一种质谱离子源自动清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种质谱离子源自动清洗装置，包括微片激光器模组、调节支架和XY二维运动平台，采用了大功率小体积的微片激光器模组，激光器模组首先固定在调整支架上，再将调整支架安装在XY二维运动平台上，在平台控制程序的操控下，能对离子源的引出电极，按照预设的轨迹途径进行自动扫描清洁，除去附着在电极上的污染物，很好地解决了因为离子源污染造成灵敏度下降的问题；而且本实用新型专利技术方案结构简单，可靠性高，并可以在仪器不停机和不拆离子源电极的情况下完成清洗工作。源电极的情况下完成清洗工作。源电极的情况下完成清洗工作。

【技术实现步骤摘要】
一种质谱离子源自动清洗装置


[0001]本技术涉及质谱仪
，特别是涉及一种质谱离子源自动清洗装置。

技术介绍

[0002]质谱仪是利用电磁学原理把离子依据质荷比不同进行分离，进而测量物质的质量与含量的科学仪器。基质辅助激光解析电离飞行时间质谱仪(MALDI
‑
TOFMS)是质谱仪的一个分支，能够快速准确的同时对多种样品进行分析与鉴定。通常的流程是：首先样品与基质在靶板上的圆形靶点中央混合，干燥后形成共结晶；然后将靶板送入基质辅助激光解析电离飞行时间质谱仪(MALDI
‑
TOFMS)中。MALDI
‑
TOFMS的离子源由靶板电极、引出电极和接地电极组成。在质谱采集谱图之前通常靶板电极和引出电极施加有相同的电压。当脉冲激光器照射到靶板上的样品结晶体，会将中性的样品分子电离成离子；在激光器照射的同时，需要在靶板上方的引出电极施加一个脉冲电压，这样就能离子引入飞行时间质谱分析器，最后离子打到探测器上产生电信号形成最后的质谱谱图。
[0003]由于样品与基质的结晶中存在大量的基质小分子(本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种质谱离子源自动清洗装置，其特征在于：包括微片激光器模组，所述微片激光器模组用于对电极上的污染物进行自动扫描清洁；以及调节支架，所述微片激光器模组安装在所述调节支架上，且所述微片激光器模组在调节支架上的位置可调；以及XY二维运动平台，所述调节支架安装在所述XY二维运动平台上，所述XY二维运动平台用于带动所述调节支架移动从而带动所述微片激光器模组进行位移；所述调节支架在所述XY二维运动平台上的位置可调。2.根据权利要求1所述的质谱离子源自动清洗装置，其特征在于：所述微片激光器模组采用将半导体泵浦模块和激光晶体进行一体化封装的激光器。3.根据权利要求1所述的质谱离子源自动清洗装置，其特征在于：所述调节支架的底部设置有多个槽孔，根据所述微片激光器模组的位置需要，选择不同的所述槽孔与XY二维运动平台进...

【专利技术属性】
技术研发人员：何浩睿，张贤春，
申请(专利权)人：厦门元谱生物科技有限公司，
类型：新型
国别省市：