本发明专利技术涉及一种大尺寸基板精密清洗工艺及设备，包括第一输送机构、角度调节机构、第二输送机构、紫外线清洗设备、毛刷清洗设备、超高压微射流清洗设备、二流体清洗设备、超纯水清洗设备、双刃风刀设备和第三输送机构；沿基板的输送方向依次设置有第一输送机构、第二输送机构和第三输送机构，第一输送机构的侧边以及第三输送机构的侧边分别设有角度调节机构，使第一输送机构/第三输送机构的输送面的角度可调整为与第二输送机构的输送面的倾斜角度一致；紫外线清洗设备、毛刷清洗设备、超高压微射流清洗设备、二流体清洗设备、超纯水清洗设备和双刃风刀设备沿基板的输送方向依次设置于第二输送机构上，能够对基板进行精密的清洗作业。业。业。
【技术实现步骤摘要】
一种大尺寸基板精密清洗工艺及设备
[0001]本专利技术涉及基板清洗
，尤其涉及一种大尺寸基板精密清洗工艺及设备。
技术介绍
[0002]玻璃基板是一种表面极其平整的薄玻璃片，是平板显示产业的关键基础材料之一，大尺寸基板(前端制程2600mm*2250mm*0.4mm玻璃基板)要达到超洁净清洗后送往下一制程进行涂布作业，清洗制程就需要将基板表面有机化合物、颗粒、微颗粒清洗干净，否则涂布(下一道制程)完成后的基板将会存在亮光，脏污等现象。
[0003]目前市面上的大尺寸基板的清洗设备存在以下缺点：
[0004]缺点1:无法有效清洁表明有机化合物。
[0005]缺点2:无法有效清洁微颗粒(5um以下)。
技术实现思路
[0006](一)要解决的技术问题
[0007]为了解决现有技术的上述问题，本专利技术提供一种大尺寸基板精密清洗工艺及设备，能够实现有效、精密地清洗大尺寸基板。
[0008](二)技术方案
[0009]为了达到上述目的，本专利技术采用的一种技术方案包括：种大尺寸基板精密清洗工艺，包括：
[0010]S1、第一输送机构呈水平状态承接基板后，通过角度调节机构将第一输送机构的输送面由水平状态调整为倾斜状态，使其倾斜角度与后方承接的第二输送机构的输送面的倾斜角度相一致；
[0011]S2、第二输送机构承接输送过来的基板，在第二输送机构输送基板的过程中，依次执行以下清洗步骤：
[0012]S21、使用紫外线清洗设备向基板表面照射极紫外线，通过极紫外线去除粘附在基板表面上的有机物质；
[0013]S22、使用毛刷清洗设备清洗基板表面的颗粒物；
[0014]S23、使用超高压微射流清洗设备对基板表面进行高压喷淋，清洗基板表面的小颗粒物；
[0015]S24、通过二流体清洗设备对基板表面喷射由高压空气和超纯水混合形成的水气混合流体，冲洗残留在基板表面的剩余颗粒物；
[0016]S25、通过超纯水清洗设备对基板表面进行喷射，进一步冲洗残留在基板表面的剩余颗粒物，并在基板表面形成水膜；
[0017]S26、通过输送面上下两侧的双刃风刀设备对基板表面进行吹干作业；
[0018]S3、第三输送机构承接输送来的基板，此时第三输送机构由角度调节机构调整的输送面的倾斜状态与第二输送机构相一致，承接完毕后由角度调节机构将第三输送机构的
输送面调整为水平状态传送至下游设备。
[0019]本专利技术采用的另一种技术方案包括：包括第一输送机构、角度调节机构、第二输送机构、紫外线清洗设备、毛刷清洗设备、超高压微射流清洗设备、二流体清洗设备、超纯水清洗设备、双刃风刀设备和第三输送机构；
[0020]沿基板的输送方向依次设置有所述第一输送机构、第二输送机构和第三输送机构，所述第一输送机构的侧边以及所述第三输送机构的侧边分别设有所述角度调节机构，使第一输送机构/第三输送机构的输送面的角度可调整为与第二输送机构的输送面的倾斜角度一致；
[0021]所述紫外线清洗设备、毛刷清洗设备、超高压微射流清洗设备、二流体清洗设备、超纯水清洗设备和双刃风刀设备沿基板的输送方向依次设置于所述第二输送机构上。
[0022](三)有益效果
[0023]本专利技术的有益效果是：
[0024]1、第二输送机构的输送面进行了倾斜设计，能够引导大尺寸基板在清洗过程中被处理下来的异物的水流流动的方向，形成固定的冲刷水流，减少槽体内绕流影响清洗品质，确保清洗效果；
[0025]2、为了保证输送精度，确保第二输送机构在接收基板和送走基板的过程中，前后输送基板的倾斜角度保持统一，通过角度调节机构对第一输送机构和第三输送机构进行水平状态和倾斜状态的切换调节，以满足其上、下游基板运输角度的需求，实现设备内部基板自动转运并精准定位，进而保证基板优异的传送稳定性。
[0026]3、通过紫外线清洗设备、毛刷清洗设备、超高压微射流清洗、二流体清洗设备、超纯水清洗设备以及双刃风刀设备对基板进行精密的清洗作业，能够将基板表面有机化合物、颗粒、微颗粒都清洗干净。
附图说明
[0027]图1为本专利技术的一种大尺寸基板精密清洗工艺的流程图；
[0028]图2为本专利技术的实施例一中大尺寸基板精密清洗工艺的细节流程图；
[0029]图3为本专利技术的一种大尺寸基板精密清洗的清洗设备的主视图；
[0030]图4为本专利技术的一种大尺寸基板精密清洗的清洗设备的俯视图；
[0031]图5为本专利技术的角度调节机构的结构示意图；
[0032]图6为本专利技术的第一/第二暂存设备的结构示意图；
[0033]图7为图6中P部分的细节图；
