椭偏测量系统技术方案

一种椭偏测量系统，包括恒温机构、位移台、入射机构、收光机构、和探测机构。恒温机构，适用于放置待测样品且将待测样品的温度保持在恒温状态；位移台，被构造为可以沿着不同方向伸缩；入射机构，安装在位移台上，适用于使第一线偏振光入射至待测样品上，以使第一线偏振光在待测样品上发生反射，得到椭圆偏振光；收光机构，安装在位移台上，适用于将椭圆偏振光转换成圆偏振光；探测机构，安装在位移台上，适用于将聚焦激光入射至待测样品的表面，以及获取聚焦激光在待测样品表面上的聚焦状态，以及适用于对圆偏振光进行探测，以得到待测样品的光学参数。学参数。学参数。

【技术实现步骤摘要】
椭偏测量系统


[0001]本专利技术涉及光学测量领域，特别涉及椭偏测量系统。

技术介绍

[0002]对于常温下折射率测量，目前已有很多高精度且成熟的技术方法，例如椭圆偏振法、棱镜耦合法、干涉法、透射谱/反射谱法。
[0003]椭圆偏振法是最为常见且已经商业化的折射率测量方法，其通过测量样品反射前后偏振光相位、幅度的变化，来得到待测材料的介电性质（复数折射率或介电常数）。椭偏技术的优势在于其测量精度高，对样品无接触、无破坏性，可测量体材料、薄膜材料的光学参数。棱镜耦合法是通过在薄膜样品表面放置一块耦合棱镜，测量入射的光耦合到薄膜的角度来确定材料的光学参数，该方法只要求角度测量，测量方便，精度较高。干涉法利用相干光通过薄膜材料干涉形成等厚干涉条纹，来确定薄膜材料的光学参数。该方法可以适用于透明样品、弱吸收样品和非透明样品，但不能同时获得厚度和折射率数据，干涉对比度低，光路复杂且要求精度很高。透射谱/反射谱法通过测试宽谱光源通过薄膜的透射率曲线或反射率曲线来计算得到折射率或厚度，两者不能同时得到，原理简单，但对薄膜样品质量要求较高。但是上述方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种椭偏测量系统，其特征在于，包括：恒温机构，适用于放置待测样品且将所述待测样品的温度保持在恒温状态；位移台，被构造为能够沿着不同方向伸缩；入射机构，安装在所述位移台上，适用于使第一线偏振光入射至所述待测样品上，以使所述第一线偏振光在所述待测样品上发生反射，得到椭圆偏振光；收光机构，安装在所述位移台上，适用于将所述椭圆偏振光转换成圆偏振光；探测机构，安装在所述位移台上，适用于将聚焦激光入射至所述待测样品的表面，并且适用于获取所述聚焦激光在所述待测样品表面上的聚焦状态，以及适用于对所述圆偏振光进行探测，以得到所述待测样品的光学参数；其中，响应于所述聚焦激光在所述待测样品表面上的聚焦状态发生变化，所述位移台发生伸缩，以对所述待测样品的位置进行校正，从而使所述第一线偏振光入射至所述待测样品上的位置保持不变。2.根据权利要求1所述的椭偏测量系统，其特征在于，所述探测机构包括：第一分束镜，适用于透过外部的探测激光；第二分束镜，适用于再次透过所述探测激光；物镜，适用于使所述探测激光聚焦，得到所述聚焦激光，并使所述聚焦激光入射至所述待测样品的表面，所述物镜还适用于接收并放大所述待测样品反射的聚焦激光，反射后的聚焦激光经所述第二分束镜分为透射激光和第一反射激光，所述透射激光经所述第一分束镜后得到第二反射激光；成像装置，适用于对所述第一反射激光进行成像；光谱仪，适用于探测所述第二反射激光的强度；其中，所述第一反射激光成的像和所述第二反射激光的强度适用于判断所述聚焦激光在所述待测样品表面上的聚焦状态，所述光谱仪还适用于对所述圆偏振光进行探测，以得到所述待测样品的光学参数。3.根据权利要求2所述的椭偏测量系统，其特征在于，所述探测机构还包括：第一光纤，适用于将外部的探测激光传输至所述第一分束镜；第一光纤准直器，设置在所述第一光纤和所述第一分束镜之间，适用于对所述探测激光进行准直；第二光纤准直器，适用于对所述第二反射激光进行准直后输入至所述光谱仪。4.根据权利要求1所述的椭偏测量系统，其特征在于，所述恒温机构包括：外壳，其内部形成一容置空间，所述外壳上还...

【专利技术属性】
技术研发人员：霍永恒，蒋国秋，刘润泽，潘建伟，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：发明
国别省市：