【技术实现步骤摘要】
一种微波批量处理等离子体系统
[0001]本技术涉及等离子清洗设备
,具体为一种微波批量处理等离子体系统。
技术介绍
[0002]随着工艺技术水平的不断提高,集成电路的规模和复杂程度越来越高,生产中采用的新材料、新结构、新器件不断出现,传统等离子清洗技术在去除表面污染物的同时,不能有效避免对产品的电性损伤。
[0003]如中国专利CN205160898U公开的一种常压辉光等离子体装置,包括:进气系统、中频等离子体腔室、射频等离子体腔室和排气系统;进气系统设置于中频等离子体腔室的一端;射频等离子体腔室的一端与中频等离子体腔室的另一端固定联接,并且排气系统设置于射频等离子体腔室的另一端;通过进气系统排入的气体经由中频等离子体腔室进入射频等离子体腔室,并最终经由排气系统排出。具有这样的结构,当气体通过进行系统进入装置后,在该装置中首先使用中频电源激励在中频等离子体腔室中产生等离子体,该等离子体会继续传播至射频等离子体腔室,从而降低RF电源的击穿电压,进而顺利地产生汤生放电,最终在大面积内产生均匀辉光放电。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种微波批量处理等离子体系统,其特征在于:包括微波发生器(1),所述微波发生器(1)的上方通过螺丝安装有水负载(2),所述水负载(2)的上方通过螺丝安装有三销钉调配器(3),所述三销钉调配器(3)的一端通过螺丝安装有壳体(4),所述壳体(4)内安装有波导天线(5),所述壳体(4)的一侧设置有微波馈口(6),所述波导天线(5)与微波发生器(1)电性连接,所述壳体(4)的一侧通过螺丝安装有矩形外壳(7),所述外壳(7)的一侧设置有工艺腔体(8),所述壳体(4)的顶部安装有短路器(9),所述水负载(2)、三销钉调配器(3)和短路器(9)均与微...
【专利技术属性】
技术研发人员:冼健威,
申请(专利权)人:东莞市晟鼎精密仪器有限公司,
类型:新型
国别省市:
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