用于盖玻片的存储容器制造技术

一种用于盖玻片的存储容器，该盖玻片具有通过边缘连接的顶部表面和底部表面，并且该存储容器包括：保持器，该保持器具有孔，该孔包括顶部开口和侧部开口，其中，顶部开口被构造成接纳盖玻片并提供通向盖玻片的顶部表面的入口，并且其中，侧部开口被构造成提供通向保持器内的盖玻片的边缘的一部分的入口；可移除间隔件，该间隔件具有通过杆连接的内部部分和外部部分，其中，杆被设定尺寸为被侧部开口接纳，使得间隔件的内部部分位于保持器内，并且间隔件的外部部分位于保持器的外部；以及盖，该盖被构造成暂时地覆盖保持器的顶部开口。被构造成暂时地覆盖保持器的顶部开口。被构造成暂时地覆盖保持器的顶部开口。

【技术实现步骤摘要】
用于盖玻片的存储容器


[0001]本技术涉及存储容器的改进或与存储容器相关的改进，并且更具体地，涉及用于显微镜盖玻片(microscope coverslip)的存储容器。

技术介绍

[0002]盖玻片通常是薄玻璃片，其用于覆盖要通过科研装备(例如，显微镜或质量光度计)观察或分析的样品。因此，为了确保准确的分析，清洁的盖玻片是至关重要的。特别地，质量光度计需要超净盖玻片来分析溶液中的单个分子。
[0003]然而，超净盖玻片并不容易获得。因此，标准盖玻片在使用前需要清洁。然而，这是一项具有挑战性且耗时的任务。因此，标准盖玻片的清洁通常在集中的清洁底座上进行。然后，清洁过的盖玻片需要运输给终端用户，这经常导致在运输期间或从运输盖玻片的存储容器中移除盖玻片时盖玻片再次被污染。
[0004]此外，因为盖玻片只有0.17mm厚，所以在运输期间盖玻片经常损坏，并且因此容易破损。

