一种阴离子柱撑超微孔膜及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一种阴离子柱撑超微孔膜及其制备方法及其在低碳烃分离中的应用。该超微孔膜性质稳定并呈现出优异的分离选择性和渗透通量。制备方法：将具有氢键基团的聚合物旋涂于基底层，干燥成膜，修饰基底层，再在基底层表面原位生长无机阴离子柱撑超微孔材料层，得到该超微孔膜。无机阴离子柱撑超微孔材料层的材料由金属离子、无机阴离子和柔性配体通过配位键自组装形成；金属离子为Cu

【技术实现步骤摘要】
一种阴离子柱撑超微孔膜及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及膜分离和低碳烃分离领域，具体涉及一种阴离子柱撑超微孔膜及其制备方法与其在低碳烃分离中的应用。

技术介绍

[0002]结构相似物的选择性分离与痕量组分的深度脱除是高纯化学品制造过程中的关键，也是化工分离领域的技术挑战之一。传统分离方法如溶剂萃取和低温精馏等，存在能耗高、物耗大等不足。
[0003]随着分子筛、多孔聚合物(Porous Coordination Polymers，PCPs)、金属有机框架(metal
‑
organic frameworks，MOFs)等多孔材料的发展，吸附分离技术在近年来获得了广泛关注。如，公开号为CN 110193352 A的专利公开了一种功能化笼状硼烷阴离子柱撑的超分子微孔框架材料，由金属Cu
2+
离子与有机含氮配体L配位形成二维平面结构，再与碘取代的功能化笼状十二硼烷阴离子[B
12
H
11
I]2‑
桥连形成三维层柱形框架结构。本专利技术可以用于选择性地纯化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阴离子柱撑超微孔膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：(1)将具有氢键基团的聚合物旋涂于基底层，干燥成膜，得到修饰后的基底层；(2)在步骤(1)所得的修饰后的基底层表面原位生长无机阴离子柱撑超微孔材料层，得到所述的阴离子柱撑超微孔膜；所述具有氢键基团的聚合物为聚乙烯醇、聚乙二醇中的至少一种；所述基底层包含无机基底层和有机聚合物基底层，所述无机基底层的材料为氧化铝，所述有机聚合物基底层的材料选自聚醚砜、聚醚砜/聚乙烯吡咯烷酮树脂、聚醚砜/磺化聚醚醚酮树脂中的一种；所述无机阴离子柱撑超微孔材料层的材料由金属离子、无机阴离子和柔性配体通过配位键自组装形成；所述金属离子为Cu
2+
、Zn
2+
中的至少一种；所述无机阴离子为SiF
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‑
、GeF
62
‑
中的至少一种；所述柔性配体为4,4
’‑
联吡啶硫醚、4,4
’‑
联吡啶硫醚亚砜中的至少一种。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属离子为Cu
2+
，所述无机阴离子为GeF
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‑
，所述柔性配体为4,4
’‑
二吡啶硫醚。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，在所述旋涂的旋涂液...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔希利，胡静，邢华斌，锁显，
申请(专利权)人：浙江大学杭州国际科创中心，
类型：发明
国别省市：