基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法及装置制造方法及图纸

技术编号:37793503 阅读:22 留言:0更新日期:2023-06-09 09:23
本发明专利技术公开一种基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法及装置,该方法包括:根据CL系统几何参数偏差与投影位置的关系,得出双向投影迹线;基于双向投影迹线得到CL系统几何参数的偏差最小单元;以偏差最小单元为评价指标分析各参数偏差敏感度。本发明专利技术基于该方法仿真分析了CL系统全部七个参数对投影迹线的影响,得到各几何参数偏差最小单元,并分析了旋转轴倾斜角度以及放大倍数对各参数偏差最小单元的影响。通过本发明专利技术的分析,可充分了解CL系统中各几何参数所需的校正精度,对于后续进一步研究、设计适用于CL系统的自校正算法具有重要的指导意义。正算法具有重要的指导意义。正算法具有重要的指导意义。

【技术实现步骤摘要】
2017International Conference on Fully Three

Dimensional Image Reconstruction in Radiology and Nuclear Medicine,Xi

an,China,2017.]提出的基于定标体模的CT系统几何参数标定方法基础上进行改进,提出了一种迭代的CL几何全参数标定方法。基于体模的标定方法需要对体模进行额外成像,这消耗了更多时间同时也降低了X射线利用率,且校正精度依赖体模的加工精度。目前,尚缺少针对CL系统的几何参数自校正方法。
[0005]要利用自身投影信息标定系统几何参数,首先需要对系统几何参数和投影关系进行客观全面的分析和评价。在CL系统中,由于旋转轴固有倾斜角的存在,导致其系统几何关系更加复杂。在参数标定过程中,标定的参数越多,精度要求越高,所需的软硬件成本就越高。因此,有必要对CL系统各几何参数敏感度进行分析,明确各几何参数标定要求,在此基础上对CL系统几何进行有针对性的高效、精准的标定。

技术实现思路

[0006]本专利技术针本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法,其特征在于,包括:根据CL系统几何参数偏差与投影位置的关系,得出双向投影迹线;基于双向投影迹线得到CL系统几何参数的偏差最小单元;以偏差最小单元为评价指标分析各参数偏差敏感度。2.根据权利要求1所述的基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法,其特征在于,所述CL系统几何参数包括探测器绕X轴的倾斜角θ、探测器绕Y轴的偏转角探测器面绕Z轴的面内旋转角η、探测器投影中心坐标μ0,υ0、以及射线源焦点到探测器的距离D和射线源焦点到旋转中心的距离R。3.根据权利要求2所述的基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法,其特征在于,所述CL系统几何参数偏差与投影位置的关系包括:征在于,所述CL系统几何参数偏差与投影位置的关系包括:式中:式中:其中(x
l
,y
l
,z
l
)表示CL系统中物体上点的坐标,(u

,v

)表示点(x
l
,y
l
,z
l
)投射到偏差探测器上的投影位置坐标,(u,v)表示点(x
l
,y
l
,z
l
)投射到理想探测器上的投影位置坐标,w表示物体旋转角度,α表示旋转轴倾斜角,R表示射线源与旋转中心的距离,D表示射线源与探测器的距离。4.根据权利要求1所述的基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法,其特征在于,所述双向投影迹线包括横向迹线和纵向迹线,均通过正弦图表示。5.根据权利要求1所述的基于投影迹线的锥束CL系统几何参数敏感度分析方法,其特征在于,所述基于双向投影迹线得到CL系统几何参数偏差最小单元包括:采用双向投影迹线中的最大偏移量作为CL系统几何参数的投影偏移量,以此来确定各参数的偏差最小单元。6.一种基于投影迹线的锥束CL系统几何...

【专利技术属性】
技术研发人员:孙艳敏韩玉谭思宇席晓琦李磊闫镔朱林林杨双站
申请(专利权)人:中国人民解放军战略支援部队信息工程大学
类型:发明
国别省市:

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