技术实现思路

[0005]本技术正是在这种背景下产生的。
[0006]根据本技术，提供了一种用于盖玻片的存储容器，该盖玻片具有通过边缘连接的顶部表面和底部表面，并且该存储容器包括：保持器，该保持器具有孔，该孔包括顶部开口和侧部开口，其中，该顶部开口被构造成接纳盖玻片并提供通向盖玻片的顶部表面的入口，并且其中，该侧部开口被构造成提供通向保持器内的盖玻片的边缘的一部分的入口；以及盖(lid)，该盖被构造为暂时地覆盖保持器的顶部开口。
[0007]具有提供通向盖玻片的边缘的一部分的入口的侧部开口的存储容器使得盖玻片能够通过盖玻片的边缘从保持器移除，而不需要接触盖玻片的顶部表面和/或底部表面。这防止盖玻片的顶部表面和底部表面在盖玻片从存储容器移除时受到污染。
[0008]此外，与顶部开口不同的侧部开口的存在意味着只有边缘的一部分暴露在盖玻片需要接触以从保持器移除的区域中。这防止在从保持器移除盖玻片时，用户意外地将他们的手指缠绕在盖玻片的边缘周围和顶部表面和/或底部表面上。
[0009]盖将保持器的顶部开口与外部环境密封隔离，从而在储存和/或运输期间保护盖玻片的暴露的顶部表面免受污染。例如，盖可以被设定形状为暂时地覆盖保持器的顶部开口。换句话说，盖可以被构造成防止接近保持器的顶部开口。
[0010]盖玻片的边缘可以包括任何数量的边。例如，盖玻片的边缘可以包括1个边、2个边、3个边、4个边、5个边或多于5个的边。因此，盖玻片可以是例如圆形、半圆形、三角形、正方形、矩形或五边形。边缘的一部分可以是边缘的整个边。然而，优选地，边缘的一部分是边缘的一个边的一部分。因此，如果盖玻片包括具有四个边的边缘，那么如果保持器在侧部开口的方向上倾斜，则仅暴露其中一个边的一部分就能使盖玻片保持在保持器内。
[0011]保持器还可以包括底座，该底座沿着在顶部开口与底座之间垂直延伸的存储轴线与顶部开口间隔开。
[0012]存储容器还可以包括间隔件，该间隔件具有通过杆连接的内部部分和外部部分。杆可以被设定尺寸为被侧部开口接纳，使得间隔件的内部部分位于保持器内，并且间隔件的外部部分位于保持器的外部。
[0013]间隔件可以被构造成防止盖玻片接触保持器的底座。更具体地，间隔件可以被定位成防止盖玻片接触保持器的底座。例如，盖玻片可以至少部分地位于盖玻片下方。替代地或者另外，间隔件可以被设定尺寸为防止盖玻片接触保持器的底座。例如，间隔件的内部部分可以被设定尺寸为支撑盖玻片的底部表面的整个边界。
[0014]因此，提供了一种用于盖玻片的存储容器，该盖玻片具有通过边缘连接的顶部表面和底部表面，并且该存储容器包括：保持器，该保持器具有孔，该孔包括顶部开口和侧部开口，其中，该顶部开口被构造成接纳盖玻片并提供通向盖玻片的顶部表面的入口，并且其中，该侧部开口被构造成提供通向保持器内的盖玻片的边缘的一部分的入口；可移除间隔件，该间隔件具有通过杆连接的内部部分和外部部分，其中，该杆被设定尺寸为被侧部开口接纳，使得间隔件的内部部分位于保持器内，并且间隔件的外部部分位于保持器的外部；以及盖，该盖被构造成暂时地覆盖保持器的顶部开口。保持器还可以包括底座，该底座沿着在顶部开口与底座之间垂直延伸的存储轴线与顶部开口间隔开。间隔件可以被构造为防止盖玻片接触底座。
[0015]在一些实施例中，间隔件的内部部分可以被设定尺寸成使得盖玻片的质心位于盖玻片的由间隔件支撑的部分内。换句话说，间隔件的内部部分可以支撑盖玻片质量的至少一半。因此，当间隔件向上移动时，盖玻片可以保持被支撑在间隔件上，并且可以不旋转或脱落。
[0016]此外，间隔件可以被构造成在运输和/或储存期间缓冲盖玻片。例如，可以填充间隔件。替代地或者另外，保持器并且特别是底座，可以是缓冲的、加垫的和/或柔软的。
[0017]将间隔件的外部部分定位在保持器的外部使得用户能够接近和移动间隔件，从而移动被支撑在间隔件上的盖玻片，而不接触盖玻片。间隔件的外部部分可以是符合人体工程学的形状，以提供用于操纵盖玻片的更合适的手柄。因此，间隔件可以提供从保持器移除盖玻片而完全不接触盖玻片的装置。这降低了污染盖玻片的风险。然后，间隔件可以被丢弃、回收或清洗，并在随后的存储容器中重复使用。
[0018]此外，保持器中与顶部开口不同的侧部开口的存在意味着仅露出盖玻片的边缘的一小部分。这防止用户在从保持器上移除盖玻片时意外地将手指缠绕在盖玻片的边缘周围和顶部表面和/或底部表面上。
[0019]盖可以被构造为防止接近保持器的顶部开口和侧部开口。换句话说，盖可以被构造成包围保持器的顶部开口和侧部开口。例如，盖可以包括被设定形状为覆盖顶部开口的顶部表面和被设定形状为覆盖侧部开口的侧表面。盖可以包括至少三个附加侧表面。盖可以基本上是托盘形的。因此，盖可以将盖玻片完全地包围在保持器内。盖可以是可移除的。因此，盖可以暂时地包围保持器的顶部开口和侧部开口。换句话说，盖可以被构造成暂时地包围孔。被构造成暂时地包围和/或防止接近保持器的顶部开口与侧部开口的盖增加了防止污染物进入盖玻片的顶部表面和/或底部表面的进一步保护水平。
[0020]此外，盖可以被构造成与保持器产生基本上不漏流体的密封(fluid
‑
tight seal)。密封可以使用在盖的唇部上的一个或更多个泡沫垫来形成，当与保持器接触时，这些泡沫垫压缩。替代地或者另外，一个或更多个泡沫垫可以附接到保持器的外部表面。在盖与保持器之间的基本上不漏流体的密封将盖玻片提供在防止盖玻片被污染的另一保护水平内。更具体地，盖可以与保持器的底座产生基本上不漏流体的密封。
