含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用技术方案

本发明专利技术公开了一种含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用。所述二酰亚胺光致发光材料具有如下式中任一者所示的结构：本发明专利技术提供的含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料具有可实现荧光、延迟荧光以及室温磷光三发射的特点，磷光寿命最高可达数百毫秒，延迟荧光达到数百微秒，在有机光致发光领域有着很大的应用前景。用前景。用前景。

【技术实现步骤摘要】
含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用


[0001]本专利技术属于有机光致发光
，具体涉及一种含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料及其制法与应用。

技术介绍

[0002]近年来，随着光致发光材料的发展，延迟荧光以及磷光材料在光致发光领域有着不可替代的地位以及性能优势，纯有机室温磷光材料因为具有成本低、功能可调、细胞毒性低、加工性好等特点，其在防伪，生物成像和有机光电等领域备受关注，另外荧光、延迟荧光以及室温磷光三发射材料在防伪方面有着多层加密的效果，因此引起了研究者们的极大关注和研究兴趣。传统的荧光材料仅有几纳秒的荧光寿命，而延迟荧光材料的寿命可达到微秒级别，有利于改善其在有机光致发光领域的应用。目前较多的磷光和延迟荧光材料是通过掺杂金属离子来实现光致发光的，但往往促进发光的金属配合物是贵重金属，不仅价格昂贵而且具有生物毒性，严重阻碍了荧光磷光材料在生物成像以及有机光电领域的发展；而且现有的酰亚胺结构的单体磷光以及延迟荧光的寿命短以及量子效率低等问题严重限制了其发展。因此亟需一种纯有机、低毒性的具有超长室温磷光、荧光以及延迟荧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料，其特征在于，所述二酰亚胺光致发光材料具有如式(I)
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式(IV)中任一者所示的结构：其中，R独立地选自下式所示结构的任一者或两者以上的组合：其中，*为基团的连接点。2.权利要求1所述的含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料的制备方法，其特征在于包括：使包含卤代苯酐、胺类单体和第一溶剂的第一混合反应体系于110℃～120℃进行酰亚胺反应12～24h，制得卤代邻苯酰亚胺中间体化合物；以及，使包含所述卤代邻苯酰亚胺中间体化合物、降冰片二烯、无机碱、催化剂和第二溶剂的第二混合体系于130℃～150℃反应72
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120h，制得含自旋禁止系统的二酰亚胺光致发光材料。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述卤代苯酐包括溴代苯酐、氯代苯酐、碘代苯酐中的任意一种或两种以上的组合，优选为溴代苯酐；和/或，所述胺类单体选自下式所示结构的任一者或两者以上的组合：和/或，所述第一溶剂包括乙酸、甲酸、丙酸中的任意一种或两种以上的组合，优选为乙酸。4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述无机碱包括碳酸钾、碳酸钠、碳酸
铯、碳酸钙、碳酸镁中的任意一种或两种以上的组合，优选为碳酸铯；和/或，所述催化剂包括醋酸钯、三(二亚苄基丙酮)二钯、四(三苯基膦)钯中的任意一种或两种以上的组合及三苯基磷；优选的，所述催化剂包括醋酸钯及三苯基磷；和/或，所述第二溶剂包括甲苯和/或二氧六环...

【专利技术属性】
技术研发人员：阎敬灵，徐远振，张梦茹，王震，
申请(专利权)人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所，
类型：发明
国别省市：