【技术实现步骤摘要】
一种神经微电极及其制备方法
[0001]本专利技术涉及神经微电极制备领域，特别是涉及一种神经微电极及其制备方法。
技术介绍
[0002]神经微电极是一种用来记录神经活动状态的神经电信号采集器件，广泛应用于探究大脑的功能结构，构建神经环路图谱。当神经微电极被放置在神经元细胞附近时，可以探测到因神经电活动引发的细胞外部附近的电势的变化，从而可以在不伤害神经细胞的前提下进行神经元动作电位或局部场电位的记录。同样也可以通过电极电位的改变，诱发神经元产生动作电位。
[0003]目前的神经微电极一般采用三明治（上绝缘层
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传导层
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下绝缘层）结构，传导层包括电信号采集部和信号传递部。石墨烯由于具有良好的导电性能和界面特性，可以作为神经微电极的信号采集部，采集脑电信号。相关技术中在制备神经微电极时，在下绝缘层上制备传导层，在传导层上制备上绝缘层，然后在上绝缘层上涂覆光刻胶并进行图形化处理，在采用刻蚀工艺刻蚀上绝缘层，以将石墨烯中的电极记录点暴露出来。采用刻蚀工艺将石墨烯中的电极记录点暴露出来时，...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种神经微电极的制备方法，其特征在于，包括：获得神经微电极的前驱结构体；所述前驱结构体包括衬底、第一绝缘层、信号传递部和电极记录点支撑体，所述第一绝缘层和所述信号传递部依次层叠在所述衬底的上表面，所述电极记录点支撑体嵌于所述第一绝缘层未被所述信号传递部覆盖的区域，且所述电极记录点支撑体的上表面外露；在所述前驱结构体的上表面形成待处理石墨烯，得到处理后结构体；所述待处理石墨烯覆盖所述电极记录点支撑体；在所述处理后结构体的上表面形成图形化光刻胶；所述电极记录点支撑体上的所述待处理石墨烯在所述图形化光刻胶的覆盖区域内；去除未被所述图形化光刻胶覆盖的所述待处理石墨烯形成石墨烯信号采集部，并去除所述图形化光刻胶，得到再处理结构体；在所述再处理结构体的上表面形成第二绝缘层，并露出局部信号传递部；腐蚀去除所述电极记录点支撑体并分离所述衬底，得到神经微电极。2.如权利要求1所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，在所述前驱结构体的上表面形成待处理石墨烯包括：利用水转移法将所述待处理石墨烯转移至所述前驱结构体的上表面。3.如权利要求1所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，在所述再处理结构体的上表面形成第二绝缘层包括：在所述再处理结构体的上表面形成柔性绝缘层。4.如权利要求3所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，在所述再处理结构体的上表面形成柔性绝缘层包括：在所述再处理结构体的上表面旋涂聚酰亚胺液体；固化所述聚酰亚胺液体，形成聚酰亚胺绝缘层。5.如权利要求4所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，固化所述聚酰亚胺液体包括：利用阶梯型升高的温度对所述聚酰亚胺液体进行固化。6.如权利要求3所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，在所述再处理结构体的上表面形成柔性绝缘层包括：在所述再处理结构体的上表面沉积派瑞林绝缘层。7.如权利要求6所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，在所述再处理结构体的上表面沉积派瑞林绝缘层包括：利用化学气相沉积方式在所述再处理结构体的上表面沉积派瑞林绝缘层。8.如权利要求1所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，在所述前驱结构体的上表面形成待处理石墨烯之前，还包括：清洁所述前驱结构体，去除所述前驱结构体表面的脏污。9.如权利要求8所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，清洁所述前驱结构体包括：依次使用丙酮、无水乙醇和去离子水清洗所述前驱结构体，并干燥所述前驱结构体。10.如权利要求1所述的神经微电极的制备方法，其特征在于，露出局部信号传递部包
括：在所述第二绝缘层的上表面涂覆光刻胶；对所述光刻胶进行套刻和图形化处理，形成图形化光刻胶；以所述图形化光刻胶作为掩膜，利用干法刻蚀方式刻蚀所述第二绝缘层，形成第一通孔，以露出局部信号传递部；在所述第二绝缘层的上表面再次涂覆光刻胶；对再次涂覆的所述光刻胶进行套刻图形化处理，再次形成图形化光刻胶；以再次形成的所述图形化光刻胶作为掩膜，利用...
【专利技术属性】
技术研发人员：李亚民，苏康，邹晓峰，李拓，
申请(专利权)人：苏州浪潮智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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