建构光源测量对照表的方法、光源测量方法及系统技术方案

本发明专利技术揭示了一种建构光源测量对照表的方法、光源测量方法及光源测量系统。该建构光源测量对照表的方法是利用一光源频谱模型的频谱参数、关于该光源测量系统的三个实际配色函数及三个标准配色函数，对应每一个频谱参数计算出一对照色坐标及一参考色坐标，以建立一对照表。该光源测量方法先以该光源测量系统测量一待测光源以得到实际刺激值，并计算出一实际色坐标；接着比对实际色坐标及对照色坐标，以决定关于该待测光源的一待测光源频谱参数及一估计色坐标；进一步利用该待测光源频谱参数、标准配色函数及实际刺激值，计算出一估计亮度。本发明专利技术对具有可模型化频谱特征的光源，可有效且高精确度地测量出其色度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光源测量方法及光源测量系统，尤其涉及一种利用基于一光学频谱模型建构的对照表的光源测量方法及光源测量系统。
技术介绍
现有技术中，对于一待测光源的测量，多依照国际照明协会(CommissionInternationale de l′Eclairage，CIE)于1931年的规定，借由标准的光源测量装置测量该待测光源以得到关于该待测光源的三色刺激值(Tri-stimulus value)，进而计算出色坐标(Color coordinates)的方式来实施。然而，要制造出完全符合CIE 1931所规定的三个标准配色函数(Color-matching functions) 及 的滤光片是十分困难的。另外，实际上决定光关于光源测量装置的实际配色函数还需要考虑到感光器的受光响应度(Responsivity)R(λ)并非平坦，也即实际配色函数实际上至少是这两者的组合。换句话说，实际配色函数可定义为Xi(λ)≡Ri(λ)Ti(λ)，其中Ti(λ)为滤光片的穿透函数，i＝1～3。如果再加上元件制造上的变异，实际上要使得Xi(λ)与 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光源测量方法，用以根据一对照表以一光源测量系统测量一待测光源，该对照表包含基于一光源频谱模型的多个频谱参数及多个对照色坐标，每一个对照色坐标对应所述多个频谱参数其中之一，该光源测量方法包含下列步骤：　　以该光源测量系统测量该待测光源以得到三个实际刺激值并计算出一实际色坐标；　　根据该实际色坐标及该对照表，决定匹配该实际色坐标的至少一所述对照色坐标；以及　　根据对应该匹配的至少一对照色坐标的至少一所述频谱参数，决定一待测光源频谱参数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王遵义，冯清章，张志交，
申请(专利权)人：致茂电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]