一种基于随机裂纹模板的光电性能预测方法及系统技术方案

本发明专利技术公开一种基于随机裂纹模板的光电性能预测方法及系统，该方法首先通过对显微图像进行格式转换直接建模仿真，得到电磁屏蔽性能仿真结果；然后根据孔径单元面积大小、长轴尺寸和短轴尺寸，进行图形数据迭代拟合，并根据待制备的金属网栅透明导电薄膜的参数，进行全波电磁仿真，得到电磁屏蔽性能仿真结果；最后通过对两次仿真结果进行求取平均值得到预测的电磁屏蔽性能。该方法根据随机裂纹模板的图案和尺寸分布能快速预测出基于该裂纹模板制备的金属网栅透明导电薄膜的透光和电磁屏蔽性能，能大大提高制备得到目标光电性能的金属网栅透明导电薄膜的效率，充分发挥出基于随机裂纹模板法制备优异性能金属网栅透明导电薄膜的高性价比优势。薄膜的高性价比优势。薄膜的高性价比优势。

【技术实现步骤摘要】
一种基于随机裂纹模板的光电性能预测方法及系统


[0001]本专利技术涉及金属网栅透明导电薄膜
，尤其是一种基于随机裂纹模板的光电性能预测方法及系统。

技术介绍

[0002]目前金属网栅透明导电薄膜的制备主要是通过光刻法等工艺制备光刻掩膜板后进行金属沉积和去胶以后得到相应的金属网栅透明导电薄膜。由于需要制备光刻掩膜板，技术门槛高，工艺复杂带来的相应制备成本也高。而近年来出现的基于随机裂纹模板法制备的金属网栅透明导电薄膜技术门槛低，裂纹胶原料廉价以及工艺简单使得裂纹模板的制备成本大大降低，具有良好的性价比而备受关注。
[0003]然而基于随机裂纹模板制备的金属网栅透明导电薄膜图案是随机分布，无法像光刻掩模板根据已知的图案分布和尺寸大小事先比较准确预测出其透光率和电磁屏蔽性能。由于不能有效预测基于随机裂纹模板制备的金属网栅透明导电薄膜的透光和电磁屏蔽性能，只能在制备金属网栅透明导电薄膜实物后通过实测才能得到相应的光电性能，过程费时费力，这样制备目标光电性能的金属网栅透明导电薄膜的效率较低。

技术实现思路
/>[0004]本专本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于随机裂纹模板的光电性能预测方法，其特征在于，包括以下步骤：获取随机裂纹模板的显微图像以及显微图像中各个孔径单元面积大小、长轴尺寸和短轴尺寸；对所述显微图像进行格式转换得到参量模型，根据所述参量模型进行全波电磁仿真，得到相应的电磁屏蔽性能仿真结果Ⅰ；根据所述显微图像中各个孔径单元面积大小、长轴尺寸和短轴尺寸，进行数据统计，得到孔径单元面积、长轴和短轴的初始值；选定多边形图形作为拟合图形，利用所述孔径单元面积、长轴和短轴的初始值进行图形数据迭代拟合，直至得到的孔径单元面积、长轴和短轴的数值满足设定条件，输出孔径单元面积、长轴和短轴的数值；根据输出的孔径单元面积、长轴和短轴的数值，以及待制备的金属网栅透明导电薄膜的参数，进行全波电磁仿真，得到相应的电磁屏蔽性能仿真结果Ⅱ；求取所述电磁屏蔽性能仿真结果Ⅰ和电磁屏蔽性能仿真结果Ⅱ的平均值，得到预测的电磁屏蔽性能。2.如权利要求1所述的光电性能预测方法，其特征在于，对所述显微图像进行格式转换得到参量模型，包括：将所述显微图像转换成二维CAD格式文件，再将二维CAD文件格式转换成全波电磁仿真软件的参量模型文件。3.如权利要求1所述的光电性能预测方法，其特征在于，根据所述显微图像中各个孔径单元面积大小、长轴尺寸和短轴尺寸，进行数据统计，得到孔径单元面积、长轴和短轴的初始值，包括：根据所述显微图像中各个孔径单元面积大小、长轴尺寸和短轴尺寸，进行数据统计，并做出相应的曲线分布图，得到孔径单元面积、长轴和短轴的数据集中分布区域；求取所述数据集中分布区域的平均值，得到孔径单元面积、长轴和短轴的初始值。4.如权利要求1所述的光电性能预测方法，其特征在于，选定多边形图形作为拟合图形，利用所述孔径单元面积、长轴和短轴的初始值进行图形数据迭代拟合，直至得到的孔径单元面积、长轴和短轴的数值满足设定条件，包括：选定多边形图形作为拟合图形，设面积为S_area，长轴为l_long，短轴为l_short；其中，面积为孔径单元所包含的面积大小，长轴指孔径单元中穿过图形中心的两个最长的顶点之间的距离，短轴指孔径单元中穿过图形中心的两个最短的顶点之间的距离；利用所述孔径单元面积、长轴和短轴的初始值进行图形...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖敦微，郑月军，陈强，付云起，丁亮，高冕，马燕利，隆岩，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：