【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于放射治疗的X射线成像系统
交叉引用
[0001]本申请要求于2020年9月8日提交的申请号为17/015,033的美国专利申请，2020年11月7日提交的申请号为202011234813.9的中国申请，2020年11月13日提交的申请号为202011271345.2的中国申请，2020年12月14日提交的申请号为202011468108.5的中国申请，2021年3月12日提交的申请号为PCT/CN2021/080639的国际申请，以及2021年3月12日提交的申请号为PCT/CN2021/080638的国际申请，其每个的全部内容通过引用的方式并入本文。
[0002]本说明书一般涉及医疗
，更具体地，涉及用于放射治疗的成像系统和方法。
技术介绍
[0003]放射治疗是针对特定目标组织(目标体积)的局部治疗，例如癌性肿瘤。在治疗前、治疗后或治疗期间检查剂量和几何数据，以确保正确放置患者，并确保所实施的放射治疗与先前计划的治疗相符。这个过程被称为图像引导放射治疗(IGRT)，其涉及在对目标组织进行放射治疗...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种辐射系统，其特征在于，包括：第一旋转部分；第二旋转部分；治疗头，所述治疗头的至少一部分设置在所述第一旋转部分中；一个或多个成像源，所述一个或多个成像源中的至少一个设置在所述第二旋转部分中；以及至少一个探测器，其中所述第二旋转部分能够独立于所述第一旋转部分旋转。2.根据权利要求1所述的辐射系统，其特征在于，所述一个或多个成像源包括以下至少一个：第一成像源，被配置为向对象发射第一成像束，所述第一成像源设置在所述第二旋转部分中；或至少一个第二成像源，被配置为向对象发射至少一个第二成像束。3.根据权利要求2所述的辐射系统，其特征在于，所述第一成像源和所述至少一个第二成像源中的至少两个共用所述至少一个探测器中的一个。4.根据权利要求2所述的辐射系统，其特征在于，所述至少一个探测器包括以下至少一个：第一探测器，被配置为探测所述第一成像束的至少一部分，所述第一探测器设置在所述第二旋转部分中；或至少一个第二探测器，被配置为探测所述至少一个第二成像束的至少一部分。5.根据权利要求4所述的辐射系统，其特征在于，所述至少一个第二成像源或所述至少一个第二探测器固定在容纳所述辐射系统的至少一部分的房间的固定位置。6.根据权利要求4所述的辐射系统，其特征在于，所述至少一个第二探测器设置在所述第二旋转部分中，且不阻挡所述第一成像束。7.根据权利要求4所述的辐射系统，其特征在于，所述至少一个第二探测器设置在所述第一旋转部分中；以及所述第二旋转部分包括与所述至少一个第二探测器对应的至少一个开口，使得所述至少一个第二成像束的至少一部分穿过所述至少一个开口并辐射到所述至少一个第二探测器。8.根据权利要求1所述的辐射系统，其特征在于，所述第一旋转部分的第一元件和所述第二旋转部分的第二元件位于第一平面上。9.根据权利要求8所述的辐射系统，其特征在于，所述治疗头包括第一部分和第二部分，其中所述第一旋转部分的所述第一元件包括所述治疗头的所述第一部分，所述治疗头的所述第一部分被配置为向所述对象发射治疗束；以及所述第二旋转部分的所述第二元件包括所述治疗头的所述第二部分，所述治疗头的所述第二部分包括限束元件，所述限束元件被配置为调整所述治疗束的辐射范围。10.根据权利要求9所述的辐射系统，其特征在于，所述第一旋转部分的所述第一元件包括：
第三探测器，被配置为探测所述治疗束的至少一部分。11.根据权利要求9所述的辐射系统，其特征在于，所述第二旋转部分的所述第二元件包括以下中的至少一个：所述一个或多个成像源中的第一成像源，所述第一成像源被配置为向所述对象发射第一成像束；或所述至少一个探测器中的第一探测器，所述第一探测器被配置为探测所述第一成像束的至少一部分。12.根据权利要求8
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11中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第一旋转部分的第三元件和所述第二旋转部分的第四元件中的至少一个位于与所述第一平面不同的至少一个第二平面上，所述第一旋转部分的所述第三元件不同于所述第一元件，所述第二旋转部分的所述第四元件不同于所述第二元件。13.根据权利要求12所述的辐射系统，其特征在于，所述第三元件或所述第四元件包括以下中的至少一个：微波设备，被配置为促使所述治疗束的发射；加速设备，被配置为加速电子束以生成所述治疗束；冷却设备，被配置为冷却所述治疗头的至少一个元件；或高压设备，被配置为促使由所述一个或多个成像源生成的一个或多个成像束的发射。14.根据权利要求1到13中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第一旋转部分位于所述第二旋转部分的外部。15.根据权利要求1到14中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述一个或多个成像源包括至少两个成像源；以及所述至少两个成像源被配置为发射具有至少两个不同能级的成像束。16.根据权利要求2
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15中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述至少一个第二成像源设置在所述第一旋转部分中；以及所述第二旋转部分包括与所述至少一个第二成像源对应的至少一个开口，使得所述至少一个第二成像束的至少一部分穿过所述至少一个开口。17.根据权利要求2
