一种新型的红外焦平面多点非均匀性校正方法及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种新型的红外焦平面多点非均匀性校正方法及系统，所述方法包括：用带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号，确定校正系数矩阵A1，B1；用打开档片的不带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号，确定校正系数矩阵A2，B2；根据所述校正系数矩阵A1，B1、校正系数矩阵A2，B2计算最终校正后输出阵列。本发明专利技术创造性的利用带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号和用打开挡片的不带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号计算两组A，B校正系数等数学模型实现了对红外焦平面阵列非均匀响应进行校正，消除固定空间噪声，适用于各类红外成像系统。适用于各类红外成像系统。适用于各类红外成像系统。

【技术实现步骤摘要】
[0042]S
WL
+L2＝A2(C
WL
+C2)+B2[0043]其中，C
H
＝C
WH
+C2，C
L
＝C
WL
+C2，C
WH
\C
WL
是不带镜头情况下仅高温和低温目标黑体辐射输入，C2是机芯温度稳定情况下包含了挡片和探测器管壳的辐射输入，L1是C1校正后的阵列，S
YH
+L1，S
YL
+L1是整体校正后的理想阵列；
[0044]根据上述数学模型，求出校正系数矩阵A2，B2。
[0045]在一些实施例中，计算模块，具体用于：
[0046]正常目标辐射C
Y
进人机芯后，根据所述校正系数矩阵A1，B1计算第一校正后输出阵列；
[0047]挡板信号辐射D进人机芯后，根据所述校正系数矩阵A2，B2计算第二校正后输出阵列；
[0048]将所述第一校正后输出阵列减去所述第二校正后输出阵列得到最终校正后输出阵列。
[0049]本专利技术实施例中，创造性的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型的红外焦平面多点非均匀性校正方法，其特征在于，包括：用带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号，确定校正系数矩阵A1，B1；用打开档片的不带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号，确定校正系数矩阵A2，B2；根据所述校正系数矩阵A1，B1、校正系数矩阵A2，B2计算最终校正后输出阵列。2.根据权利要求1所述的新型的红外焦平面多点非均匀性校正方法，其特征在于，用带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号，确定校正系数矩阵A1，B1，包括：用带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号C
H
\C
L
：S
YH
+L1＝A1(c
YH
+c1)+B1S
YL
+L1＝A1(c
YL
+c1)+B1其中，C
H
＝C
YH
+c1，C
L
＝C
YL
+C1，C
YH
\C
YL
是带镜头情况下仅高温和低温目标黑体的辐射输入，C1是机芯温度稳定情况下包含了镜头壁、和探测器管壳的辐射输入，L1是C1校正后的阵列，S
YH
+L1，S
YL
+L1是整体校正后的理想阵列；根据上述数学模型，求出校正系数矩阵A1，B1。3.根据权利要求1所述的新型的红外焦平面多点非均匀性校正方法，其特征在于，用打开档片的不带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号，确定校正系数矩阵A2，B2，包括：用打开挡片的不带镜头的红外焦平面对黑体目标采集高低温信号C
H
\C
L
：S
WH
+L2＝A2(C
WH
+C2)+B2S
WL
+L2＝A2(C
WL
+C2)+B2其中，C
H
＝C
WH
+C2，C
L
＝C
WL
+C2，C
WH
\C
WL
是不带镜头情况下仅高温和低温目标黑体辐射输入，C2是机芯温度稳定情况下包含了挡片和探测器管壳的辐射输入，L1是c1校正后的阵列，S
YH
+L1，S
YL
+L1是整体校正后的理想阵列；根据上述数学模型，求出校正系数矩阵A2，B2。4.根据权利要求2和3所述的新型的红外焦平面多点非均匀性校正方法，其特征在于，根据所述校正系数矩阵A1，B1、校正系数矩阵A2，B2计算最终校正后输出阵列，包括：正常目标辐射C
Y
进人机芯后，根据所述校正系数矩阵A1，B1计算第一校正后输出阵列；挡板信号辐射D进人机芯后，根据所述校正系数矩阵A2，B2计算第二校正后输出阵列；将所述第一校正后输出阵列减去所述第二校正后输出阵列得到最终校正后输出阵列。5.根据权利要求4所述的新型的红外焦平面多点非均匀性校正方法，其特征在于，正常目标辐射C
Y
进人机芯后，根据所述校正系数矩阵A1，B1计算第一校正后输出阵列，包括：正常目标辐射C
Y
进人机芯后，代入校正系数A1，B1后，计算出第...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈雨生，王诗强，谢剑锋，
申请(专利权)人：北京遥感设备研究所，
类型：发明
国别省市：