【技术实现步骤摘要】
阵列基板、对置基板及显示面板
[0001]本申请涉及显示
,特别是涉及一种阵列基板、对置基板及显示面板。
技术介绍
[0002]平面转换型(In
‑
Plane Switching,简称IPS)液晶显示面板的公共电极与像素电极位于顶层,形成平面电场。为了使面内公共电极的电压稳定,需要尽量增加公共电极与公共电极走线之间的过孔,以使面内公共电极全导通,减小公共电极的负载,提升稳定性。
[0003]IPS液晶显示面板一般通过摩擦(Rubbing)配向工艺来定义液晶分子的初始方向。由于过孔较深,过孔周边地势不平,配向液涂布后易流入过孔中,导致过孔周边形成的配向膜变薄,显示区容易出现摩擦配向紊乱(Rubbing Mura)的问题,影响像素的画面显示。
技术实现思路
[0004]本申请的目的旨在提供一种阵列基板、对置基板及显示面板,其可以遮挡过孔周侧的配向层较薄、容易出现配向紊乱的区域,提升产品良率。
[0005]第一方面,本申请实施例提出了一种阵列基板,包括第一衬底基板、位于第一衬 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,包括第一衬底基板、位于所述第一衬底基板上的扫描线、数据线、薄膜晶体管、像素电极和公共电极,所述扫描线和所述数据线相互绝缘且交叉限定形成阵列分布的多个子像素,每个所述子像素内均设有所述薄膜晶体管和所述像素电极;所述像素电极与所述公共电极分层且绝缘设置;所述阵列基板还包括与所述扫描线同层且交叉设置的公共电极走线,所述公共电极走线包括与所述扫描线电连接的连接部,所述公共电极通过过孔与所述连接部电连接,且所述过孔在所述第一衬底基板上的正投影位于所述扫描线在所述第一衬底基板上的正投影的至少一侧,其特征在于,所述公共电极走线还包括围绕所述连接部设置的遮光部。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述遮光部与所述连接部在所述第一衬底基板上的正投影面积之和与所述连接部在所述第一衬底基板上的正投影面积的比值为:(1.2~1.5):1。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述过孔的数量为多个,且多个所述过孔在所述第一衬底基板上的正投影位于所述扫描线在所述第一衬底基板上的正投影的同一侧。4.根据权利要求1至3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括支撑柱,所述支撑柱位于所述扫描线与所述公共电极走线的交叉处,且所述支撑柱与所述过孔正对设置。5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括依次形成于所述第一衬底基板上的第一金属层、栅绝缘层、第二金属层、层间绝缘层及第三金属层;所述第一金属层包括所述薄膜晶体管的栅极、所述遮光部、所述扫描线及所述公共电极走线;所述第二金...
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