喷嘴及气体分布器制造技术

本实用新型专利技术提供了一种喷嘴及气体分布器，涉及光伏行业的技术领域。喷嘴用于设置在流化床反应器内，包括固定部和旋转部；固定部顶部和旋转部底部连接，固定部底部设置有进气口；当气体从进气口通入时，旋转部能够相对固定部转动；旋转部与固定部连通；旋转部顶部密封；旋转部上设置有出气管，出气管与旋转部的内腔连通；出气管上的出气口朝向与水平面水平或者朝旋转部底部方向倾斜设置。这种设置能够避免硅粉通过喷嘴进入至进气管道内，防止了硅粉对管道形成冲刷，避免造成管道磨穿泄漏的危险。避免造成管道磨穿泄漏的危险。避免造成管道磨穿泄漏的危险。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴及气体分布器


[0001]本技术涉及光伏行业的
，尤其是涉及一种喷嘴及气体分布器。

技术介绍

[0002]反应器是一种实现反应过程的设备，广泛应用于化工、炼油、冶金等领域。在光伏行业生产多晶硅及单晶硅的企业中，大部分使用的是流化床反应器。反应器喷嘴进气是硅粉颗粒向上输送的主要推动力。喷嘴形式主要有空心锥喷嘴、实心锥喷嘴、方形喷嘴、矩形喷嘴、椭圆形喷嘴、扇形喷嘴、柱流喷嘴等。
[0003]目前，流化床主要使用的是直通式喷嘴。在使用过程中，直通式喷嘴穿设并固定在气体分布板上，并朝向反应器内部喷气。但是，在使用过程中，直通式喷嘴上方的硅粉可能会通过喷嘴出气口掉落在气体分布板下方，进入至进气管道内。这是，循环的气体携带硅粉对管道形成冲刷，有磨穿泄漏的隐患。由于冷氢化系统操作压力和温度比较高，系统内主要是氢气和氯硅烷，一旦泄漏后果很严重，具有很大的安全隐患。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种喷嘴及气体分布器，以缓解现有技术中存在的硅粉可能会通过喷嘴出气口掉落至进气管道内，造成管道磨穿、气体泄漏的危险的技术问本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴，用于设置在流化床反应器内，其特征在于，所述喷嘴包括固定部和旋转部；所述固定部顶部和所述旋转部底部连接，所述固定部底部设置有进气口；当气体从所述进气口通入时，所述旋转部能够相对所述固定部转动；所述旋转部与所述固定部连通；所述旋转部顶部密封；所述旋转部上设置有出气管，所述出气管与所述旋转部的内腔连通；所述出气管上的出气口朝向与水平面水平或者朝所述旋转部底部方向倾斜设置。2.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述旋转部的内壁上设置有螺旋上升的气体导流板。3.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述旋转部的内部设置有螺旋桨叶和固定轴；所述固定轴的两端分别与所述螺旋桨叶和所述旋转部固定连接；所述螺旋桨叶能够在气流的带动下转动。4.根据权利要求1
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3任一项所述的喷嘴，其特征在于，所述固定部的顶部设置有环形槽，所述旋转部的底部对应设置有环形...

【专利技术属性】
技术研发人员：纪晓艳，金珍海，王振荣，宋连星，王丽萍，冉胜国，刘忠斌，何先伟，武华安，巢世强，
申请(专利权)人：青海亚洲硅业硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：