线条的宽度为2μm～200μm，所述微线条的高度为1μm～10μm。
[0010]在一个可行的实现方式中，所述微线条沿垂直于所述微线条的延伸方向的截面形状为矩形、圆弧形、阶梯形或者斜坡形。
[0011]在一个可行的实现方式中，所述光学结构中，若干个所述微结构单元均相同，且若干个所述微结构单元按照正交阵列排布或者错位排布。
[0012]在一个可行的实现方式中，所述光学结构包含n种不同的微结构单元，所述n种微结构单元交错阵列排布，其中，n≥2。
[0013]在一个可行的实现方式中，所述微结构单元的平面形状为圆形或者多边形，所述微结构单元的平面尺寸为8μm～260μm。
[0014]一种制品，所述制品包括上述任一的光学结构。
[0015]上述制品的光学结构中微结构的排布周期大于等于4μm，且微结构单元中包含至少两种不同的微结构取向，因而能够在呈现哑白素面的同时，通过打光呈现加密效果，从而
具有防伪功能；同时，还可以通过调整微结构单元中微结构取向的分布和组合，从而呈现出不同打光效果的素面。
附图说明
[0016]图1为本技术第一实施方式的光学结构的平面示意图；
[0017]图2为本技术第一实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0018]图3为本技术第一实施方式的光学结构中相同取向的微结构的截面示意图；
[0019]图4为本技术另一实施方式的光学结构中相同取向的微结构的截面示意图；
[0020]图5为本技术另一实施方式的光学结构中相同取向的微结构的截面示意图；
[0021]图6为本技术另一实施方式的光学结构中相同取向的微结构的截面示意图；
[0022]图7为本技术第二实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0023]图8为本技术第三实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0024]图9为本技术第四实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0025]图10为本技术第五实施方式的光学结构的平面示意图；
[0026]图11为本技术第五实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0027]图12为本技术第六实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0028]图13为本技术第七实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0029]图14为本技术第八实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0030]图15为本技术第九实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0031]图16为本技术第十实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0032]图17为本技术第十一实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0033]图18为本技术第十二实施方式的光学结构中微结构单元的平面示意图；
[0034]图19为本技术实施例1的光学结构的打光效果图；
[0035]图20为本技术实施例2的光学结构的打光效果图；
[0036]图21为本技术实施例3的光学结构的打光效果图；
[0037]图22为本技术实施例4的光学结构的打光效果图。
具体实施方式
[0038]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0039]需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
[0040]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本技术的说明书中所使用的术语只是为
了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
[0041]请参见图1～图3，本技术第一实施方式的光学结构100包含若干个阵列排布的微结构单元110，微结构单元100中包含若干个用以呈现哑白素面的微结构111，微结构111的排布周期大于或者等于4μm，且微结构单元110中包含至少两种不同的微结构取向。其中，“若干个”指的是不定量，可以为一个、两个或者两个以上。
[0042]其中，微结构取向指的是微结构的取向。微结构单元中包含至少两种不同的微结构取向包括若干种情形，在一些实施方式中，微结构单元可以包含至少两种取向不同的微结构，但每种微结构各自的取向唯一；在其他一些实施方式中，微结构单元可以包含一种微结构，但微结构中包含至少两种不同的取向。当然，还可以是上述几种实施方式的组合。
[0043]具体到本实施方式中，微结构单元110中包含四种取向不同的微结构111，每种微结构111各自的取向唯一，且每个微结构单元110中，四种取向不同本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学结构，其特征在于，所述光学结构包含若干个阵列排布的微结构单元，所述微结构单元中包含若干个用以呈现哑白素面的微结构，所述微结构的排布周期大于或者等于4μm，且所述微结构单元中包含至少两种不同的微结构取向。2.根据权利要求1所述的光学结构，其特征在于，所述光学结构中，相同取向的微结构的排布周期为4μm～300μm。3.根据权利要求1或者2所述的光学结构，其特征在于，所述微结构为凸起的微线条，所述微线条为直线条或者曲线条。4.根据权利要求3所述的光学结构，其特征在于，所述微线条的宽度大于所述微线条的高度。5.根据权利要求4所述的光学结构，其特征在于，所述微线条的宽度为2μm～200μm，所述微线条的高度为1μm～10...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓宁，韩春芳，杨颖，
申请(专利权)人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：