[0034]图8为本专利技术的紫外线清洗设备的结构示意图；
[0035]图9为图8中Q部分的细节图；
[0036]图10为本专利技术的紫外线清洗设备的主视图；
[0037]图11为本专利技术的二流体清洗设备的第一视角下的结构示意图；
[0038]图12为本专利技术的二流体清洗设备的第二视角下的结构示意图；
[0039]图13为本专利技术的二流体清洗设备的水气混合组件中高压空气管上的快速接头与水管上的高压空气接入接头未连接状态的结构示意图；
[0040]图14为本专利技术的二流体清洗设备中的混合喷射接头的细节结构示意图；
[0041]图15为本专利技术的二流体清洗设备中的高压空气供给接头与快速接头的细节结构示意图；
[0042]图16为本专利技术的双刃风刀设备的剖视图
[0043]图17为本专利技术的超高压微射流清洗设备的结构示意图；
[0044]图18为本专利技术的毛刷清洗设备的结构示意图；
[0045]【附图标记说明】
[0046]A、第一输送机构；
[0047]B、第二输送机构；EUV、紫外清洗区域；SWR1、第一清洗区域；SWR2、第二清洗区域；SWR3、第三清洗区域；SWR4、第四清洗区域；A/K、吹干区域；
[0048]C、第三输送机构；
[0049]BUF1、第一暂存设备；BUF2、第二暂存设备；
[0050]E、角度调节机构；e1、立架；e2、横架；e3、升降机构；e4、支撑组件；
[0051]f1、Z轴电机；f2、暂存组件；f3、输送组件；f31、滚轴；f4、前挡定位件；
[0052]G、紫外线清洗设备；g1、罩体组件；g11、顶罩；g12、底罩；g2、排气口；g3、升降组件；g31、连接件；g32、抵持位；g33、横板；g34、摇杆；g35、气缸；g36、套筒；g37、辅助轴；
[0053]H、二流体清洗设备；h1、水气混合组件；h2、高压空气管；h3、水管；h4、高压空气供给接头；h5、纯水供给口；h6、L型安装固定片；h7、快速接头；h8、混合喷射接头；h9、高压空气接入接头；h10、二流体喷嘴。
[0054]I、双刃风刀设备；
[00本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种大尺寸基板精密清洗工艺，其特征在于，包括：S1、第一输送机构呈水平状态承接基板后，通过角度调节机构将第一输送机构的输送面由水平状态调整为倾斜状态，使其倾斜角度与后方承接的第二输送机构的输送面的倾斜角度相一致；S2、第二输送机构承接输送过来的基板，在第二输送机构输送基板的过程中，依次执行以下清洗步骤：S21、使用紫外线清洗设备向基板表面照射极紫外线，通过极紫外线去除粘附在基板表面上的有机物质；S22、使用毛刷清洗设备清洗基板表面的颗粒物；S23、使用超高压微射流清洗设备对基板表面进行高压喷淋，清洗基板表面的小颗粒物；S24、通过二流体清洗设备对基板表面喷射由高压空气和超纯水混合形成的水气混合流体，冲洗残留在基板表面的剩余颗粒物；S25、通过超纯水清洗设备对基板表面进行喷射，进一步冲洗残留在基板表面的剩余颗粒物，并在基板表面形成水膜；S26、通过输送面上下两侧的双刃风刀设备对基板表面进行吹干作业；S3、第三输送机构承接输送来的基板，此时第三输送机构由角度调节机构调整的输送面的倾斜状态与第二输送机构相一致，承接完毕后由角度调节机构将第三输送机构的输送面调整为水平状态传送至下游设备。2.根据权利要求1所述的大尺寸基板精密清洗工艺，其特征在于，所述S1之后包括：S11、第一输送机构将基板输送至第一暂存设备，所述第一暂存设备暂存基板的倾斜角度与所述第二输送机构的输送面的倾斜角度一致，之后第一暂存设备将人检合格的基板输送至第二输送机构；所述S26之后还包括：S27、第二输送机构将基板输送至第二暂存设备，所述第二暂存设备暂存基板的倾斜角度与所述第二输送机构的输送面的倾斜角度一致，之后第二暂存设备将人检合格的基板输送至第三输送机构。3.根据权利要求1所述的大尺寸基板精密清洗工艺，其特征在于，所述S21包括：所述紫外线清洗设备在作业时仅留有供基板运输通过的通道，使得所述紫外线清洗设备呈半封闭结构，在所述紫外线清洗设备内设置排气口，通过所述排气口和与其相连接的吸气设备将紫外线与空气中氧气分子产生的臭氧排出，并基于所述紫外线清洗设备的半封闭结构将极紫外线照射范围控制在紫外线清洗设备内部。4.根据权利要求1所述的大尺寸基板精密清洗工艺，其特征在于，所述S26包括：通过输送面上下两侧的双刃风刀设备对基板表面进行吹干作业，所述双刃风刀设备的前刃为倾斜吹气，吹走基板表面大量水膜，所述双刃风刀设备的后刃与基板垂直，吹干基板表面剩余的少量水膜。5.一种实施权利要求1的方法的大尺寸基板精密清洗的清洗设备，其特征在于，包括第一输送机构、角度调节机构、第二输送机...
【专利技术属性】
技术研发人员：廖嵩缐，张世意，林金灵，罗华泳，谢敏峰，王贞伙，
申请(专利权)人：福建晟哲自动化科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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