静电吸盘制造技术

本发明专利技术涉及一种静电吸盘，本发明专利技术的静电吸盘，包括：基底基材，静电吸盘板，作为固定在所述基底基材上的静电吸盘板，内部具有电极，以及电极部，位于所述基底基材的孔，以向所述电极供给电力；所述电极部可包括：壳体，插入所述基底基材的孔，电极棒，贯穿所述壳体内壁，并且一侧端部与所述电极接触，以及弹性支撑体，在所述壳体内壁的多个点处支撑所述电极棒。所述壳体内壁的多个点处支撑所述电极棒。所述壳体内壁的多个点处支撑所述电极棒。

【技术实现步骤摘要】
静电吸盘


[0001]本专利技术涉及一种静电吸盘，尤其，涉及一种静电吸盘，其具有用于提高高温耐久性的电极部的端子连接结构。

技术介绍

[0002]半导体器件或显示器件是通过化学气相沉积(Chemical vapor deposition，CVD)工艺、物理气相沉积(Physical vapor deposition，PVD)工艺、离子注入工艺(Ion implantation)、蚀刻工艺(Etch process)等的半导体工艺在玻璃基板、柔性基板或半导体晶片基板等上堆叠和图案化包括介电层和金属层的多个薄膜层来制造。用于执行这种半导体工艺的腔室装置设置有静电吸盘(Electro Static Chuck，ESC)，所述静电吸盘用于支撑如玻璃基板、柔性基板和半导体晶片基板等各种基板，尤其通过使用静电力来固定上述基板或进行等离子处理。
[0003]图1A示出一般的静电吸盘的电极部的结构。
[0004]参照图1A，在一般的静电吸盘中，上部板1和下部板2通过如硅酮或环氧基的粘合剂5粘合，并且为了向埋设在上部板1中的电极10供电，电极棒2本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种静电吸盘，其中，包括：基底基材，静电吸盘板，作为固定在所述基底基材上的静电吸盘板，内部具有电极，以及电极部，位于所述基底基材的孔，以向所述电极供给电力；所述电极部，包括：壳体，插入所述基底基材的孔，电极棒，贯穿所述壳体内壁，并且一侧端部与所述电极接触，以及弹性支撑体，在所述壳体内壁以多个点支撑所述电极棒；所述弹性支撑体沿所述壳体内壁的圆周以多个点向所述电极棒施加向中心方向的弹力。2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其中，所述电极部包括支撑部，在所述壳体内壁作为所述弹性支撑体容纳多个球弹簧；所述支撑部包括多个球弹簧，所述球弹簧沿圆周设置，并向中心方向施加弹力。3.根据权利要求2所述的静电吸盘，其中，所述电极棒包括接触部，通过螺纹连接而结合到...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵美娜，朴重现，
申请(专利权)人：美科陶瓷科技有限公司，
类型：发明
国别省市：