显示面板及其制备方法技术

技术编号:37489301 阅读:21 留言:0更新日期:2023-05-07 09:28
本申请涉及一种显示面板及其制备方法。该显示面板包括阵列基板和依次形成于阵列基板上的像素限定层及发光功能层,以及位于像素限定层背离阵列基板一侧的多个辅助电极,第二电极层在辅助电极的边缘处断开,辅助电极包括导电部和位于导电部背离阵列基板一侧的覆盖部,覆盖部在阵列基板上的正投影覆盖导电部在阵列基板上的正投影;像素单元的子像素的周侧边缘与显示面板的长边或者短边所在的方向之间非平行设置,辅助电极靠近至少一个子像素的周侧边缘设置,且辅助电极沿平行于长边及短边所在的方向延伸,以使第二电极层的端部与导电部能够搭接实现电连接。该显示面板可以使异形子像素的阴极层与辅助电极之间形成有效搭接,改善显示异常的问题。善显示异常的问题。善显示异常的问题。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制备方法


[0001]本申请涉及显示
,特别是涉及一种显示面板及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Diode,简称OLED)显示面板尺寸的增加,发光元件的阴极层面积也会增加。顶发光的OLED显示面板的阴极层需要满足透光率要求不能太厚,这样大面积的阴极层必定导致面内电压的降低(IR
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Drop),影响显示画面的亮度均一性。为此,相关技术通常会在像素限定层上设置辅助电极,使其能够与阴极层搭接,利用辅助电极降低阴极层的整体电阻。另外,发光器件通常采用精细金属掩膜板作为遮挡,通过蒸镀工艺进行三色子像素的沉积。但是对于大尺寸的OLED显示面板来说,由于金属掩膜板下垂量过大,原先的蒸镀工艺已经不再适用。
[0003]相关技术开始采用蒸镀与刻蚀相结合的方式,即先用蒸镀工艺进行整面成膜,借助蒸镀源的特殊构造,使得子像素的阴极末端能够与辅助电极之间形成搭接,再通过光刻工艺对成膜后的基板进行刻蚀,分出三色子像素。但是,子像素一般为矩形结构,即子像素本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板,具有相互垂直设置的长边和短边,所述显示面板包括阵列基板和依次形成于所述阵列基板上的像素限定层及发光功能层,所述阵列基板上形成有阵列排布的多个第一电极,所述像素限定层包括多个像素开口,所述像素开口暴露至少部分所述第一电极;所述发光功能层包括多个像素单元,所述像素单元包括多个子像素,所述子像素包括位于所述第一电极上的发光结构和位于所述发光结构上的第二电极层;其特征在于,所述显示面板还包括位于所述像素限定层背离所述阵列基板一侧的多个辅助电极,所述第二电极层在所述辅助电极的边缘处断开,所述辅助电极包括导电部和位于所述导电部背离所述阵列基板一侧的覆盖部,所述覆盖部在所述阵列基板上的正投影覆盖所述导电部在所述阵列基板上的正投影;所述像素单元的所述子像素的周侧边缘与所述显示面板的长边或者短边所在的方向之间非平行设置,所述辅助电极靠近至少一个所述子像素的周侧边缘设置,且所述辅助电极沿平行于所述长边及所述短边所在的方向延伸,以使所述第二电极层的端部与所述导电部能够搭接实现电连接。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助电极包括相互垂直且相交设置的第一转接部和第二转接部,所述辅助电极靠近所述子像素的周侧边缘的至少一条边设置。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助电极包括相互垂直且间隔设置的第一转接部和第二转接部,所述子像素的周侧边缘包括多条边,所述第一转接部和所述第二转接部分别靠近不同边设置。4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述辅助电极沿平行于所述长边或者所述短边所在的方向的长度与所述子像素的最大外轮廓直径的长度之间的比值大于1:10。5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述子像素的形状为圆形、椭圆形和多边形中的任一者或者至少两者的组合。6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括平...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄添钧李静袁海江
申请(专利权)人:惠科股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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