一种基于二碲化铂的可饱和吸收体及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种基于二碲化铂的可饱和吸收体及其制备方法和应用。该制备方法包括如下步骤：S1.在衬底上沉积铂金属膜，得铂金属膜

【技术实现步骤摘要】
一种基于二碲化铂的可饱和吸收体及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及超快光纤激光器
，更具体地，涉及一种基于二碲化铂的可饱和吸收体及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]超快脉冲激光器自出现以来因其脉冲宽度窄、峰值功率高、结构紧凑简单、环境稳定性高、体积小等优点，引起了各界学者极大的研究兴趣。近年来，在生物医学治疗、精细材料加工、光谱学、科研应用等领域都有广泛的应用。可饱和吸收体作为一种调制器件，应用于超快脉冲光纤激光器中，连续波经过可饱和吸收体后可以通过调制得到锁模脉冲激光输出。因此，可饱和吸收体是得到锁模脉冲的关键。
[0003]近年来，已开发了许多不同的材料用作可饱和吸收体用于被动锁模光纤激光器。其中，半导体可饱和吸收镜(SESAM)因其高稳定性是目前应用最成熟的可饱和吸收体，但仍存在高的制造成本和复杂的制造工艺等缺点。因此，有必要寻找一种具有更好性能的可饱和吸收体材料。最近，二维材料由其独特的层状结构和新颖的物理性质受到了广泛的关注。研究发现二维材料具有良好的可饱和吸收性能，包括石墨烯、黑磷和过渡金属硫化物等，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于二碲化铂的可饱和吸收体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1.在衬底上沉积铂金属膜，得铂金属膜
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衬底；S2.将铂金属膜
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衬底置于420～500℃的碲蒸汽中，保温50～60min，得二碲化铂薄膜
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衬底；S3.从二碲化铂薄膜
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衬底中剥离二碲化铂薄膜，将二碲化铂薄膜转移到拉锥光纤的锥区，即得所述基于二碲化铂的可饱和吸收体；步骤S1中所述铂金属膜的厚度为5～10nm。2.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，步骤S1中所述沉积通过磁控溅射的方式实现。3.根据权利要求2所述制备方法，其特征在于，所述磁控溅射的条件为：溅射气压为1.0～1.5Pa，Ar流量为50～60sccm，射频功率为90～150W，衬底加热至100～150℃，沉积时间250～500s。4.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，步骤S2的具体过程为：将铂金属膜
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衬底放置在石英管的中游，碲粉放置于石英管的上游，在保护气体氛围下，升温至420～500℃，碲粉转变为碲蒸汽，保温50～60min，保温期间，以55～65SCCM的流速将碲蒸汽输送到石英管的中游，发生化学气相沉积反应，得二碲化铂薄膜
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衬底。5.根据权利要求1所述制备...

【专利技术属性】
技术研发人员：陶丽丽，陈静娴，谢钊儒，黄杰，招瑜，
申请(专利权)人：广东工业大学，
类型：发明
国别省市：