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16中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述至少一个第二成像源设置在所述第二旋转部分中。18.根据权利要求2
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17中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第一成像源包括计算机断层扫描(CT)成像源。19.根据权利要求2
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18中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述至少一个第二成像源包括至少一个数字射线扫描(DR)成像源。20.根据权利要求1所述的辐射系统，其特征在于，所述治疗头的限束元件设置在所述第一旋转部分中。21.根据权利要求1
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20中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第二旋转部分包括开口；以及所述限束元件能够移动到所述开口中。22.根据权利要求21所述的辐射系统，其特征在于，所述第一旋转部分的一个或多个元件包括所述治疗头的治疗源、钨门、电离室、初级准直器或次级准直器中的至少一个。
23.根据权利要求1所述的辐射系统，其特征在于，所述治疗头的限束元件设置在所述第二旋转部分中。24.根据权利要求23所述的辐射系统，其特征在于，所述限束元件和所述第一成像源沿着所述第二旋转部分的圆周设置。25.根据权利要求23所述的辐射系统，其特征在于，所述限束元件和所述第一成像源沿所述第二旋转部分的旋转轴平行设置。26.根据权利要求25所述的辐射系统，其特征在于，所述第一成像源能够移动到第一位置，使得，在待成像对象的成像期间，所述一个或多个成像源的所述第一成像源对应于所述对象的区域；或所述限束元件能够移动到第二位置，使得，在待治疗对象的治疗期间，所述限束元件对应于所述对象的区域。27.根据权利要求1所述的辐射系统，其特征在于，所述治疗头的限束元件连接到所述第一旋转部分；以及所述限束元件能够移动到所述第二旋转部分的第三位置，使得所述治疗头发射的治疗束的位置对应于所述限束元件的所述第三位置。28.根据权利要求1所述的辐射系统，其特征在于，所述第一成像源独立于所述治疗头的限束元件旋转。29.根据权利要求1
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28中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第二旋转部分和所述第一旋转部分能够同步旋转。30.根据权利要求1
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29中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，还包括至少一个控制元件，被配置为促使所述第一旋转部分和所述第二旋转部分同步旋转。31.根据权利要求1到29中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，还包括锁定元件，所述锁定元件被配置为锁定所述第一旋转部分和所述第二旋转部分，使得所述第一旋转部分和所述第二旋转部分同步旋转。32.根据权利要求1
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31中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第一旋转部分通过轴承连接到所述辐射系统的固定部分。33.根据权利要求1
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31中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第二旋转部分通过轴承连接到所述第一旋转部分。34.根据权利要求1
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31中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述第一旋转部分和所述第二旋转部分分别通过轴承连接到所述辐射系统的固定部分。35.根据权利要求1
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31中任一权利要求所述的辐射系统，其特征在于，所述辐射系统包括倾斜元件，被配置为促使所述辐射系统的所述第一旋转部分、所述第二旋转部分或所述固定部分中的至少一个的倾斜。36.根据权利要求35所述的辐射系统，其特征在于，所述倾斜元件包括：与所述固定部分连接的支架，其中，通过移动所述支架使所述固定部分、所述第一旋转部分和所述第二旋转部分倾斜。37.根据权利要求36所述的辐射系统，其特征在于，所述倾斜元件还包括连接到所述固定部分的第二支架，其中所述第二支架被配置为稳定所述固定部分；以及
所述支架连接到所述第二支架。38.一种辐射系统，其特征在于，包括：第一旋转部分；第二旋转部分；治疗头，所述治疗头包括第一部分和第二部分，所述第一部...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙步梁，倪成，章卫，王理，张宏军，张剑，刘韬，廖璨，
申请(专利权)人：上海联影医疗科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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