喷嘴及气体分布器制造技术

本实用新型专利技术提供了一种喷嘴及气体分布器，涉及光伏行业的技术领域。喷嘴用于设置在流化床反应器内，包括固定部和旋转部；固定部顶部和旋转部底部连接，固定部底部设置有进气口；当气体从进气口通入时，旋转部能够相对固定部转动；旋转部与固定部连通；旋转部顶部密封；旋转部上设置有出气管，出气管与旋转部的内腔连通；出气管上的出气口朝向与水平面水平或者朝旋转部底部方向倾斜设置。这种设置能够避免硅粉通过喷嘴进入至进气管道内，防止了硅粉对管道形成冲刷，避免造成管道磨穿泄漏的危险。避免造成管道磨穿泄漏的危险。避免造成管道磨穿泄漏的危险。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴及气体分布器


[0001]本技术涉及光伏行业的
，尤其是涉及一种喷嘴及气体分布器。

技术介绍

[0002]反应器是一种实现反应过程的设备，广泛应用于化工、炼油、冶金等领域。在光伏行业生产多晶硅及单晶硅的企业中，大部分使用的是流化床反应器。反应器喷嘴进气是硅粉颗粒向上输送的主要推动力。喷嘴形式主要有空心锥喷嘴、实心锥喷嘴、方形喷嘴、矩形喷嘴、椭圆形喷嘴、扇形喷嘴、柱流喷嘴等。
[0003]目前，流化床主要使用的是直通式喷嘴。在使用过程中，直通式喷嘴穿设并固定在气体分布板上，并朝向反应器内部喷气。但是，在使用过程中，直通式喷嘴上方的硅粉可能会通过喷嘴出气口掉落在气体分布板下方，进入至进气管道内。这是，循环的气体携带硅粉对管道形成冲刷，有磨穿泄漏的隐患。由于冷氢化系统操作压力和温度比较高，系统内主要是氢气和氯硅烷，一旦泄漏后果很严重，具有很大的安全隐患。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种喷嘴及气体分布器，以缓解现有技术中存在的硅粉可能会通过喷嘴出气口掉落至进气管道内，造成管道磨穿、气体泄漏的危险的技术问题。
[0005]本技术提供喷嘴，用于设置在流化床反应器内，喷嘴包括固定部和旋转部；固定部顶部和旋转部底部连接，固定部底部设置有进气口；当气体从进气口通入时，旋转部能够相对固定部转动；旋转部与固定部连通；旋转部顶部密封；旋转部上设置有出气管，出气管与旋转部的内腔连通；出气管上的出气口朝向与水平面水平或者朝旋转部底部方向倾斜设置。
[0006]进一步的，旋转部的内壁上设置有螺旋上升的气体导流板。
[0007]进一步的，旋转部的内部设置有螺旋桨叶和固定轴；固定轴的两端分别与螺旋桨叶和旋转部固定连接；螺旋桨叶能够在气流的带动下转动。
[0008]进一步的，固定部的顶部设置有环形槽，旋转部的底部对应设置有环形凸起，环形凸起嵌入环形槽内，且能够沿环形槽转动。
[0009]进一步的，出气管为多个，多个出气管为一组，且多个出气管沿旋转部的周向均匀间隔设置。
[0010]进一步的，出气管为多组，多组出气管沿旋转部的轴向均匀间隔设置。
[0011]进一步的，从旋转部的顶部方向投影，多个出气管均匀间隔设置。
[0012]进一步的，本技术还提供了一种气体分布器，包括气体分布板及喷嘴；气体分布板上设置有安装孔；固定部固定连接在安装孔处。
[0013]进一步的，固定部焊接在安装孔的内壁上。
[0014]进一步的，喷嘴为多个，安装孔对应设置为多个；多个安装孔均匀间隔设置。
[0015]本技术提供的喷嘴，在使用过程中，由于旋转部顶部密封，硅粉下落时无法从
喷嘴的顶部进入喷嘴内部；同时，由于出气管上的出气口朝向与水平面水平，或者朝旋转部底部方向倾斜设置，由于重力作用，硅粉下落时，也无法从出气口处进入喷嘴内部。这种设置能够避免硅粉通过喷嘴进入至进气管道内，防止了硅粉对管道形成冲刷，避免造成管道磨穿泄漏的危险。另外，由于旋转部能够相对于固定部转动，当气体从进气口通入时，旋转部相对固定部转动，从而带动出气管转动，气体从出气口旋转喷出，在反应釜内形成螺旋气流，这样能够延长气体停留的时间，增加气体与硅粉的接触时间，令反应更加完全。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1为本技术实施例提供的喷嘴的截面图；
[0018]图2为本技术另一实施例提供的喷嘴的截面图；
[0019]图3为本技术实施例提供的喷嘴的俯视图；
[0020]图4为本技术实施例提供的气体分布板的结构示意图；
[0021]图5为本技术实施例提供的气体分布板的截面图。
[0022]图标：1
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固定部；2
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旋转部；3
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进气口；4
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出气管；5
