一种多膜片吸附头制造技术

本实用新型专利技术涉及一种多膜片吸附头，它包括延展的块体，块体中开设有自表面向内延伸的吸附槽，吸附槽的至少部分底面向内延伸形成有负压通道，所述块体上还开设有与所述负压通道连通以提供负压的负压连接口，所述负压通道沿着吸附槽底面延伸至所述吸附槽的侧壁且沿着侧壁向外延伸，且吸附槽侧壁中延伸的负压通道足够长以使在所述吸附槽底面吸附有至少一片膜片的情况下能够利用吸附槽侧壁中的负压通道吸附下一片膜片。当吸附槽内吸附有一片膜片后，吸附槽侧壁中的负压通道仍有外露部分，从而仍能够吸附下一片膜片，多片膜片在吸附槽内堆叠。这样便实现了同时吸附多片膜片的效果。这样便实现了同时吸附多片膜片的效果。这样便实现了同时吸附多片膜片的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种多膜片吸附头


[0001]本技术属于光学膜片制造领域，涉及一种多膜片吸附头，用于吸附光学膜片以便转移，可与机械手相配合。

技术介绍

[0002]光学膜片用于各类显示器，如电视机、电脑、手机、仪器等，其在生产过程中需要进行转运，由于其较为轻薄，通常的转运方式是通过机械手对其进行吸附并转移到其它的地方。
[0003]通常情况下，膜片只能逐片吸附并转移，无法进行多片同时吸附。如中国专利“CN217126233U”、“CN210253949U”、“CN112590349A”，其吸附头均只能一次吸附一片膜片，即使能够吸附多片，也只是将多个吸附头集成在一起。这造成生产效率不高。

