调光装置、照明装置及投影机制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够减少返回到光的出射区域的光量的调光装置、照明装置及投影机。对从预定的出射区域（发光部）出射的光束的透射光量进行调整的调光装置（５）具有：具有沿相对于所述光束的中心轴大致正交方向的转动轴（ＡＸ１、ＡＸ２）的转动部件（齿轮）（５４、５５）；由转动部件（５４、５５）保持且随着该转动部件（５４、５５）的转动对该光束的至少一部分进行遮蔽的遮光部件（５６、５７）。遮光部件（５６、５７）具有对入射的光的透射进行限制并遮光的遮光面（５６Ａ、５７Ａ），对遮光面（５６Ａ、５７Ａ）施加使被该遮光面（５６Ａ、５７Ａ）反射且到达出射区域的光量相对于向该遮光面（５６Ａ、５７Ａ）入射的光量减少的加工。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对从预定的出射区域出射的光的透射光量进行调整的调光 装置、具有该调光装置的照明装置及投影机。
技术介绍
一直以来，周知一种投影机，该投影机具有光源装置、根据图像信 息对从该光源装置出射的光束进行调制而形成图像光的光调制装置、和对 所形成的图像光进行放大投射的投射光学装置。其中，作为光源装置，多 使用一种具有光源灯和对从该光源灯出射的光进行反射使其向一个方向出 射的反射镜的光源装置。作为这样的投影机，以提高被投射的图像的对比度等为目的提出了一 种投影机，其具有对从光源装置出射且入射于光调制装置中的光束的光量 进行调整的调光装置(例如，参照专利文献l)。该专利文献1所记载的调光装置具有相对于入射的光束的中心轴对 称配置的一对遮蔽部件；分别保持各遮蔽部件，并且通过转动使该遮蔽部 件夹装于光束的光路内的一对转动轴；使该一对转动轴转动的驱动机构； 和支承一对转动轴及驱动机构并一体化的固定部件。这样的调光装置，被 设置在用于通过从光源装置出射的光束对作为光调制装置的液晶面板的图 像形成区域均匀照明而设的一对透镜阵列间。而且，在该调光装置中，根 据驱动机构的驱动量，即根据转动轴的转动量，向入射光束的透射区域插 入遮蔽部件，通过该遮蔽部件部分遮蔽入射光束，由此对入射于图像形成 区域的光量进行调整。专利文献1:日本特开2007 - 71913号7〉才艮这里，在所述的专利文献l所记载的调光装置中，在一对遮蔽部件处于全闭状态，即在该一对遮蔽部件以位于同一平面上的方式配置的状态下，该各遮蔽部件相对于入射于各遮蔽部件的光束的中心轴正交。在该情况下，入射于遮蔽部件的光，与从光源装置出射、且入射于该遮蔽部件的光路反向行进并入射于光源装置。如果这样由遮蔽部件反射的光入射于光源装置(尤其为所述的光源灯)，则会使光源装置的温度上升，存在容易使该光源装置劣化这一问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够减少返回光的出射区域的光量的调光装置、照明装置及投影机。为了实现所述目的，本专利技术的调光装置，对从预定的出射区域出射的光束的透射光量进行调整，其特征在于，具有转动部件，该转动部件具有沿与所述光束的中心轴大致正交方向的转动轴；遮光部件，由所述转动部件保持，并且，随着该转动部件的转动对该光束的至少一部分进行遮蔽，所述遮光部件具有对入射的光的透射进行限制并遮光遮光面，对所述遮光面施加加工，以相对于入射于该遮光面的光量，减少由该遮光面反射且到达所述出射区域的光量。根据本专利技术，通过对遮光面实施加工，相对于入射于遮光面的光量，能够减少入射于调光装置的光的返回出射区域的光量。由此，例如，作为对调光装置出射光束的光源装置，使用具有所述光源灯及反射镜的光源装置的情况下，光源灯成为光的出射区域，所以相对于入射于遮光部件的光量，能够减少返回光源灯的光量，由此，能够抑制光源灯的温度上升。因此，能够抑制出射区域的温度上升，在使用光源灯作为该出射区域的情况下，能够抑制该光源灯的劣化。在本专利技术中，优选所述遮光面以向接近所述出射区域的方向突出的方式弯曲而形成。根据本专利技术，遮光面形成为向接近出射区域的方向突出的弯曲面。由此，在遮光部件以相对于从出射区域出射的光束的中心轴大致正交的方式 配置的情况下，能够通过该遮光面反射入射的光使得其向来自出射区域的 光束的透射区域外扩散。因此，沿光从出射区域入射于遮光面时的光路反 向行进，能够切实地减少到达该出射区域的光量。因此，能够切实地抑制 出射区域的温度上升。在本专利技术中，优选在所述遮光面形成吸收入射于该遮光面的光的光吸 收层。