【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】机动性能提高的地板清洁装置,尤其刷洗式真空地板清洁装置
[0001]本专利技术涉及一种地板清洁装置,尤其一种刷洗式真空地板清洁装置,例如湿式地板清洁装置。该地板清洁装置包括:
‑
地板单元,其与平行于待清洁的地板表面的推进方向(V)相关联;
‑
工具,其与地板单元相关联并且在操作状态下与地板表面接触,其中工具借助于驱动器相对于地板表面可移动;
‑
引导构件,用于引导地板清洁装置;以及
‑
接头组件,以铰接方式将地板单元和引导构件彼此连接;其中,地板清洁装置优选地用于在推进方向(V)上相对于地板表面产生推进作用;其中,接头组件构造成具有第一枢转接头,该第一枢转接头具有第一枢转范围,第一枢转范围具有限定的或虚拟的第一枢转轴线,并且该第一枢转接头允许引导构件相对于地板单元绕第一枢转范围、尤其绕第一枢转轴线的枢转运动;其中,第一枢转轴线位于第一枢转轴线平面中,该第一枢转轴线平面垂直于地板表面并且包含限定推进方向的方向矢量。
技术介绍
[0002]从现有技术中已知具有不同 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种地板清洁装置(10),尤其刷洗式抽吸地板清洁装置(10),包括:
‑
地板单元(12),其与平行于待清洁的地板表面的推进方向(V)相关联;
‑
工具(18、20),其与所述地板单元(12)相关联并且在操作状态下与所述地板表面接触,其中所述工具(18、20)能够借助于驱动器相对于所述地板表面移动;
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引导构件(14),用于引导所述地板清洁装置(10);以及
‑
接头组件(16),以铰接方式将所述地板单元(12)和所述引导构件(14)彼此连接;其中,所述地板清洁装置(10)用于在所述推进方向(V)上相对于所述地板表面产生推进作用;其中,所述接头组件(16)构造成具有第一枢转接头,所述第一枢转接头具有第一枢转范围,所述第一枢转范围具有限定的或虚拟的第一枢转轴线(A),并且所述第一枢转接头允许所述引导构件(14)相对于所述地板单元(12)绕所述第一枢转范围、尤其绕所述第一枢转轴线(A)的枢转运动;其中,所述第一枢转轴线(A)位于第一枢转轴线平面(E)中,所述第一枢转轴线平面垂直于所述地板表面并且包含限定所述推进方向(V)的方向矢量;其特征在于:在机动操作状态下,所述引导构件(14)能够绕所述第一枢转轴线(A)相对于所述地板单元(12)枢转,其中所述引导构件(14)能够相对于所述地板单元(12)或相对于地板固定或暂时支撑在所述第一枢转轴线平面(E)内,其中由于所述引导构件(14)绕所述第一枢转轴线(A)的枢转运动,在所述引导构件(14)在所述枢转轴线平面(E)内的支撑作用下,所述推进作用导致所述地板单元(12)在所述地板表面上的、改善所述地板清洁装置(10)的机动性的旋转力矩。2.根据权利要求1所述的地板清洁装置(10),其特征在于,在所述机动操作状态下,所述第一枢转轴线(A)和限定所述推进方向的所述方向矢量(V)围成范围在5
°
至85
°
之间、优选在15
°
至45
°
之间的锐角。3.根据权利要求1所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述第一枢转接头能够绕所述第一枢转轴线持久地固定到所述地板单元(12)上,或者能够锁定在预定位置,所述预定位置确定所述第一纵轴线(A)与在所述机动操作状态下限定所述推进方向的所述方向矢量(V)的定向。4.根据权利要求1至3中任一项所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述接头组件(16)构造成具有第二枢转接头,所述第二枢转接头具有第二枢转范围,所述第二枢转范围具有限定的或虚拟的第二枢转轴线(B),并且所述第二枢转接头允许所述引导构件(14)相对于所述地板单元(12)绕所述第二枢转范围的枢转运动,其中所述第二枢转轴线(B)基本上平行于所述地板表面并且横向于所述第一枢转轴线(A)。5.根据权利要求4所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述接头组件(16)在功能上与支撑装置(90)相关联,所述支撑装置在所述机动操作状态下,相对于所述地板单元(12)或相对于所述地板以所述第一枢转接头至少暂时地或/和至少部分地支撑所述引导构件或所述接头组件(16)。6.根据权利要求5所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述支撑装置(90)能够至少暂时地锁定在至少一个锁定位置、优选地在至少两个锁定位置、特别优选地在至少三个锁
定位置。7.根据权利要求5所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述支撑装置(90)是能够无级地锁定的。8.根据权利要求5至7中任一项所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述支撑装置(90)构造成刚性的。9.根据权利要求5至7中任一项所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述支撑装置(190)包括弹簧元件(192),所述弹簧元件(192)根据所述第一枢转轴线(A)和限定所述推进方向的所述方向矢量(V)之间的角度具有支撑作用,优选地具有渐进支撑作用。10.根据权利要求5至7中任一项或权利要求9所述的地板清洁装置(10),其特征在于,阻尼元件与所述支撑装置(90)相关联。11.根据权利要求4至10中任一项所述的地板清洁装置(10),其特征在于,与具有第一枢转轴线(A)的所述第一枢转范围相关联的支撑装置(92、210),所述支撑装置用于在所述引导构件绕所述第一枢转轴线(A)相对于所述地板单元(12)从预定或可预定的枢转角度枢转时至少部分地支撑所述引导构件(14)。12.根据前述权利要求中任一项所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述支撑装置(210)构造成在所述引导构件绕所述第一枢转轴线(A)相对于所述地板单元(12)枢转的情况下支撑或引导所述引导构件,优选地沿着弧形路径。13.根据权利要求11和12所述的地板清洁装置(10),其特征在于,所述支撑装置(210)构造成在所述引导构件绕所述第一枢转轴线(A)枢...
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