技术实现思路

[0004]本技术目的是要提供一种多膜片吸附头，解决了如何同时吸附多片膜片的问题。
[0005]为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：
[0006]本技术提供了一种多膜片吸附头，它包括延展的块体，块体中开设有自表面向内延伸的吸附槽，吸附槽的至少部分底面向内延伸形成有负压通道，所述块体上还开设有与所述负压通道连通以提供负压的负压连接口，所述负压通道沿着吸附槽底面延伸至所述吸附槽的侧壁且沿着侧壁向外延伸，且吸附槽侧壁中延伸的负压通道足够长以使在所述吸附槽底面吸附有至少一片膜片的情况下能够利用吸附槽侧壁中的负压通道吸附下一片膜片。
[0007]优选地，所述负压通道在所述吸附槽侧壁上整体处于向所述吸附槽开放的状态。
[0008]进一步地，所述负压通道在所述吸附槽侧壁一直延伸至侧壁外端。/>[0009]优选地，所述吸附槽的底面和侧壁表面分别设置有并列分布的第一支撑条和第二支撑条，所述负压通道在相邻所述第一支撑条或相邻所述第二支撑条之间延伸。
[0010]进一步地，所述第一支撑条之间的空间是相互连通的从而形成所述负压通道。
[0011]更进一步地，所述吸附槽底面设置有至少一个连通槽，所述连通槽横向贯穿所有的所述第一支撑条以使相邻所述第一支撑条之间的空间相连通。
[0012]进一步地，所述第二支撑条均是沿着所述吸附槽的侧壁自内向外延伸的。
[0013]进一步地，临近所述负压连接口边缘的所述第一支撑条中开设有对应于所述负压连接口的横断的缺槽。
[0014]优选地，所述吸附槽侧壁的拐角处均设置有所述负压通道。
[0015]由于上述技术方案运用，本技术与现有技术相比具有下列优点：
[0016]本技术的多膜片吸附头，当吸附槽内吸附有一片膜片后，吸附槽侧壁中的负压通道仍有外露部分，从而仍能够吸附下一片膜片，多片膜片在吸附槽内堆叠。这样便实现
了同时吸附多片膜片的效果。
附图说明
[0017]后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本技术的一些具体实施例。附图中相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解，这些附图未必是按比例绘制的。附图中：
[0018]图1是本技术多膜片吸附头优选实施例所应用于的负压吸附组件结构示意图，负压吸附组件包括多膜片吸附头和负压产生头；
[0019]图2是图1中A处放大图；
[0020]图3是图1中负压产生头的立体示意图；
[0021]图4是图1中吸附头的立体示意图，即为本技术的优选实施例；
[0022]图5是图1中吸附头的仰视图；
[0023]图6是图1中吸附头吸附多片膜片的示意图；
[0024]其中，附图标记说明如下：
[0025]1、负压产生头；11、负压端；12、排气端；13、通气道；14、出气孔；15、高压气道；
[0026]2、吸附头；21、块体；211、侧壁；22、负压连接口；23、吸附槽；231、底面；24、负压通道；25、第一支撑条；26、第二支撑条；27、连通槽；28、缺槽；
[0027]3、膜片。
具体实施方式
[0028]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0030]此外，下面所描述的本技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
[0031]如图1所示负压吸附组件，包括负压产生头1和吸附头2（即为本技术的多膜片吸附头）两部分。其中，负压产生头1利用压缩气体来产生负压，吸附头2与负压产生头1连接并利用负压吸附膜片3。如图6所示，吸附头2内开设有吸附槽23，膜片3被吸引至吸附槽23内，且吸附槽23内可以同时吸附多片膜片3，膜片3层叠地嵌入吸附槽23内。
[0032]如图1，负压产生头1的两端分别是负压端11和排气端12。下端为负压端11，上端为排气端12。见图3，负压产生头1类似圆环状，内设有贯穿在负压端11和排气端12之间的通气道13。如图1和图2，负压产生头1内设置有高压气道15，高压气道15用于通入压缩气体，且高压气道15位于负压产生头1上半部分的壁内，此处的壁较厚以容纳高压气道15。高压气道15
的末端连接通气道13内壁的出气孔14。高压气道15内的高压气体通过出气孔14释出至通气道13内。出气孔14是环状的，在通气道13内壁延伸为一圈。
[0033]如图2，出气孔14的截面形状为扩口形，且偏向于排气端12，由出气孔14释出的气流向排气端12流动，使得通气道13内产生了高速气流。由于伯努力原理，通气道13内会形成负压，其出气孔14以上空间的气压小于出气孔14以下空间的气压。下端的负压端11气流由于是正常大气压力，此处气流会被吸引至通气道13上半部分空间，与负压端11相连接的吸附头2内气体也会流向通气道13。
[0034]如图2，出气孔14的顶壁（图2中B所指部位），即靠近上端排气端12的顶壁朝向排气端12是倾斜延伸的，且是斜率逐渐增大的弧形延伸。出气孔14的底壁（图2中C所指部位），即远离上端排气端12的底壁是水平延伸的平面，即与通气道13的轴向垂直的平面。这样的结构使得从出气孔14释出的气流向上端的排气端12流动。
[0035]其它实施方式中，出气孔14的形状或者朝向还可以是其它的形式，使得从出气孔14流出的气流向上流动。如出气孔14可以是整体向上倾斜延伸的气道（即出气孔14的顶壁和底壁均为倾斜向上延伸）。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种多膜片吸附头，其特征在于，它包括延展的块体（21），块体（21）中开设有自表面向内延伸的吸附槽（23），吸附槽（23）的至少部分底面向内延伸形成有负压通道（24），所述块体（21）上还开设有与所述负压通道（24）连通以提供负压的负压连接口（22），所述负压通道（24）沿着吸附槽（23）底面延伸至所述吸附槽（23）的侧壁且沿着侧壁向外延伸，且吸附槽（23）侧壁中延伸的负压通道（24）足够长以使在所述吸附槽（23）底面吸附有至少一片膜片（3）的情况下能够利用吸附槽（23）侧壁中的负压通道（24）吸附下一片膜片（3）。2.根据权利要求1所述的多膜片吸附头，其特征在于：所述负压通道（24）在所述吸附槽（23）侧壁上整体处于向所述吸附槽（23）开放的状态。3.根据权利要求2所述的多膜片吸附头，其特征在于：所述负压通道（24）在所述吸附槽（23）侧壁一直延伸至侧壁外端。4.根据权利要求1所述的多膜片吸附头，其特征在于：所述吸附槽（23）的底面和侧壁表面分别设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁其樟，吴思聪，
申请(专利权)人：江苏帝摩斯光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：