【技术实现步骤摘要】
金属氧化物粒子及其制造方法、层叠体及其制造方法
[0001]本专利技术涉及金属氧化物粒子、层叠体、太阳能电池、感光体、金属氧化物粒子的制造方法以及层叠体的制造方法。
技术介绍
[0002]作为室温中在基板表面形成陶瓷涂膜(陶瓷层)的方法,已知气溶胶沉积法(AD法)。在AD法中,作为涂布陶瓷层的基材通常使用不锈钢、铁等的金属材料或玻璃,近年来正在开发使用树脂材料作为基材,在该树脂材料上形成陶瓷涂膜的技术。
[0003]树脂材料上的陶瓷涂层要求陶瓷材料对基材有足够的粘合力。此外,要求陶瓷涂膜具有与块体陶瓷的性能相匹配的强韧性。在将这种树脂材料的陶瓷涂层技术应用于工业产品时,仍然存在提高陶瓷涂层膜的粘合性和强韧性的问题。
[0004]在专利文献1中,提出了在由有机材料基板的表面上,作为中间层,设置了一次无机粒子和有机聚合物共价键合而成的有机
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无机混合部件,在该中间层上形成由无机材料构成的二次粒子的集合体层。
[0005]专利文献2提出了在上述基材和中间层之间进一步形成可以称为底涂层的应力 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种金属氧化物粒子,其特征在于:满足以下(1)~(4)条件:(1)0.7μm频带的体积比率(a)为5体积%以上且40体积%以下,(2)13μm频带的体积比率(b)为20体积%以上且45体积%以下,(3)1.3μm频带的体积比率(c)为20体积%以上且50体积%以下,(4)体积比率(a)、体积比率(b)以及体积比率(c)之和为60体积%以上且100体积%以下,在此,所述“0.7μm频带”、“13μm频带”、以及“1.3μm频带”定义如下:0.7μm频带:在0.3μm以上且小于1.2μm具有峰值的粒度分布,13μm频带:在0.3μm以上且小于20μm具有峰值的粒度分布,1.3μm频带:在0.7μm以上且小于3μm具有峰值的粒度分布,此外,各频带的体积比率(a)、体积比率(b)、以及体积比率(c)在粒度分布曲线的0.7μm、1.3μm、以及13μm附近具有峰值,进一步由将其分为三个频带的分布曲线的数值积分计算出各频带的粒子所占的存在比例而求得。2.如权利要求1所述的金属氧化物粒子,其特征在于,所述体积比率(a)和所述体积比率(c)满足以下关系式(1):体积比率(a)≤体积比率(c)
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(1)3.如权利要求1或2所述的金属氧化物粒子,其特征在于,所述金属氧化物粒子含有铜铁矿和/或钙钛矿。4.一种层叠体,其特征在于:包括基材层和金属氧化物层,所述基材层含有有机材料,所述金属氧化物层形成于所述含有有机材料的基材层上,所述金属氧化物层由权利要求1~3任意一项所述的金属氧化物粒子构成。5.如权利要求4所述的层叠体,其特...
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