纳米压印母模的修复方法技术

本申请公开了一种纳米压印母模的修复方法，所述纳米压印母模由模板胶制成，所述纳米压印母模附着有待清洗去除的子膜胶；所述模板胶为有机硅树脂，所述子模胶为聚酯树脂；所述方法包括：将碱性清洗液与纯净水混合均匀以对所述碱性清洗液进行稀释处理；使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模以溶解子膜胶；使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗以去除子膜胶。洗以去除子膜胶。洗以去除子膜胶。

【技术实现步骤摘要】
纳米压印母模的修复方法


[0001]本申请涉及纳米压印
，更具体地，涉及一种纳米压印母模的修复方法。

技术介绍

[0002]在纳米压印工艺中，第一代母模来自于对硅片的刻蚀，但是该刻蚀工艺精度要求高、工艺难度大，使得第一代母模的生产成本极高，限制其广泛使用。因此目前常使用硅模板并利用模板胶制备出大量的第二代母模，并以此第二代母模作为生产模板用于软膜的批量生产。但是利用第二代母模制作软膜的纳米压印过程中，第二代母模上的结构区会被子模胶填充且无法在脱模过程中去除。而母模的结构区一旦被子模胶填充就会影响到后续压印工艺的进行，从而造成母模的浪费。
[0003]有鉴于此，需要提供一种新的技术方案以对纳米压印工艺中的第二代母模进行修复处理。

技术实现思路

[0004]本申请的一个目的是提供一种纳米压印母模的修复方法的新技术方案。
[0005]根据本申请的第一方面，提供了一种纳米压印母模的修复方法，所述纳米压印母模由模板胶制成，所述纳米压印母模附着有待清洗去除的子膜胶；所述模板胶为有机硅树脂，所述子模胶为聚酯树脂；
[0006]所述方法包括：
[0007]将碱性清洗液与纯净水混合均匀以对所述碱性清洗液进行稀释处理；
[0008]使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模以溶解子膜胶；
[0009]使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗以去除子膜胶。
[0010]可选地，所述碱性清洗液包括：2％
‑
4％的油酸钠、8％
‑
>12％的碳酸钠、10％
‑
14％的氢氧化钠、1％
‑
6％的甘油以及64％
‑
79％的水。
[0011]可选地，所述对所述碱性清洗液进行稀释处理时，所述碱性清洗液与所述纯净水的体积比为2:30～2:35。
[0012]可选地，所述对所述碱性清洗液进行稀释处理时，所述碱性清洗液与所述纯净水的体积比为2:33。
[0013]可选地，所述使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模的浸泡温度为40℃～55℃。
[0014]可选地，所述使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模的浸泡时间为15min～25min。
[0015]可选地，所述使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模为超声浸泡。
[0016]可选地，所述使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗为超声清洗；清洗的时间为5～8min。
[0017]可选地，所述使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗之后，所述方法还包括：
[0018]对所述纳米压印母模进行烘干处理。
[0019]可选地，所述使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗之后，所述方法还包括：
[0020]对所述纳米压印母模进行测试，判断清洗结果是否合格；若不合格，则使用高压水枪对所述纳米压印母模进行清洗。
[0021]本申请实施例提供的纳米压印母模的修复方法，从模板胶与子膜胶的成分特性出发，利用子膜胶易溶于碱性清洗液而模板胶不溶于碱性清洗液的特点，解决纳米压印母模的结构区在压印工艺中被子模胶堵塞的问题。从而达到修复纳米压印母模的目的，起到降低生产成本的作用。同时经过稀释处理的碱性清洗液相对温和，对模板胶表面的结构几乎没有影响，从而避免了对纳米压印母模造成损伤的隐患。
[0022]通过以下参照附图对本申请的示例性实施例的详细描述，本申请的其它特征及其优点将会变得清楚。
附图说明
[0023]被结合在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本申请的实施例，并且连同其说明一起用于解释本申请的原理。
[0024]图1所示为本申请实施例纳米压印母模的修复方法的步骤流程示意图；
[0025]图2所示为被子膜胶堵塞的纳米压印母模的结构区形貌图；
[0026]图3所示为去除子膜胶的纳米压印母模的结构区形貌图。
具体实施方式
[0027]现在将参照附图来详细描述本申请的各种示例性实施例。应注意到：除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本申请的范围。
[0028]以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本申请及其应用或使用的任何限制。
[0029]对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。
[0030]在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。
[0031]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。
[0032]参照图1所示，根据本申请的一个实施例，提供了一种纳米压印母模的修复方法，所述纳米压印母模由模板胶制成，所述纳米压印母模附着有待清洗去除的子膜胶；所述模板胶为有机硅树脂，所述子模胶为聚酯树脂；
[0033]所述方法包括：
[0034]S101、将碱性清洗液与纯净水混合均匀以对所述碱性清洗液进行稀释处理；
[0035]S102、使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模以溶解子膜胶；
[0036]S103、使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗以去除子膜胶。
[0037]在本申请实施例提供的纳米压印母模的修复方法中，利用有机硅树脂制成的模板胶与聚酯树脂制成的子模胶之间的性能差异对子膜胶进行去除。具体地，由于模板胶的主要成分为有机硅树脂，有机硅树脂具有化学稳定性，不易溶于碱性清洗液；而子模胶的主要成分是聚酯树脂，聚酯树脂的耐碱性较差，极易溶于碱性清洗液。因此，利用有机硅树脂和聚酯树脂二者对碱性清洗液反应灵敏度的差异，在溶解子模胶的同时保护模板胶不受腐蚀，从而达到对纳米压印母模进行修复的目的。
[0038]在步骤S101中，采用纯净水对碱性清洗液进行稀释处理，这样可以达到较为温和的清洗条件，从而在溶解子模胶的同时对模板胶进行有力的保护；在步骤S102中，采用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡纳米压印母模，这样可以有效溶解子膜胶；在步骤S103中，采用纯净水对纳米压印母模进行清洗，这样可以使溶解的子膜胶脱离模板胶，从而达到去除子膜胶、修复纳米压印母模的目的。
[0039]在一个实施例中，所述碱性清洗液包括：2％
‑
4％的油酸钠、8％
‑
12％的碳酸钠、10％
‑
14％的氢氧化钠、1％
‑
6％的甘油以及64％
‑
79％的水。
[0040]在该具体的例子中，碱性清洗液的成分包括2％
‑
4％的油酸钠、8％
‑
12％的碳酸钠、10％
‑
14％的氢氧化钠、1％
‑
6％本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述纳米压印母模由模板胶制成，所述纳米压印母模附着有待清洗去除的子膜胶；所述模板胶为有机硅树脂，所述子模胶为聚酯树脂；所述方法包括：将碱性清洗液与纯净水混合均匀以对所述碱性清洗液进行稀释处理；使用经过稀释处理的碱性清洗液浸泡所述纳米压印母模以溶解子膜胶；使用纯净水对所述纳米压印母模进行清洗以去除子膜胶。2.根据权利要求1所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述碱性清洗液包括：2％
‑
4％的油酸钠、8％
‑
12％的碳酸钠、10％
‑
14％的氢氧化钠、1％
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6％的甘油以及64％
‑
79％的水。3.根据权利要求1或2所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述对所述碱性清洗液进行稀释处理时，所述碱性清洗液与所述纯净水的体积比为2:30～2:35。4.根据权利要求3所述的纳米压印母模的修复方法，其特征在于，所述对所述碱性清洗液进行稀释处理时，所述碱性清洗液与所述纯净水的体积比为2:3...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹亚格，李莹，吾晓，韩兴君，
申请(专利权)人：歌尔光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：