本发明专利技术是一种流体压差式纳米研磨装置，其包括一原料进料槽、一连接该原料进料槽的原料出料管、连通于该原料出料管的一液体供应单元、连通于该原料出料管的一气体供应单元、一均压装置及一后处理设备，该原料出料管上设有一加压泵浦，该均压装置包括一均压筒以及连接于该均压筒的一加压原料进料管、一气液分离器、一压力表、至少一纳米研磨器，该加压原料进料管尚与该原料出料管连通，该纳米研磨器以一回流管连接至该原料进料槽，该后处理设备连接于该纳米研磨器。通过本发明专利技术可达到让物质均匀混合的效果。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术是一种流体压差式纳米研磨装置，尤其是一种利用高压研磨的方式使固体 或气体能充分与流体混合的流体压差式纳米研磨装置。
技术介绍
在人类生活的环境中，因温度的差异，而让物质呈现气态、液态或固态的三相变 化，在常温下，气态的物质包括元素和化合物等，而液态的物质也包括有元素与化合物，而 元素与化合物之间、有机物与无机物之间、气体与液体之间、液体与固体之间的溶解度皆会 因为相的变化以及物理性质的不同而产生差异，所以要增加其相互间的溶解度，则势必要 藉助外力或使用特定的仪器辅助才能完成。目前所使用的方法大多利用加压的方式来促进两相物质之间的溶解度，例如使固 体粉末溶于液体中，或将气体溶于液体中，然而，目前并无仪器能在将固体粉末溶于液体或 将气体溶于液体的同时，将固体粉末或气体纳米化，而使其均勻分散于液体中，故仍有开发 的必要。
技术实现思路
本专利技术人有鉴于目前并无任何将固体粉末或气体纳米化，以使其均勻分散于液体 中的装置，因此经过不断的研究以及试验之后，终于专利技术出此流体压差式纳米研磨装置。本专利技术的目的在于提供一种利用高压研磨的方式使固体或气体能充分与流体混 合的流体压差式纳米研磨装置。为达上述目的，本专利技术的流体压差式纳米研磨装置，其包括—原料进料槽，其连通有一进料管，并连接有一原料出料管，且该原料出料管上设 有一加压泵浦；一液体供应单元，其连通于该原料出料管；一气体供应单元，其连通于该原料出料管；一均压装置，其包括一均压筒、一加压原料进料管、一气液分离器、一压力表、至少 一纳米研磨器，该加压原料进料管的一端连接于该均压筒，且与该原料出料管连通，该气液 分离器设置于该均压筒，且与该均压筒连通，该压力表设置于该均压筒，该纳米研磨器设置 该均压筒，且与该均压筒连通于，并且以一回流管连接至该原料进料槽；一后处理设备，其连接于该纳米研磨器。其中，连接各元件的管线皆可设有阀，以控制该流体压差式纳米研磨装置的操作。 较佳的是，该回流管设有一电磁阀。较佳的是，该原料进料槽的进料管连通于该原料进料槽近顶部处，而该原料进料 槽的原料出料管设置于该原料进料槽的底部。较佳的是，该液体供应单元以一液体添加料管连接至该原料出料管，且该液体添 加料管设有一液体流量计。较佳的是，该气体供应单元包括至少一气体钢瓶，其数量可依所需的气体量来决 定，而气体的种类也依照所欲混合的气体来决定；其中，该气体供应单元以一气体添加料管 连接至该原料出料管，且该气体添加料管设有一气体流量计。其中，该均压筒的底部设有一原料入料接头，以与该加压原料进料管的一端连接。较佳的是，该气液分离器设置于该均压筒的顶部，而该均压装置包括一第一纳米 研磨器以及一第二纳米研磨器，该第一纳米研磨器以及该第二纳米研磨器则设置于该均压 筒的侧边，且可呈对向设置，该回流管连通于该第一纳米研磨器，而该后处理设备连接于该 第二纳米研磨器。其中，该后处理设备包括一装瓶机，其由一装瓶入料管与该纳米研磨器连接，且该 装瓶入料管设有一电磁阀。 其中，该后处理设备包括一释压槽，其底部设有一释压排放管，该释压槽以一释压 槽入料管连接于该纳米研磨器，且该释压槽入料管设有一电磁阀。较佳的是，该后处理设备同时包括上述装瓶机以及该释压槽二者。其中，该原料进料槽供应液体原料，而该液体供应单元供应液体或添加有固体粉 末的液体，而该气体供应单元供应气体。本专利技术的技术效果在于，以液体为主要原料，在加压过程中加入适当的固体、液体 或气体，经纳米研磨之后，使得固体粉末在液体中纳米化，并使气体强制溶入液体中产生纳 米气泡，或者使得无机液体和有机液体产生乳化反应，因此，本专利技术能提供不同相的物质均 勻混合的效果。