根据本专利技术，通过在遮光面上形成光吸收层，相对于入射于该遮光面 的光量，能够减少由该遮光面反射的光量，所以，能够切实地减少从遮光 面到达出射区域的光。因此，能够切实地抑制出射区域的温度上升。另夕卜， 如前所述，在弯曲形成的遮光面上形成有光吸收层的情况下，能够进一步 减少到达出射区域的光量。因此，能够进一步切实地抑制出射区域的温度 上升。在本专利技术中，优选，在所述遮光部件以相对于所述光束的中心轴大致 正交的方式配置时，在所述遮光面上形成有具有相对于该中心轴倾斜的倾 斜面的凸部。根据本专利技术，在遮光部件以相对于从出射区域出射的光束的中心轴大 致正交的方式配置的情况下，通过形成于遮光面、且具有相对于该中心轴 倾斜的倾斜面的凸部，能够反射入射于该遮光面的光，使得其在从出射区 域出射的光束的透射区域的外側扩散。由此，与弯曲形成的所述遮光面同 样地，能够减少沿从出射区域向遮光面入射的光的光路反向行进而到达该 出射区域的光量。因此，能够切实地抑制出射区域的温度上升。而且，八部，就能够进一步减少到达出射区域的光量。另外，本专利技术的照明装置，其特征在于具有出射光束的光源装置和 所述的调光装置，所述光源装置具有具有出射光的发光部的光源灯；对 从所述光源灯出射的光进行反射，使该光作为光束向一个方向出射的反射 镜，所述遮光部件被配置在所述光束的光路上，所述出射区域为所述光源灯的发光部。在使用具有一对电极并通过对该一对电极施加电压从而发光的光源灯的情况下，作为这样的发光部，可以是该光源灯中设有一对电极的区域(尤其为电极间的区域)。才艮据本专利技术，能够得到与所述的调光装置同样的效果。另外，入射于遮光部件的光的出射区域为构成光源装置的光源灯的发光部，所以，能够抑制该发光部的温度上升，能够防止该光源灯的劣化乃至抑制照明装置的劣化。另外，本专利技术的投影机，其特征在于具有所述照明装置；对从该照明装置出射的光束进行调制，并形成与图像信息相对应的图像光的光调制装置；和对形成的所述图像光进行投射的投射光学装置。根据本专利技术，除了能够得到与所述的照明装置同样的效果之外，通过调光装置还能够对从照明装置入射于光调制装置的光量进行调节，所以，能够提高通过该光调制装置形成且由投射光学装置投射的图像的对比度。附图说明图l是表示本专利技术的第1实施方式中的投影机的构成的示意图。图2是表示所述实施方式中的光学部件用框体的立体图。图3是表示所述实施方式中的光学部件用框体的立体图。图4是表示所述实施方式中的调光装置的立体图。图5是表示所述实施方式中的调光装置的立体图。图6是表示所述实施方式中的遮光部件、第1透镜阵列及第2透镜阵列的位置关系的立体图。图7是表示通过所述实施方式中的遮光部件反射的反射光的光路的示意图。图8是表示通过所述实施方式中的遮光部件反射的反射光的光路的示意图。图9是表示本专利技术的笫2实施方式中的投影机的调光装置所具有的遮7光部件的立体图。图IO是表示入射于所述实施方式中的遮光部件的光的光路的示意图。图ll是表示入射于所述实施方式中的遮光部件的光的光路的示意图。图12是表示本专利技术的第3实施方式中的投影机的调光装置所具有的遮 光部件的立体图。图13是表示本专利技术的笫4实施方式中的投影机所具有的调光装置的遮 光部件的构成和由该遮光部件反射的反射光的光路的示意图。 符号的说明1…投影机，3…投射透镜(投射光学装置)，5、 6、 7、 8…调光装置， 41…照明光学装置(照明装置)，54、 55…齿轮(转动部件)，56、 57、 66、 67、 76、 77、 86、 87…遮光部件，411…光源装置，416…光源灯，417… 反射器(反射镜)，442 ( 4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调光装置，其调整从预定的出射区域出射的光束的透射光量，其特征在于，具有：　转动部件，该转动部件具有沿与所述光束的中心轴大致正交方向的转动轴；和　遮光部件，该遮光部件由所述转动部件保持、且伴随着该转动部件的转动对该光束的至少一部分进行遮蔽，　所述遮光部件，　具有对入射的光的透射进行限制并遮光的遮光面，　对所述遮光面，施加使由该遮光面反射且到达所述出射区域的光量相对于入射于该遮光面的光量减少的加工。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中野宽久，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]