显示装置以及其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够容易地去除误滴落的墨的显示装置的制造方法。所述基板处理方法包括：在基底上形成定义墨喷出区域的堤(bank)；在所述堤上形成牺牲图案；将墨喷出至所述墨喷出区域上；在所述墨喷出区域的墨上形成第一覆盖图案并在所述牺牲图案上形成第二覆盖图案；去除所述牺牲图案以及所述第二覆盖图案以将所述堤的上表面露出。堤的上表面露出。堤的上表面露出。

【技术实现步骤摘要】
显示装置以及其制造方法


[0001]本专利技术涉及显示装置以及其制造方法。

技术介绍

[0002]为了制造液晶显示装置(Liquid Crystal Display Device，LCD)、有机发光显示装置(Organic Light Emitting Diode Display Device，OLED)等显示装置，可以执行喷出墨的印刷工艺。

技术实现思路

[0003]专利技术所要解决的课题
[0004]另一方面，墨必须印刷在像素区域。但是，墨可能会误滴落至像素区域以外的区域，这可能会在后工序中产生不良。因此，通过修复工艺来去除误滴落的墨。例如，可以利用激光去除误滴落的墨。
[0005]但是，误滴落的墨的个数越多则修复工艺时间越长。另外，如果误滴落的墨的个数超过预设的个数，则不进行修复，将整个基板作为不良处理。由于分辨率越高则像素的个数越多，因此误滴落的墨的个数可能会变得更多。
[0006]本专利技术要解决的课题在于，提供能够容易地去除误滴落的墨的显示装置的制造方法。
[0007]本专利技术要解决本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置的制造方法，包括：在基底上形成定义墨喷出区域的堤；在所述堤上形成牺牲图案；将墨喷出至所述墨喷出区域上；在所述墨喷出区域的墨上形成第一覆盖图案，并在所述牺牲图案上形成第二覆盖图案；以及去除所述牺牲图案以及所述第二覆盖图案以将所述堤的上表面露出。2.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，将所述墨喷出至所述墨喷出区域上包括：在将墨喷出至所述墨喷出区域上时，喷出误滴落至所述牺牲图案上的墨，去除所述牺牲图案以及所述第二覆盖图案包括：将误滴落至所述牺牲图案上的墨与所述牺牲图案以及所述第二覆盖图案一起去除。3.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，将墨喷出至所述墨喷出区域上包括：喷出墨以使得所述堤的上表面高于所述墨的上表面。4.根据权利要求3所述的显示装置的制造方法，其中，形成所述第一覆盖图案以及所述第二覆盖图案包括：通过使所述牺牲图案的上表面高于所述第一覆盖图案的上表面来将所述牺牲图案的侧面的至少一部分露出。5.根据权利要求3所述的显示装置的制造方法，其中，形成所述第一覆盖图案以及所述第二覆盖图案包括：形成第一覆盖图案以使得所述第一覆盖图案的上表面低于所述堤的上表面。6.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，所述堤包含第一感光物质，所述牺牲图案包含与所述第一感光物质不同的第二感光物质，去除所述牺牲图案以及所述第二覆盖图案包括：利用相对于所述第一感光物质对所述第二感光物质的选择比更高的药液来去除所述牺牲图案而不去除所述堤。7.根据权利要求6所述的显示装置的制造方法，其中，所述药液是TMAH即四甲基氢氧化铵。8.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，其中，所述第一覆盖图案以及所述第二覆盖图案包括氧化膜、氮化膜或氮氧化膜。9.根据权利要求8所述的显示装置的制造方法，其中，形成所述第一覆盖图案以及所述第二覆盖图案包括：利用PECVD即等离子体增强型化学气相沉积。10.根据权利要求1所述的显示装置的制造方...

【专利技术属性】
技术研发人员：金成昊，张润玉，李焌硕，文彰振，崔光俊，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：