抗体-药物缀合物的制造方法技术

抗体

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗体
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药物缀合物的制造方法


[0001]本专利技术涉及稳定地制造抗体
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药物缀合物组合物的方法，所述组合物以恒定比率包含具有不同药物结合位置的抗体
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药物缀合物的各异构体。

技术介绍

[0002]抗体
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药物缀合物(ADC)具有与抗体缀合的具有细胞毒性的药物，所述抗体与表达于癌细胞表面的抗原结合并且还能够细胞内化，所述抗体
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药物缀合物能够将药物选择性地递送至癌细胞，因此预期引起药物在癌细胞内的积聚并杀死癌细胞(非专利文献1
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5)。
[0003]在抗体中，存在四个链间二硫键(disulfides)，其易于被还原，因为它们比其它二硫键更可能接近溶剂，并且它们各自均可用作抗体
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药物缀合物中的药物(或药物接头)的结合位点。通过还原抗体中的链间二硫键并将药物分子与产生的硫醇基团缀合，产生每个抗体分子缀合有至多八个药物分子的抗体
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药物缀合物。
[0004]每个抗体分子缀合有八个药物分子的抗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.抗体
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药物缀合物组合物的制造方法，其包括：(i)使抗体与还原剂反应以获得具有硫醇基的抗体的步骤；然后(ii)使药物接头中间体与步骤(i)中获得的具有硫醇基的抗体反应的步骤，其中进行步骤(i)直至具有四个重
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轻链间硫醇基的抗体的组成比和具有四个重
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重链间巯醇基的抗体的组成比达到稳定值。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中步骤(i)进行4小时以上。3.根据权利要求1所述的制造方法，其中步骤(i)进行12小时以上。4.根据权利要求1所述的制造方法，其中步骤(i)进行16小时以上。5.根据权利要求1所述的制造方法，其中步骤(i)进行20小时以上。6.根据权利要求1所述的制造方法，其中步骤(i)进行31小时以上。7.根据权利要求1
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6中任一项所述的制造方法，其中步骤(i)在0
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20℃下进行。8.根据权利要求1
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6中任一项所述的制造方法，其中步骤(i)在5
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20℃下进行。9.根据权利要求1
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6中任一项所述的制造方法，其中步骤(i)在5
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10℃下进行。10.根据权利要求1
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6中任一项所述的制造方法，其中步骤(i)在约10℃下进行。11.根据权利要求1
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10中任一项所述的制造方法，其中制造的抗体
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药物缀合物组合物中每个抗体分子缀合的药物接头单元的平均数在3.5
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4.5的范围内。12.根据权利要求1
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11中任一项所述的制造方法，其中在制造的抗体
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药物缀合物组合物中，缀合了四个药物接头的抗体
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药物缀合物的含量为50％以上。13.根据权利要求1
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12中任一项所述的制造方法，其中，四个药物接头与重
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轻链间硫醇缀合的抗体
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药物缀合物的组成比是四个药物接头与重
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重链间硫醇缀合的抗体
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药物缀合物的组成比的1.5
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2.5倍。14.根据权利要求1
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13中任一项所述的制造方法，其中还原剂以每分子抗体为1.9
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2.5当量使用。15.根据权利要求1
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14中任一项所述的制造方法，其中还原剂是三(2
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羧乙基)膦或其盐。16.根据权利要求1
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15中任一项所述的制造方法，其中药物接头中间体具有N
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取代的马来酰亚胺基。17.根据权利要求1
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15中任一项所述的制造方法，其中药物接头中间体是下式所示的化合物：[式1]
18.根据权利要求17所述的制造方法，其中制造的抗体
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药物缀合物组合物中的药物接头由下式所示：[式2]其中A表示与抗体的连接位置，药物接头经由硫醚键与抗体缀合。19.根据权利要求1
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18中任一项所述的制造方法，其中抗体是抗TROP2抗体或抗B7
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H3抗体。20.根据权利要求19所述的制造方法，其中抗体是抗TROP2抗体。21.根据权利要求20所述的制造方法，其中抗TROP2抗体是包含重链和轻链的抗体，所述重链包含由SEQ ID NO：5所示的氨基酸序列组成的CDRH1、由SEQ ID NO：6所示的氨基酸序列组成的CDRH2和由SEQ ID NO：7所示的氨基酸序列组成的CDRH3，所述轻链包含由SEQ ID NO：8所示的氨基酸序列组成的CDRL1、由SEQ ID NO：9所示的氨基酸序列组成的CDRL2和由SEQ ID NO：10所示的氨基酸序列组成的CDRL3。22.根据权利要求20所述的制造方法，其中抗TROP2抗体是包含重链和轻链的抗体，所述重链包含由SEQ ID NO：1的氨基酸残基20
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140组成的氨基酸序列组成的重链可变区，所述轻链包含由SEQ ID NO：2的氨基酸残基21
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129组成的氨基酸序列组成的轻链可变区。23.根据权利要求20所述的制造方法，其中抗TROP2抗体是包含重链和轻链的抗体，所述重链由SEQ ID NO：1的氨基酸残基20
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470组成的氨基酸序列组成，所述轻链由SEQ ID NO：2的氨基酸残基21
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234组成的氨基酸序列组成。24.根据权利要求23所述的制造方法，其中抗TROP2抗体在重链的羧基末端缺少赖氨酸
残基。25.根据权利要求19所述的制造方法，其中抗体是抗B7
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H3抗体。26.根据权利要求25所述的制造方法，其中抗B7
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H3抗体是包含重链和轻链的抗体，所述重链包含由SEQ ID NO：11所示的氨基酸序列组成的CDRH1、由SEQ ID NO：12所示的氨基酸序列组成的CDRH2和由SEQ ID NO：13所示的氨基酸序列组成的CDRH3，所述轻链包含由SEQ ID NO：14所示的氨基酸序列组成的CDRL1、由SEQ ID NO：15所示的氨基酸序列组成的CDRL2和由SEQ ID NO：16所示的氨基酸序列组成的CDRL3。27.根据权利要求25所述的制造方法，其中抗B7
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H3抗体是包含重链和轻链的抗体，所述重链包含由SEQ ID NO：3的氨基酸残基20
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141组成的氨基酸序列组成的重链可变区，所述轻链包含由SEQ ID NO：4的氨基酸残基21
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128组成的氨基酸序列组成的轻链可变区。28.根据权利要求25所述的制造方法，其中抗B7
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H3抗体是包含重链和轻链的抗体，所述重链由SEQ ID NO：3的氨基酸残基20
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471组成的氨基酸序列组成，所述轻链由SEQ ID NO：4的氨基酸残基21
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233组成的氨基酸序列组成。29.根据权利要求28所述的制造方法，其中抗B7
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【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤均，佐曾利有香，深津大辅，
申请(专利权)人：第一三共株式会社，
类型：发明
国别省市：