附图说明图1为本专利技术的管线布置图；图2为本专利技术的均压装置的立体图；图3为本专利技术的均压装置的平面图；图4为本专利技术纳米研磨器的剖面俯视图；图5为本专利技术纳米研磨器的前部的剖面俯视图；图6为本专利技术纳米研磨器的研磨片的端视图；图7为本专利技术纳米研磨器的正转研磨片的剖面侧视图；图8为本专利技术纳米研磨器的反转研磨片的剖面侧视图；图9为本专利技术纳米研磨器的后部的剖面俯视图。附图标记说明10-原料进料槽；11-进料管；111、121、122_水阀；12-原料出料管；13-加压泵浦； 20-液体供应单元；21-液体添加料管；22-液体流量计；30-气体供应单元；31-气体添加 料管；32-气体流量计；40-均压装置；41-均压筒；411-原料入料接头；42-加压原料进料 管；43-气液分离器；431-排气口 ；44-压力表；45-第一纳米研磨器；451-回流管；4511-研 磨器出口管；452-电磁阀；46-第二纳米研磨器；461-中空外壳；4611a、4611b-研磨器出 口管；4612-近端；4613-远端；4614-流体入口 ；4615-内部空间；4616-环挡部；462-盖 体；4621-中央穿孔；463-研磨片；463a-正转研磨片；463b-反转研磨片；4631-中轴孔; 4632,4632a,4632b-导流孔；464-中轴固定杆；4641-杆体；4642-第一垫片；465-调压杆；4651-杆体；4652-第二垫片；4653-螺旋工具旋口 ；466-橡胶密封圈；467-定位螺帽； 468-固定螺帽；50-后处理设备；51-装瓶机；52-装瓶入料管；521-电磁阀；53-释压槽； 54-释压槽入料管；541-电磁阀；55-释压排放管；551-控制阀。具体实施例方式请参看图1所示，本专利技术的流体压差式纳米研磨装置，其包括一原料进料槽10、一 液体供应单元20、一气体供应单元30、一均压装置40以及一后处理设备50。该原料进料槽10内盛装有液体原料，而该原料进料槽10的侧边近顶部的位 置连 通有一进料管11，该进料管11设有一水阀111，而该原料进料槽10的底部连接有一原料 出料管12，且该原料出料管12上设有一加压泵浦13，该原料出料管12间隔设有多个水阀 121,122 ；该液体供应单元20以一液体添加料管21连接至该原料出料管12，且于该原料进 料槽10以及该加压泵浦13之间的位置，而该液体添加料管21设有一液体流量计22，该液 体供应单元20可提供液体或含有固体粉末的液体；该气体供应单元30以一气体添加料管31连接至该原料出料管12，且于该原料进 料槽10以及该加压泵浦13之间的位置，而该气体添加料管31上设有一气体流量计32 ；请附加参看图2及图3所示，该均压装置40包括一均压筒41、一加压原料进料管 42 (图中未示)、一气液分离器43、一压力表44、以及至少一纳米研磨器。在本实施例中，该 均压装置40包括一第一纳米研磨器45以及一第二纳米研磨器46。该均压筒41的底部设 有一原料入料接头411，该加压原料进料管42的一端连接于该均压筒41的原料入料接头 411，且与该原料出料管12连通，以让在原料出料管12中的流体流入该均压筒41中，该气 液分离器43设置于该均压筒41的顶部，与该均压筒41连通，且设有一排气口 431，该压力 表44设置于该均压筒41，以令操作人员随时监控以调整该均压装置40的压力，该第一纳 米研磨器45设置于该均压筒41的侧边，且与该均压筒41连通，并且设有一研磨器出口管 4511，该研磨本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种流体压差式纳米研磨装置，其特征在于，包括：一原料进料槽，其连通有一进料管，并连接有一原料出料管，且该原料出料管上设有一加压泵浦；一液体供应单元，其连通于该原料出料管；一气体供应单元，其连通于该原料出料管；一均压装置，其包括一均压筒、一加压原料进料管、一气液分离器、一压力表、至少一纳米研磨器，该加压原料进料管的一端连接于该均压筒，且与该原料出料管连通，该气液分离器设置于该均压筒，且与该均压筒连通，该压力表设置于该均压筒，该纳米研磨器设置于该均压筒，且与该均压筒连通，并且以一回流管连接至该原料进料槽；一后处理设备，其连接于所述纳米研磨器。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈国刚，
申请(专利权)人：罗莎国际有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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