显示面板、其制作方法及显示装置制造方法及图纸

本申请实施例提供了一种显示面板、其制作方法及显示装置。该显示面板包括阵列基板、阳极层、像素定义层、有机发光层、复合阴极和无机封装层；像素定义层包括多个开口和包围开口的挡墙，复合阴极包括金属阴极层透明阴极层以及辅助阴极层，辅助阴极层在阵列基板上的正投影位于挡墙在阵列基板上的正投影内且通过贯穿无机封装层的过孔与透明阴极层电连接；无机封装层位于透明阴极层和辅助阴极层之间。本实施例提供的显示面板采用多层的复合阴极，能够有效提升阴极的导电性从而提升阴极覆盖范围内的亮度均一性；并且无机封装层在增强水氧阻隔性的同时具有较强的刻蚀阻挡功能，能够避免刻蚀残留或者过刻蚀，从而保证像素内亮度均一问题。题。题。

【技术实现步骤摘要】
显示面板、其制作方法及显示装置


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，本申请涉及一种显示面板、其制作方法及显示装置。

技术介绍

[0002]对于中大尺寸的OLED显示屏来说，由于IR
‑
drop的影响容易导致亮度均一性问题。具体而言，中大尺寸的OLED显示屏主要包括笔记本显示屏、车载显示屏、电视机显示屏等。
[0003]现有技术中的一种方式是在透明阴极上形成网状的金属材料，从而增强阴极的导电性以实现降低IR
‑
drop影响的作用，改善了中大尺寸OLED在整个阴极覆盖区域内的亮度均一性问题。
[0004]但是，由于该方案需要将像素发光区上沉积的金属材料薄膜刻蚀掉，因此需要透明阴极具有足够的刻蚀阻挡性，才能确保底层OLED器件不受影响。但是由于对金属材料薄膜进行刻蚀时的刻蚀工艺波动，容易导致刻蚀残留或者过刻蚀，容易产生像素内亮度均一性差的问题。

技术实现思路

[0005]本申请针对现有方式的缺点，提出一种显示面板、其制作方法及显示装置，用以解决现有技术中整个阴极覆盖区内以及本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列基板；阳极层，包括多个阳极单元；像素定义层，包括多个开口和包围所述开口的挡墙，每个所述开口在所述阵列基板上的正投影位于一个所述阳极单元在所述阵列基板上的正投影内；有机发光层，位于所述开口内；复合阴极，包括金属阴极层、透明阴极层和辅助阴极层，所述金属阴极层覆盖所述有机发光层、所述透明阴极层覆盖所述金属阴极层所述辅助阴极层在所述阵列基板上的正投影位于所述挡墙在所述阵列基板上的正投影内；无机封装层，位于所述透明阴极层和所述辅助阴极层之间，所述阴极辅助层通过贯穿所述无机封装层的过孔与所述透明阴极层电连接。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机封装层包括在阳极层远离所述阵列基板的方向上堆叠的第一无机层和第二无机层，所述第一无机层为氧化铝层且厚度为所述第二无机层为氮化硅层且厚度为3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，还包括：位于所述辅助阴极层上的第一微透镜阵列，所述第一微透镜阵列包括第一折射结构和第二折射结构，所述第一折射结构的折射率低于所述第二折射结构的折射率，所述第一折射结构在所述阵列基板上的正投影位于所述挡墙在所述阵列基板上的正投影内，所述第二折射结构在所述阵列基板上的正投影覆盖所述开口在所述阵列基板上的正投影。4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一折射结构的材料为光敏树脂、聚硅氧材料或者黑矩阵材料。5.根据权利要求3或4所述的显示面板，其特征在于，还包括薄膜封装层和位于所述薄膜封装层远离所述阵列基板一侧的彩膜结构或者第二微透镜阵列；所述彩膜结构包括多个彩色滤光单元和位于任意相邻所述彩色滤光单元之间的第一黑矩阵，每个所述彩色滤光单元在所述阵列基板上的正投影位于一个所述开口在所述阵列基板上的正投影内，所述第一黑矩阵在所述阵列基板上的正投影覆盖所述辅助阴极层在所述阵列基板上的正投影；所述第二微透镜阵列包括多个第三折射结构和位于任意相邻所述第三折射结构之间的第二黑矩阵，每个所述第三折射结构在所述阵列基板上的正投影位于一个所述开口在所述阵列基板上的正投影内，所述第二黑矩阵在所述阵列基板上的正投影覆盖所述辅助阴极层在所述阵列基板上的正投影。6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1
‑
5中任一项所述的显示面板。7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：提供一阵列基板，并在所述阵列基板上制作阳极层，所述阳极层包括多个阳极单元；在所述阳极层上形成像素定义层，所述像素定义层包括多个开口和包围所述开口的挡墙，每个所述开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：张永峰，孙中元，焦志强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：