偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置。偏振薄膜包括：透明基底；介质光栅，位于透明基底上，介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽；以及金属层，金属层覆盖介质光栅的脊部的顶面和侧面，且暴露出介质光栅的沟槽的至少部分底部。本发明专利技术提供了一种新型结构的偏振薄膜，通过对介质光栅和金属层的结构进行上述优化设计，能够兼顾低吸收损耗、高消光比和广入射角度的光学性能，有利于广泛应用。此外，本发明专利技术还涉及一种上述偏振薄膜的制作方法以及包括上述偏振薄膜的光波导镜片及显示装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示，特别是涉及一种偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置。

技术介绍

1、偏振薄膜是液晶显示、光学测量和光通信等系统中使用的一种非常重要的光学组件，非常适用于需要高对比度偏振的应用，例如微型投影机、偏振分光棱镜以及平视显示器等显示装置。这些系统中要求偏振薄膜具有高消光比、宽广的入射角度范围和非常紧凑的体积。偏振薄膜设计用于传输所需的偏振状态同时又可反射不需要的状态，同时可在高达45°的入射角中实现频谱平坦性能，因此广泛作为偏振分光棱镜使用。此外，基于金属线栅的偏振反射薄膜可在高温或高湿度环境中实现耐久性，同时也可在400nm至1200nm的可见与近红外光谱范围中提供出色偏振分束性能。

2、然而，传统的偏振薄膜无法兼顾低吸收损耗、高消光比和广入射角度等光学性能，不利于广泛应用。

技术实现思路

1、基于此，有必要针对如何兼顾低吸收损耗、高消光比和广入射角度的光学性能的问题，提供一种能够兼顾低吸收损耗、高消光比和广入射角度的光学性能的偏振薄膜及其制作方法、光波导镜片、显示装置。...

【技术保护点】

1.一种偏振薄膜，其特征在于，所述偏振薄膜包括：

2.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述介质光栅的周期为50nm～150nm，所述介质光栅的占空比为0.1～0.5，所述介质光栅的脊部厚度为30nm～110nm，所述金属层于所述脊部的顶面部分的厚度为30nm～150nm，所述金属层于所述脊部的侧面部分的厚度为5nm～50nm。

3.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述透明基底的折射率为1.3～1.9，所述介质光栅的折射率为1.3～1.7。

4.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述金属层位于所述介质光栅的沟槽底部部分的宽度为...

【技术特征摘要】

1.一种偏振薄膜，其特征在于，所述偏振薄膜包括：

2.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述介质光栅的周期为50nm～150nm，所述介质光栅的占空比为0.1～0.5，所述介质光栅的脊部厚度为30nm～110nm，所述金属层于所述脊部的顶面部分的厚度为30nm～150nm，所述金属层于所述脊部的侧面部分的厚度为5nm～50nm。

3.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述透明基底的折射率为1.3～1.9，所述介质光栅的折射率为1.3～1.7。

4.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述金属层位于所述介质光栅的沟槽底部部分的宽度为0nm～50nm，所述金属层位于所述介质光栅的沟槽底部部分的厚度为0nm～50nm。

5.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述金属层完全暴露出所述介质光栅的沟槽的底部。

6.根据权利要求1、4和5中任一项所述的偏振薄膜，其特征在于，所述金属层的材质选自金、银、铜、铝和钨中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述介质光栅的材质为树脂类固化胶。

8.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述透明基底为柔性基底。

9.根据权利要求8所述的偏振薄膜，其特征在于，所述柔性基底的材质选自聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯和三醋酸纤维素中的至少一种。

10.根据权利要求1或8所述的偏振薄膜，其特征在于，所述透明基底的厚度为0.5μm～500μm。

11.根据权利要求1所述的偏振薄膜，其特征在于，所述偏振薄膜还包括保护层，所述保护层覆盖所述透明基底、所述介质光栅和所述金属层。

12.根据权利要求11所述的偏振薄膜，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗明辉，周振，乔文，陈林森，
申请(专利权)人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：