一种清洗设备的控制方法、装置及存储介质制造方法及图纸

技术编号:37801897 阅读:21 留言:0更新日期:2023-06-09 09:31
本发明专利技术涉及电器设备技术领域,具体涉及一种清洗设备的控制方法、装置及存储介质。其中,清洗设备包括消毒水发生装置、干燥装置、洗涤组件和内胆,消毒水发生装置包括储水结构、进气通道和多孔结构,多孔结构设置在储水结构内,多孔结构与进气通道的出气端连接,消毒水发生装置的清洁方法包括:根据清洗设备完成消毒洗模式后,控制储水结构再次进水并与干燥装置配合排出多孔结构内的残留液;控制消毒水发生装置内的残留液通过内胆排出。因此,本发明专利技术的清洗设备能够在消毒水发生装置制备消毒水之后对消毒水发生装置的内壁和多孔结构进行清洗,克服现有技术中的清洗设备的消毒水发生装置内的消毒液容易残留的缺陷,其制备出的消毒水浓度更加准确。毒水浓度更加准确。毒水浓度更加准确。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗设备的控制方法、装置及存储介质


[0001]本专利技术涉及电器设备
,具体涉及一种清洗设备的控制方法、装置及存储介质。

技术介绍

[0002]随着经济的发展和生活水平的不断提高,人们越来越追求更高品质的自由生活。而清洗设备作为一款可解放双手的产品,正被越来越多的家庭所青睐。
[0003]现有技术中的具有消毒功能的清洗设备内设置有消毒水发生装置,消毒水发生装置能够通过电极电解特定介质产生具有消毒效果的离子团或离子溶液。然而,由于消毒水发生装置与清洗设备的内腔不在同一空间内,在清洗设备自清洁过程中,消毒水发生装置无法得到清洁,容易有消毒水残留,导致下次制备的消毒水的浓度不准确。

技术实现思路

[0004]因此,本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的清洗设备内的消毒水发生装置无法得到清洁的缺陷,从而提供一种清洗设备的控制方法、装置及存储介质,能够对清洗设备的消毒水发生装置进行充分地清洁,避免消毒水发生装置内有水残留滋生细菌,或者是消毒水残留,导致下次制备的消毒水的浓度不准确,无法对餐具进行较为彻底的清洁。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗设备的控制方法,其特征在于,所述清洗设备包括消毒水发生装置(a)、干燥装置、洗涤组件和内胆(1),所述消毒水发生装置(a)包括储水结构(a1)、进气通道(a6)和多孔结构(a8),所述多孔结构(a8)设置在所述储水结构(a1)内,所述多孔结构(a8)与所述进气通道(a6)的出气端连接,所述消毒水发生装置(a)的清洁方法包括:根据所述清洗设备完成消毒洗模式后,控制所述储水结构(a1)再次进水并与所述干燥装置配合排出所述多孔结构(a8)内的残留液;控制所述消毒水发生装置(a)内的残留液通过所述内胆(1)排出。2.根据权利要求1所述的清洗设备的控制方法,其特征在于,所述根据所述清洗设备完成消毒洗模式后,控制所述储水结构(a1)再次进水并与所述干燥装置配合排出所述多孔结构(a8)内的残留液具体包括:根据所述清洗设备完成消毒洗模式后,控制所述消毒水发生装置(a)再次进水以清洗所述消毒水发生装置(a);控制所述干燥装置排出所述多孔结构(a8)内的残留液;根据所述清洗设备完成第二次漂洗后,控制所述消毒水发生装置(a)内的水再次排放至所述内胆(1)。3.根据权利要求1所述的清洗设备的控制方法,其特征在于,所述干燥装置包括与所述消毒水发生装置(a)的进气通道(a6)相连的供气装置,所述控制所述干燥装置持续排出所述多孔结构(a8)内的残留液具体包括:控制所述供气装置(5)向所述进气通道(a6)内供气,通过所述供气装置排出所述多孔结构(a8)内的水。4.根据权利要求3所述的清洗设备的控制方法,其特征在于,所述干燥装置还包括加热模块,所述控制所述干燥装置持续排出所述多孔结构(a8)内的残留液具体包括:控制所述加热模块加热蒸发所述多孔结构(a8)内的残留液;和/或,所述加热模块适于对所述供气装置(5)输出的空气进行加热。5.根据权利要求1

4中任一项所述的清洗设备的控制方法,其特征在于,所述根据所述清洗设备完成消毒洗模式后,控制所述储水结构(a1)再次进水并与所述干燥装置配合排出所述多孔结构(a8)内的残留液具体包括:根据所述清洗设备处于干燥模式,控制所述干燥装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:林陆展倪林海唐超曹艺余忆心王佳华
申请(专利权)人:珠海格力电器股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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