液体供应单元、用于处理基板的装置及处理基板的方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及液体供应单元、用于处理基板的装置及处理基板的方法。公开了一种处理基板的方法，该方法包括：在使处理液通过联接到罐的壳体的循环管线而在该壳体中循环的情况下，通过利用安装在该循环管线中的加热器单元加热处理液来调节处理液的温度；在正常模式下通过向基板供应温度受控的处理液来处理该基板；以及在紧急模式下通过连接到该循环管线的排出管线将该循环管线中的处理液排放到该循环管线的外部。线的外部。线的外部。

【技术实现步骤摘要】
液体供应单元、用于处理基板的装置及处理基板的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年12月14日提交韩国知识产权局的、申请号为10
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2021
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0178482的韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部内容通过引用结合在本申请中。


[0003]本专利技术涉及一种基板处理方法和一种基板处理装置，更特别地涉及一种用于向基板供应高温液体的液体供应单元、以及一种基板处理装置和一种基板处理方法。

技术介绍

[0004]半导体工艺包括清洗基板上的薄膜、杂质和颗粒等的工艺。这些工艺是通过将基板放置在旋转头上使得图案侧面向上方或下方、在使旋转头旋转的情况下向基板供应处理液、然后使晶圆干燥来进行的。
[0005]近年来，诸如水性磷酸溶液等的高温液体作为处理液来使用。例如，水性磷酸溶液包含磷酸和水。液体供应单元具有供应罐、液体供应管线和喷嘴。调节供应罐，使得水性磷酸溶液的温度和磷酸的浓度满足工艺条件。具有调节后的浓度和温度的水性磷酸溶液从供应罐通过液体供应管线供应到本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：杯状物，所述杯状物中设置有处理空间；支承单元，所述支承单元用于在所述处理空间中支承所述基板且旋转所述基板；喷嘴，所述喷嘴用于向所述基板供应处理液；以及液体供应单元，所述液体供应单元用于向所述喷嘴供应所述处理液，其中，所述液体供应单元包括用于储存所述处理液的罐，并且所述罐包括：壳体，所述壳体具有用于在其中储存所述处理液的空间；循环管线，所述循环管线联接到所述壳体以使所述处理液在所述壳体中循环；加热器单元，所述加热器单元安装在所述循环管线中以加热所述处理液；以及排出管线，所述排出管线用于排放残留在所述循环管线中的所述处理液，并且所述排出管线包括安装的排出阀。2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述液体供应单元还包括冷却气体供应管线，所述冷却气体供应管线向所述加热器单元供应冷却气体，并且在所述冷却气体供应管线中安装有冷却阀。3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述冷却气体供应管线联接到所述循环管线。4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述冷却气体供应管线联接到所述加热器单元的下游的所述循环管线。5.根据权利要求4所述的装置，其中，所述冷却气体供应管线连接到所述循环管线以沿朝向所述加热器单元的方向供应所述冷却气体。6.根据权利要求2所述的装置，其中，所述冷却气体供应管线联接到所述壳体。7.根据权利要求1至6中任一项所述的装置，其中，在所述循环管线中安装有泵单元，并且所述排出管线连接到所述泵单元与所述加热器单元之间的所述循环管线。8.根据权利要求2至6中任一项所述的装置，其中，所述循环管线包括：第一管线，所述第一管线的纵向方向设置在竖直方向上；第二管线，所述第二管线从所述第一管线延伸并且连接到所述壳体，以便设置在所述第一管线的上游；以及第三管线，所述第三管线从所述第一管线延伸并且联接到所述壳体，以便设置在所述第一管线的下游，并且在所述第一管线中安装有泵单元，所述冷却气体供应管线连接到所述第三管线，并且所述排出管线连接到所述第一管线。9.根据权利要求1所述的装置，其中，所述冷却气体供应管线联接到所述壳体，并且用于排放内部气氛的排气管线联接到所述壳体。10.根据权利要求1至6中任一项所述的装置，所述装置还包括：控制器，所述控制器用于控制所述液体供应单元，其中，所述控制器控制所述液体供应单元，以在正常模式下在使所述处理液在所述排出阀关闭的状态下通过所述循环管线而在所述壳体中循环的情况下，利用所述加热器单元
加热所述处理液，以及在紧急模式下将所述排出阀的状态改变为打开状态以将残留在所述循环管线中的所述处理液排放至所述排出管线，并且在所述紧急模式下，停止所述泵单元的运行。11.根据权利要求2至6中任一项所述的装置，所述装置还包括：控制器，所述控制器用于控制所述液体供应单元，其中，所述控制器控制所述液体供应单元，以在正常模式下在使所述处理液在所述排出阀关闭的状态下通过所述循环管线而在所述壳体中循环的情况下，利用所述加热...

【专利技术属性】
技术研发人员：全人类，李茂贤，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：