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出气口；6
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气体导流板；7
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螺旋桨叶；8
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固定轴；9
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环形槽；10
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环形凸起；11
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气体分布板；12
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安装孔；13
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堵头。
具体实施方式
[0023]下面将结合实施例对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]如图1和图2所示，本技术实施例提供的喷嘴，用于设置在流化床反应器内，喷嘴包括固定部1和旋转部2；固定部1顶部和旋转部2底部连接，固定部1底部设置有进气口3；当气体从进气口3通入时，旋转部2能够相对固定部1转动；旋转部2与固定部1连通；旋转部2顶部密封；旋转部2上设置有出气管4，出气管4与旋转部2的内腔连通；出气管4上的出气口5朝向与水平面水平或者朝旋转部2底部方向倾斜设置。
[0025]其中，喷嘴的材质可选用316不锈钢。
[0026]固定部1和旋转部2可以为一体成型。
[0027]旋转部2顶部可通过堵头13密封。
[0028]旋转部2可呈直筒状。
[0029]出气口5的朝向可相对于水平面朝旋转部2底部方向倾斜45
°
。
[0030]固定部1的顶部可设置有环形旋转凸起，旋转部2的底部对应设置有环形旋转槽，环形旋转凸起嵌入环形旋转槽内。在使用过程中，当二者产生相对转动时，环形旋转凸起静止不动，具有环形旋转槽的旋转部2开始转动，环形旋转凸起对旋转部2起到限位的作用。
[0031]本实施例中，在使用过程中，由于旋转部2顶部密封，硅粉下落时无法从喷嘴的顶
部进入喷嘴内部；同时，由于出气管4上的出气口5朝向与水平面水平，或者朝旋转部2底部方向倾斜设置，由于重力作用，硅粉下落时，也无法从出气口5处进入喷嘴内部。这种设置能够避免硅粉通过喷嘴进入至进气管道内，防止了硅粉对管道形成冲刷，避免造成管道磨穿泄漏的危险。另外，由于旋转部2能够相对于固定部1转动，当气体从进气口3通入时，旋转部2相对固定部1转动，从而带动出气管4转动，气体从出气口5旋转喷出，在反应釜内形成螺旋气流，这样能够延长气体停留的时间，增加气体与硅粉的接触时间，令反应更加完全。
[0032]另外，气体从出气口5喷出形成旋转气流，反应釜中的气泡能够在气流的带动下相互碰撞破裂，因此，上述装置还能够产生破泡效果。
[0033]如图1所示，在上述实施例的基础上，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴，用于设置在流化床反应器内，其特征在于，所述喷嘴包括固定部和旋转部；所述固定部顶部和所述旋转部底部连接，所述固定部底部设置有进气口；当气体从所述进气口通入时，所述旋转部能够相对所述固定部转动；所述旋转部与所述固定部连通；所述旋转部顶部密封；所述旋转部上设置有出气管，所述出气管与所述旋转部的内腔连通；所述出气管上的出气口朝向与水平面水平或者朝所述旋转部底部方向倾斜设置。2.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述旋转部的内壁上设置有螺旋上升的气体导流板。3.根据权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述旋转部的内部设置有螺旋桨叶和固定轴；所述固定轴的两端分别与所述螺旋桨叶和所述旋转部固定连接；所述螺旋桨叶能够在气流的带动下转动。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的喷嘴，其特征在于，所述固定部的顶部设置有环形槽，所述旋转部的底部对应设置有环形...

【专利技术属性】
技术研发人员：纪晓艳，金珍海，王振荣，宋连星，王丽萍，冉胜国，刘忠斌，何先伟，武华安，巢世强，
申请(专利权)人：青海亚洲硅业硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：