[0021]盖可以通过铰链连接到保持器上。铰接盖降低了当盖打开时盖的内表面接触外部表面并被污染的风险。因此，铰接连接有助于保持存储容器的内部元件的清洁。然而，在一些实施例中，盖可以是完全地可移除的。
[0022]存储容器还可以包括构造成被真空密封的外包装。一旦真空密封，外包装可以抵靠保持器压缩盖，以提供盖与保持器之间更不漏流体的密封。替本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于盖玻片的存储容器，其特征在于，所述盖玻片具有通过边缘连接的顶部表面和底部表面，并且所述存储容器包括：保持器，所述保持器具有孔，所述孔包括顶部开口和侧部开口，其中，所述顶部开口被构造成接纳所述盖玻片并提供通向所述盖玻片的所述顶部表面的入口，并且其中，所述侧部开口被构造成提供通向所述保持器内的所述盖玻片的所述边缘的一部分的入口；可移除间隔件，所述间隔件具有通过杆连接的内部部分和外部部分，其中，所述杆被设定尺寸为被所述侧部开口接纳，使得所述间隔件的所述内部部分位于所述保持器内，并且所述间隔件的所述外部部分位于所述保持器的外部；以及盖，所述盖被构造成暂时地覆盖所述保持器的所述顶部开口。2.根据权利要求1所述的存储容器，其特征在于，所述盖被构造成包围所述保持器的所述顶部开口和所述侧部开口。3.根据权利要求1所述的存储容器，其特征在于，所述盖通过铰链连接到所述保持器。4.根据权利要求1
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3中任一项所述的存储容器，其特征在于，所述存储容器还包括构造成被真空密封的外包装。5.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的存储容器，其特征在于，所述保持器还包括底座，所述底座沿着在所述顶部开口与所述底座之间垂直延伸的存储轴线与所述顶部开口间隔开，并且其中，所述保持器被设定尺寸为防止所述盖玻片垂直于所述存储轴线的显著移动。6.根据权利要求4所述的存储容器，其特征在于，所述保持器还包括底座，所述底座沿着在所述顶部开口与所述底座之间垂直延伸的存储轴线与所述顶部开口间隔开，并且其中，所述保持器被设定尺寸为防止所述盖玻片垂直于所述存储轴线的显著移动。7.根据权利要求1
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3和6中任一项所述的存储容器，其特征在于，所述保持器具有至少一个凹入拐角。8.根据权利要求4所述的存储容器，其特征在于，所述保持器具有至少一个凹入拐角。9.根据权利要求5所述的存储容器，其特征在于，所述保持器具有至少一个凹入拐角。10.根据权利要求5所述的存储容器，其特征在于，所述盖包括突出部，所述突出部被构造成接触所述保持器内的所述盖玻片的所述顶部表面并防止所述盖玻片平行于所述存储轴线移动。11.根据权利要求6所述的存储容器，其特征在于，所述盖包括突出部，所述突出部被构造成接触所述保持器内的所述盖玻片的所述顶部表面并防止所述盖玻片平行于所述存储轴线移动。12.根据权利要求1
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3、6和8
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11中任一项所述的存储容器，其特征在于，所述间隔件的所述内部部分被设定形状为避免与所述盖玻片的预定部分接触。13.根据权利要求4所述的存储容器，其特征在于，所述间隔件的所述内部部分被设定形状为避免与所述盖玻片的预定部分接触。14.根据权利要求5所述的存储容器，其特征在于，所述间隔件的所述内部部分被设定形状为避免与所述盖玻片的预定部分接触。15.根据权利要求7所述的存储容器，其特征在于，所述间隔件的所述内部部分被设定形状为避免与所述盖玻片的预定部分接触。16.根据权利要求1
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3、6、8
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11和13
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15中任一项所述的存储容器，其特征在于，所述间
隔件的所述内部部分包括靠近所述侧部开口定位的近端部分和远离所述侧部开口定位的断开的远端部分。17.根据权利要求4所述的存储容器，其特征在于，所述间隔件的所述内部部分包括靠近所述侧部开口定位的近端部分和远离所述侧部开口定位的断开的远端部分。18.根据权利要求5所述的存储容器，其特征在于，所述间隔件的所述内部部分包括靠近所述侧部开口定位的近端部分和远离所述侧部开口定位的断开的远端部分。19.根据权利要求7所述的存储容器，其特征在于，所述间隔件的所述内部部分包括靠近所述侧部开口定位的近端部分和远离所述侧部开口定位的断开的远端部分。20.根据权利要求12所述的存...

【专利技术属性】
技术研发人员：卡尔，
申请(专利权)人：瑞芬有限公司，
类型：新型
国别省市：