【技术实现步骤摘要】
成像系统
[0001]本专利技术涉及显微镜成像
,特别涉及一种成像系统,该成像系统特别适用于宽带紫外波段的成像。
技术介绍
[0002]紫外检测显微镜在物理、化学、材料科学、生命科学等各领域具有重大的应用价值,尤其在半导体工业和光电子工业领域,深紫外检测显微镜是一种十分重要的检测装备,它可以用于硅片(或掩模版)上的光刻图形在曝光、显影、刻蚀等之后的检测,可以用于快速观测硅片(或掩模版)上光刻图形的整体效果,可以用于测量光刻图形线宽(CD)以及缺陷检测等。
[0003]由于在紫外波段可用于色差校正的材料很少,因此难以设计高性能的适用于宽带紫外波段的应用的显微镜。此外,使用大范围变焦更难校正紫外宽带光学中的色差。
[0004]因此,实有必要提供一种新的成像系统以适用于宽带紫外波段的成像。
技术实现思路
[0005]针对上述问题,本专利技术的目的在于提供一种特别适用于宽带紫外波段成像的成像系统。
[0006]为解决上述技术问题,本专利技术的实施方式提供了一种成像系统,适用于宽带紫外波段 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种成像系统,适用于宽带紫外波段成像,其特征在于,其包括折射反射透镜组、镜筒透镜组及光路折叠反射组件,所述折射反射透镜组包括折射反射组件、场镜组件及聚焦组件,所述折射反射组件将来自物体的光聚焦到所述场镜组件上以校正色差,校正色差后的光依次经所述聚焦组件、所述镜筒透镜组及所述光路折叠反射组件后在像面成像,其中,所述成像系统的放大率为M,且满足如下条件:M=F1/F2,F1为所述折射反射透镜组的焦距,F2为所述镜筒透镜组的焦距,且所述镜筒透镜组在不改变高阶色差的情况下具有变焦范围,所述光路折叠反射组件具有适应所述镜筒透镜组的变焦范围的光路距离变化范围。2.根据权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述成像系统应用于波长范围为250nm
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450nm的光的成像。3.根据权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述成像系统的畸变小于0.1%。4.根据权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述成像系统的斯特尔比大于0.9。5.根据权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述成像系统的放大倍数为50
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250。6.根据权利要求5所述的成像系统,其特征在于,所述成像系统的波长范围内的放大率变化小于0.1%。7.根据权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述成像系统的极高的远心度小于1mrad。8.根据权利要求1所述的成像系统,其特征在于,所述折射反射组件包括在其像侧面具有第一反射涂层的第一透镜以及在其物侧面具有第...
【专利技术属性】
技术研发人员:杰斯伯法尔登欧法斯盖尔德,
申请(专利权)人:瑞声光学解决方案私人有限公司,
类型:发明
国别省市:
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