一种共挤模头装置及其生产的复合光学板制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种共挤模头装置，包括上模和下模，上模和下模相对设置，上模和下模的前端形成成型通道，上模与下模之间设有上内模和下内模，上内模靠近下内模一侧若干个凹槽，下内模靠近上内模一侧若干个凸条，上内模和下内模之间形成第一流道，下内模与下模之间形成第二流道，第二流道位于第一流道下方，上内模与下内模之间形成第三流道，第三流道位于第一流道上方，第一流道、第二流道及第三流道汇合共挤进入成型通道。本发明专利技术提供了一种共挤模头装置，通过对共挤模头结构的改进，从而在多层板材共挤过程中，形成内层的表面具有结构的多层板，使制作工艺更加简单便捷，并且避免了粘合层对光线所造成的干扰。本发明专利技术还提供了一种复合光学板。合光学板。合光学板。

【技术实现步骤摘要】
一种共挤模头装置及其生产的复合光学板


[0001]本专利技术涉及复合光学板生产
，尤其涉及一种共挤模头装置及其生产的复合光学板。

技术介绍

[0002]现有的背光模组中，需要将背光源与对应的光学组件进行配合，才能更好地对画面进行显示，其中光学板作为现有的光学组件中，能够对光线具有较好调整的主要部件之一。
[0003]现有的光学板随着人们对画面的要求越来越高，也对应地进行改进和发展，例如光学扩散板，而现有的光学扩散板为了满足更多不同需求的扩散效果，将不同折射率的材质通过共挤的方式，从而形成多层结构的复合光学扩散板，从而是光线在进入不同折射层时，能够产生不一样的折射效果，并且跟进一步的，在挤出之后，再通过压印的方式，在复合扩散板的上下表面压印出光学结构，从而起到更好地产生不同的光学效果。
[0004]但是受限于共挤的制作方式，在复合扩散板的制作过程中，无法对中扩散层的上表面和下表面设置对应的光学结构，造成了中扩散层的扩散效果仅依靠材料本身，虽然现有有复合扩散板能够在中间层设置微结构，例如现有的专利公开号为CN113031136本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种共挤模头装置，其特征在于，包括上模和下模，所述上模和下模相对设置，所述上模和下模的前端形成成型通道，所述上模与下模之间设有上内模和下内模，所述上内模和下内模相对设置，所述上内模靠近下内模一侧若干个凹槽，所述凹槽沿上内模的宽度排列设置，所述下内模靠近上内模一侧若干个凸条，所述凸条沿下内模的宽度排列设置，所述上内模和下内模之间形成第一流道，所述下内模与下模之间形成第二流道，所述第二流道位于第一流道下方，所述上内模与下内模之间形成第三流道，所述第三流道位于第一流道上方，所述第一流道、第二流道及第三流道汇合共挤进入成型通道。2.如权利要求1所述的一种模头装置，其特征在于，所述凸条的截面形状为半圆形或三角形，所述凹槽的截面形状为半圆形或三角形。3.如权利要求1所述的一种模头装置，其特征在于，所述上内模和下内模相互靠近一侧设有T字型结构的第一流槽，且所述第一流槽分别与凹槽和凸条接壤，所述上内模和下内模通过第一流槽形成第一流道。4.如权利要求3所述的一种模头装置，其特征在于，所述上内模和下内模靠近成型通道一端的表面为斜面结构，所述上模和下模分别沿上内模和下内模的表面进行设置，所述上模和下模相互靠近一侧均设有T字型结构的第二流槽，且所述第二流槽也对应沿上内模和下内模的表面设置，且所述上模和下...

【专利技术属性】
技术研发人员：凌高德，郑日新，王兴礼，梁满意，何小磊，
申请(专利权)人：广东瑞捷新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：