具有宽的工作温度范围和良好粘度稳定性的水基磁流变流体制造技术

本发明专利技术公开了一种具有宽工作温度范围和良好运动粘度稳定性的水基磁流变流体，包括：疏水基团改性的磁性颗粒；水为主要成分的载液，磁颗粒散布于载液中；和添加到载液中的添加剂；其中，水基磁流变流体的工作温度T处于0℃＜T≤40℃的范围内；其中，水基磁流变流体在20

【技术实现步骤摘要】
具有宽的工作温度范围和良好粘度稳定性的水基磁流变流体


[0001]本专利技术涉及磁流变流体，具体涉及载液主要成分为水的水基磁流变流体。

技术介绍

[0002]水基磁流变流体作为磁流变抛光技术中的抛光“磨头”，为整个抛光技术提供了良好的去除效率和稳定的去除函数。由于抛光过程中工件表面几乎不存在亚表面损伤等问题，因此磁流变抛光技术也更适用于复杂工件的超精加工。在使用过程中，需要将高速搅拌的磁流变液泵送至抛光轮处实现抛光。为了确保喷出流体的流量稳定，需要将磁流变流体搅拌至高剪切的状态，因为高剪切速率下的磁流变流体的粘度存在稳定区间，磁流变流体在这一区间内的粘度相对容易控制。在实际使用过程中磁粉与载液之间其他成分的密度差别较大，整个磁流变流体具有较差的稳定性，例如粘度稳定性，特别是在颗粒之间倾向于出现实质的团聚现象，最终影响抛光稳定性。
[0003]为了提高磁流变流体的稳定性，专利CN200710018973.8公开的一种新型磁流变抛光液及其制备方法中指出，可以通过降低磁性颗粒的平均粒度，选用平均粒度≤3.5μm的磁性颗粒可以克服密度悬殊造成的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有宽工作温度范围和良好运动粘度稳定性的水基磁流变流体，包括：疏水基团改性的磁性颗粒；水为主要成分的载液，所述磁颗粒散布于所述载液中；和添加到所述载液中的添加剂；其中，所述水基磁流变流体的工作温度T处于0℃＜T≤40℃的范围内；并且其中，所述水基磁流变流体在20
‑
30℃的工作温度和800
‑
2000s
‑1的剪切速率下测得的运动粘度变化值在
±
50mPa
·
s的范围内。2.根据权利要求1所述的水基磁流变流体，其特征在于，所述水基磁流变流体在20
‑
30℃的温度和800
‑
2000s
‑1剪切速率下的运动粘度变化值在
±
30mPa
·
s的范围内。3.根据权利要求1所述的水基磁流变流体，其特征在于，所述水基磁流变流体在20
‑
30℃的温度和800
‑
2000s
‑1剪切速率下测得的运动粘度在350
±
50mPa
·
s、优选在350
±
20mPa
·
s的范围内。4.根据权利要求2所述的水基磁流变流体，其特征在于，所述水基磁流变流体在20
‑
30℃的温度和800
‑
2000s
‑1剪切速率下测得的运动粘度在250
±
30mPa
·
s、优选在250
±
15mPa
·
s的范围内。5.根据权利要求2所述的水基磁流变流体，其特征在于，所述水基磁流变流体在25℃的工作温度时的运动粘度值选自50
‑
40...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦浩，梁燕玲，
申请(专利权)人：深圳博海新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：