减少洁净室的扬尘的方法、仓储系统及其移载装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种减少洁净室的扬尘的方法、仓储系统及其移载装置。此仓储系统包含轨道、移载装置、储物架以及扰流挡板。此移载装置可于轨道上行进，且其包含基座、承载本体、传动件以及导流板。承载本体是配置于基座上。传动件是用以驱动基座移动，且其具有特征长度Ｄ。导流板具有平面与导流斜面，其中平面是配置在第一高度Ｈ上，且０．１Ｄ≤Ｈ≤９Ｄ。导流斜面与平面之间夹有一角度θ，此角度θ对应于特征长度Ｄ。储物架配置于轨道的一侧，且其具有储物空间。扰流挡板位于储物空间下方，并配置于第二高度ｈ上，且０．０２５Ｄ≤ｈ≤２．５Ｄ。通过本发明专利技术可阻挡随着移载装置行进时所引起的气流扬起的灰尘或微粒子对储物架上的物品造成污染。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种物品运输系统，且特别涉及一种可减少洁净室的扬尘的 方法、仓储系统及其移载装置。
技术介绍
近年来，由于半导体工艺的线宽逐渐细微化，因此其对工艺环境的洁净 度要求也随之提高。此外，在半导体装置或显示装置的工艺中，必需在各种 不同机台之间搬运晶片或玻璃基板，以通过这些机台在晶片或玻璃基板上执 行不同的半导体工艺。目前的半导体厂及显示面板厂均以自动仓储系统来取 代人工搬运的方式，以节省人力及工艺时间。图1为现有仓储系统的示意图。请参照图l，仓储系统100包含轨道110、 移载装置120以及储物架130，其中移载装置120包括滚轮122，移载装置 120即是通过其滚轮122而在轨道110上高速移动。储物架130则是位于轨 道110的一侧，且其具有多个储物空间132，用以储放物品(未示出)，如晶片或玻璃基板等。由图1可知，仓储系统100是通过移载装置120将物品搬运至别处，或 是从别处将物品搬运至储物空间132储放。然而，移载装置120在轨道110 上高速移动时，其滚轮122会与轨道IIO相互摩擦而产生微粒子于周围环境 中，或者扬起原本附着于地板或设备的微粒子，而这些微粒子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种移载装置，包含：　一基座；　一承载本体，配置于该基座上；　一传动件，可驱动该基座移动，并具有一特征长度Ｄ；以及　一导流板，具有一平面与一导流斜面，该平面配置在一第一高度Ｈ上，且０．１Ｄ≤Ｈ≤９Ｄ，该导流斜面与该平 面之间夹有一角度θ，该角度θ对应于该特征长度Ｄ。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：曾彦源，陈福源，林高平，彭志钦，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]