【技术实现步骤摘要】
一种超表面的设计方法、光束整形器、装置及电子设备
[0001]本专利技术涉及光束整形
，具体而言，涉及一种超表面的设计方法、光束整形器、装置及电子设备。
技术介绍
[0002]传统的光束整形器可选用多片式组合的球面镜和/或非球面镜，但是，在实际加工中球面镜与非球面镜的制作难度较大，且这种传统透镜的组合需要较长的空间距离，造成该光束整形器的尺寸较大，占据较大的空间体积；因此，如何设计一种体积小、制作难度低且整形效果好的光束整形器显得尤为重要。
技术实现思路
[0003]为解决现有存在的技术问题，本专利技术实施例提供一种超表面的设计方法、光束整形器、装置及电子设备。
[0004]第一方面，本专利技术实施例提供了一种超表面的设计方法，包括：确定入射类型和入射参数；所述入射类型表示入射光束的类型，所述入射参数表示所述入射光束的参数，且所述入射参数包括：所述入射光束的波长和所述入射光束的光强分布；确定出射类型和出射参数；所述出射类型表示出射光束的类型，所述出射参数表示所述出射光束的参数，且所述出射参数包括...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种超表面的设计方法，其特征在于，包括：确定入射类型和入射参数；所述入射类型表示入射光束的类型，所述入射参数表示所述入射光束的参数，且所述入射参数包括：所述入射光束的波长和所述入射光束的光强分布；确定出射类型和出射参数；所述出射类型表示出射光束的类型，所述出射参数表示所述出射光束的参数，且所述出射参数包括：所述出射光束的光强分布；基于所述入射参数与所述出射参数，确定衍射相位分布的初始值；所述衍射相位分布表示将所述入射光束调整为所述出射光束的相位分布；根据所述入射类型与所述出射类型，对所述衍射相位分布进行迭代优化，得到优化后的衍射相位分布，根据所述优化后的衍射相位分布生成目标相位分布，并按所述目标相位分布生成超表面。2.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，所述基于所述入射参数与所述出射参数，确定衍射相位分布的初始值，包括：确定二维相位分布；所述二维相位分布表示对射向第一方向以及第二方向构成的平面的入射光束进行调制的相位分布；所述第一方向表示所要设计的超表面中的方向；且所述第一方向与所述第二方向为相互垂直的两个方向；将所述二维相位分布作为所述衍射相位分布的初始值。3.根据权利要求2所述的设计方法，其特征在于，所述确定二维相位分布，包括：将所述入射光束的光强分布重新分布为所述出射光束的光强分布，得到一维相位分布；所述一维相位分布表示对射向所述第一方向的入射光束进行调制的相位分布；根据所述出射光束的光强分布类型和所述一维相位分布，确定所述二维相位分布。4.根据权利要求3所述的设计方法，其特征在于，所述入射光束为高斯光束；所述出射光束为平顶光束。5.根据权利要求3所述的设计方法，其特征在于，所述根据所述出射光束的光强分布类型和所述一维相位分布，确定所述二维相位分布，包括：在所述出射光束的光强分布类型为圆柱状的情况下，对所述一维相位分布进行旋转对称分布，得到所述二维相位分布；在所述出射光束的光强分布类型为长方体的情况下，确定对射向所述第二方向的入射光束进行调制的相位分布，将所述对射向所述第二方向的入射光束进行调制的相位分布与所述一维相位分布进行叠加，得到所述二维相位分布。6.根据权利要求5所述的设计方法，其特征在于，所述一维相位分布满足：在所述出射光束的光强分布类型为圆柱状的情况下，所述二维相位分布满足：其中，表示所述一维相位分布；x表示所述第一方向上的位置；λ表示所述入射光束的波长；z表示所述出射光束至衍射平面的传播距离；u(t)表示所述出射光束的光强分布的位置u与所述入射光束在第一方向上的位置t的转换关系,t表示积分变量；表示
所述二维相位分布；y表示所述第二方向上的位置。7.根据权利要求5所述的设计方法，其特征在于，在所述出射光束的光强分布类型为长方体的情况下，所述二维相位分布满足：且其中，表示所述二维相位分布；λ表示所述入射光束的波长；z表示所述出射光束至衍射平面的传播距离；t表示积分变量；表示在第一方向上的一维相位分布；x表示...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈建发，郝成龙，谭凤泽，朱健，
申请(专利权)人：深圳迈塔兰斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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