用于在介质磨机中利用电空间稳定的浆料生产纳米级颗粒的方法和设备技术

本文公开了用于在介质磨机中利用电空间稳定的浆料生产纳米级颗粒的方法和设备。用于生产纳米级颗粒的方法包括将进料基材悬浮液添加至介质磨机。所述进料基材悬浮液包括液体载体介质和进料基材颗粒。该方法还包括将电空间分散剂添加至所述介质磨机中的进料基材悬浮液。所述电空间分散剂包括聚电解质。更进一步，该方法包括操作所述介质磨机一段时间以粉碎所述进料基材颗粒，从而形成具有小于约一微米的(D

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在介质磨机中利用电空间稳定的浆料生产纳米级颗粒的方法和设备


[0001]本公开内容总体涉及出于各种工业和商业目的用于生产超细颗粒的方法和设备。更具体地，本公开内容涉及用于在介质磨机例如球磨机、行星式磨机、锥形磨机和搅拌介质磨机中利用电空间稳定的(electrosterically stabilized)浆料生产纳米级颗粒的方法和设备。

技术介绍

[0002]介质研磨通常是指通过施加机械功从而将具有相对较大尺寸的介质颗粒破碎为相对较小尺寸的工艺。传统的研磨方法包括干法研磨和湿法研磨。在干法研磨中，使用空气(或惰性气体)以保持颗粒在悬浮状态同时向颗粒施加机械功。然而，随着颗粒尺寸降低，细颗粒倾向团聚以响应范德华力，这限制了干法研磨的能力。相比之下，湿法研磨使用液体例如水或有机溶剂例如醇类、醛类和酮类来控制细颗粒的再次团聚。如此，湿法研磨典型地用于亚微米尺寸颗粒的粉碎。制备亚微米颗粒的另一工艺是喷射研磨。这是使用超音速空气或蒸汽的干法。然而，因为其高度耗能所以非常昂贵。
[0003]在常规实践中，湿磨机通常包括研磨介质，其当经受机械功例如本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.用于生产纳米级颗粒的方法，包括：将进料基材悬浮液添加至介质磨机，其中所述进料基材悬浮液包含液体载体介质和进料基材颗粒；将电空间分散剂添加至所述介质磨机中的进料基材悬浮液，其中所述电空间分散剂包含聚电解质；操作所述介质磨机一段时间以粉碎所述进料基材颗粒，从而形成具有小于约一微米的(D
90
)颗粒尺寸的纳米级颗粒；和再循环用于进一步磨碎来自所述介质磨机的纳米级颗粒。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述液体载体介质包含水或有机溶剂。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述进料基材颗粒包含有机或无机固体、玻璃、石墨烯、金属、矿物、矿石、氧化硅、硅藻土、粘土、有机和无机颜料、药物材料或炭黑。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述进料基材颗粒以所述进料基材悬浮液的重量计约5％至约70％的量存在于所述进料基材悬浮液中。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述进料基材颗粒以所述进料基材悬浮液的重量计约5％至约40％的量存在于所述进料基材悬浮液中。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述聚电解质包含具有带电荷的官能团或无机亲和性基团的聚合物或共聚物。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述一段时间为约10分钟至约6000分钟。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述纳米级颗粒具有小于约500nm的(D
90
)颗粒尺寸。9.根据权利要求1所述的方法，其中介质磨机包含研磨介质，并且其中再循环用于进一步磨碎来自所述介质磨机的纳米级颗粒还包括将所述纳米级颗粒与所述研磨介质分离。10.根据权利要求1所述的方法，还包括在再循环用于进一步磨碎来自所述介质磨机的纳米级颗粒之后干燥所述纳米级颗粒。11.根据权利要求1所述的方法，还包括在再循环用于进一步磨碎来自所述介质磨机的纳米级颗粒之后将所述电空间分散剂与所述纳米级颗粒分离。12.根据权利要求1所述的方法，还包括将消泡剂添加所述介质磨机中的进料基材悬浮液。13.根据权利要求1所述的方法，其中以所述进料基材颗粒的重量计约2％至约20％的量添加所述电空间分散剂。14.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述介质磨机运行的所述一段时间期间添加额外的电空间分散剂。15.配置用于生产纳米级颗粒的介质磨机设备，包含：研...

【专利技术属性】
技术研发人员：R，
申请(专利权)人：美国石英材料公司，
类型：发明
国别省市：