流体输送系统、方法、控制设备及可读存储介质技术方案

本公开提供了一种流体输送系统、方法、控制设备及可读存储介质，流体输送系统包括流体储存装置、流体支管、流体主管、泵和控制器，流体支管连通流体储存装置且设置有第二阀，流体主管连接流体支管和制程腔室且设置有第一阀，流体支管设置检测装置以获取流体信息，泵与制程腔室连接，控制器根据流体信息控制第一阀、第二阀和泵的状态。控制器根据某一制程腔室的流体信息，判断该流体输送通道内出现堵塞时，控制器能够控制第一阀、第二阀和泵的状态，以阻止该流体输送通道内的流体回灌流体支管进而回流至流体储存装置，避免对流体储存装置内的流体纯度产生影响，进而避免流体储存装置向其余正常的制程腔室输送低纯度流体的情况，提高了产品良率。高了产品良率。高了产品良率。

【技术实现步骤摘要】
流体输送系统、方法、控制设备及可读存储介质


[0001]本公开涉及半导体
，尤其涉及一种流体输送系统、方法、控制设备及可读存储介质。

技术介绍

[0002]在半导体
，工艺制程过程中通常需要向反应腔室中通入多种流体，例如反应气体、清洁气体。
[0003]目前，输送流体的管路大多双向导通，当通入某一反应腔室的管路上出现堵塞时，由于多种流体(例如反应气体)在同一管路，他们的分子质量不同、气体流量不同等原因，管路内的气体受到挤压后会产生回流与源头气体发生混合，影响源头气体纯度，进而导致源头气体进入其余正常的反应腔室，降低产品良率甚至报废。

技术实现思路

[0004]以下是对本公开详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。
[0005]本公开的第一方面，提供了一种流体输送系统，用于对半导体设备的制程腔室输送流体，所述流体输送系统包括：
[0006]流体储存装置，包括存储相应流体的多个独立腔；
[0007]多个流体支管，分别连通多个所述独立腔；
[0008]流体主管，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种流体输送系统，其特征在于，用于对半导体设备的制程腔室输送流体，所述流体输送系统包括：流体储存装置，包括存储相应流体的多个独立腔；多个流体支管，分别连通多个所述独立腔；流体主管，所述流体主管具有多个进口端，以分别连接多个所述流体支管，所述流体主管的出口端连接所述制程腔室；第一阀，位于所述流体主管上；多个检测装置，分别位于多个所述流体支管上，并分别获取多个所述流体支管内的流体信息；多个第二阀，分别位于所述多个流体支管上；泵，连接所述制程腔室；控制器，所述第一阀、所述第二阀、所述检测装置和所述泵均与所述控制器电连接，所述控制器被配置为根据所述流体信息，控制所述第一阀、所述第二阀和所述泵的状态。2.根据权利要求1所述的流体输送系统，其特征在于，所述检测装置包括：第一传感器，位于所述流体支管上，并靠近所述流体支管的进口端；第二传感器，位于所述流体支管上，且靠近所述流体支管的出口端，所述第一传感器和所述第二传感器，均与所述控制器电连接。3.根据权利要求2所述的流体输送系统，其特征在于，所述第二阀位于所述第一传感器和第二传感器之间的位置，且靠近所述第一传感器。4.根据权利要求1所述的流体输送系统，其特征在于，所述流体支管的出口端呈直径逐渐减小的锥形结构；和/或，所述流体支管和/或所述流体主管上设置有止回阀，所述止回阀的导通方向由所述流体储存装置指向所述制程腔室。5.根据权利要求1所述的流体输送系统，其特征在于，还包括：排出管路，所述排出管路位于所述第二阀和所述第一阀位置之间；第三阀，所述第三阀位于所述排出管路上，并与所述控制器电连接。6.根据权利要求5所述的流体输送系统，其特征在于，所述排出管路和所述第三阀均设置有一个；所述排出管路的进口端连通所述流体主管，所述排出管路的出口端连接所述泵。7.根据权利要求5所述的流体输送系统，其特征在于，所述排出管路和所述第三阀均设置有多个，数量与所述流体支管数量相等；多个所述排出管路的进口端分别连通多个所述流体支管，多个所述排出管路的出口端共同连接所述泵。8.根据权利要求5～7任一项所述的流体输送系统，其特征在于，所述检测装置包括第三传感器，所述第三传感器设置于排出管路，所述第三传感器与所述控制器电连接。9.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：张国庆，杨苏，任春虎，张广平，洪兴峰，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：