一种新型的链式槽体的配液系统及链式清洗设备技术方案

本实用新型专利技术属于链式湿法刻蚀清洗设备技术领域，具体涉及一种新型的链式槽体的配液系统及链式清洗设备，通过槽体装置、控制模块，以及与所述控制模块电性连接的循环装置和补液装置；所述槽体装置与所述循环装置和所述补液装置连接；所述控制模块适于控制所述循环装置对槽体装置内的溶液进行循环；所述控制模块适于在所述槽体装置内的溶液不足时控制所述补液装置对槽内装置内进行补液，实现了槽体装置中配液精准，避免了配液不精准导致对于硅片清洗效果不佳的影响，确保了硅片的质量。确保了硅片的质量。确保了硅片的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种新型的链式槽体的配液系统及链式清洗设备


[0001]本技术属于链式湿法刻蚀清洗设备
，具体涉及一种新型的链式槽体的配液系统及链式清洗设备。

技术介绍

[0002]目前链式单面去PSG和BSG清洗设备产能要求大，采用的双轨道传动，共用一个槽体的结构，槽体截面积大且截面积不规则，采用传统的液位检测器配液，因为截面积大且不规则导致配液精度差。
[0003]即当清洗设备因产能要求，扩大同时间内硅片的处理数量，进而槽体的整体宽度变长，传统的液位检测器配液方式一方面添配的各溶液密度不同，反映到液位检测器存在液位虚高，另一方面由于传输辊部分与液面接触，造成部分液面横截面有差异，不能真实反映槽内溶液的液面高度。
[0004]因此，基于上述技术问题需要设计一种新型的链式槽体的配液系统及链式清洗设备。

技术实现思路

[0005]本技术的目的是提供一种新型的链式槽体的配液系统及链式清洗设备，以解决链式单面去PSG清洗设备槽体配液差技术问题。
[0006]为了解决上述技术问题，本技术提供了一种新型的链式槽体的配液系统，包括：
[0007]槽体装置、控制模块，以及与所述控制模块电性连接的循环装置和补液装置；
[0008]所述补液装置与所述槽体装置连接，所述循环装置与所述槽体装置连接；
[0009]所述控制模块适于控制所述循环装置对槽体装置内的溶液进行循环；
[0010]所述控制模块适于在所述槽体装置内的溶液不足时控制所述补液装置对槽内装置内进行补液。
[0011]进一步，所述槽体装置包括：主槽体；
[0012]所述主槽体的两侧设置有溢流槽，所述主槽体与所述溢流槽之间设有挡水板；
[0013]所述溢流槽适于承接主槽体中溢流的溶液；
[0014]所述主槽体设有连通口，用于连通所述补液装置。
[0015]进一步，所述循环装置包括：副槽体，与所述溢流槽连通；
[0016]泵浦，设置在所述副槽体与所述主槽体之间，所述泵浦与所述控制模块电性连接；以通过控制模块控制泵浦将副槽体内的溶液泵入所述主槽体中。
[0017]进一步，所述循环装置还包括：旁通管和液位检测器；
[0018]所述旁通管与所述副槽体连通；
[0019]所述液位检测器设置在所述旁通管内；
[0020]所述液位检测器与所述控制模块电性连接；
[0021]所述液位检测器适于检测所述旁通管内液位高度，以获取副槽体内的液位高度。
[0022]进一步，所述旁通管设置在所述副槽体的一侧，并且所述旁通管的底面与所述副槽体的底面位于同一水平面。
[0023]进一步，所述副槽体内沿副槽体的高度方向上下设置有第一液位传感器和第二液位传感器；
[0024]所述第一液位传感器和所述第二液位传感器均与所述控制模块电性连接；
[0025]在副槽体内溶液高于第一液位传感器或低于第二液位传感器时进行报警，并且在副槽体内溶液低于第二液位传感器时控制模块控制所述泵浦停止工作。
[0026]进一步，所述补液装置包括：至少一个补液机构；
[0027]所述补液机构包括：供液管路、流量传感器和气动阀；
[0028]所述供液管路一端与所述槽体装置连通，另一端与供液装置连通，所述流量传感器和所述气动阀设置在所述供液管路上，所述流量传感器适于检测所述供液中溶液的流量；所述气动阀适于关断或导通所述供液管路。
[0029]进一步，所述补液装置包括：第一补液机构和第二补液机构；
[0030]所述第一补液机构与所述槽体装置连接；
[0031]所述第二补液机构与所述槽体装置连接；
[0032]所述第一补液机构适于向所述主槽体中注入纯水；
[0033]所述第二补液机构适于向所述主槽体中注入药溶液。
[0034]进一步，所述主槽体的上方设置有若干传动辊；
[0035]所述传动辊适于运输硅片。
[0036]另一方面，本技术还提供一种链式清洗设备，包括上述新型的链式槽体的配液系统。
[0037]本技术的有益效果是，本技术通过槽体装置、控制模块，以及与所述控制模块电性连接的循环装置和补液装置；所述槽体装置与所述循环装置和所述补液装置连接；所述控制模块适于控制所述循环装置对槽体装置内的溶液进行循环；所述控制模块适于在所述槽体装置内的溶液不足时控制所述补液装置对槽内装置内进行补液，实现了槽体装置中配液精准，避免了配液不精准导致对于硅片清洗效果不佳的影响，确保了硅片的质量。
[0038]本技术的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。
[0039]为使本技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。
附图说明
[0040]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0041]图1是本技术的一种新型的链式槽体的配液系统的结构示意图；
[0042]图2是本技术的一种新型的链式槽体的配液系统的原理框图。
[0043]图中：
[0044]1主槽体、2副槽体、3挡水板、4泵浦、5旁通管、6液位检测器、7第一液位传感器、8第二液位传感器、9纯水管道、10第一流量传感器、11第一气动阀、12药溶液管道、13第二流量传感器、14第二气动阀、15传动辊、16硅片、17溢流槽、18溢流口。
具体实施方式
[0045]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0046]实施例1
[0047]如图1和图2所示，本实施例1提供了一种新型的链式槽体的配液系统，包括：槽体装置、控制模块，以及与所述控制模块电性连接的循环装置和补液装置；所述槽体装置与所述循环装置和所述补液装置连接；所述控制模块适于控制所述循环装置对槽体装置内的溶液进行循环；所述控制模块适于在所述槽体装置内的溶液不足时控制所述补液装置对槽内装置内进行补液，实现了槽体装置中配液精准，避免了配液不精准导致对于硅片16清洗效果不佳的影响，确保了硅片16的质量。
[0048]在本实施例中，所述控制模块可以但不限于采用PLC。
[0049]在本实施例中，所述槽体装置包括：主槽体1；所述主槽体1的两侧设置有溢流槽17；所述主槽体1与所述溢本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型的链式槽体的配液系统，其特征在于，包括：槽体装置、控制模块，以及与所述控制模块电性连接的循环装置和补液装置；所述补液装置与所述槽体装置连接，所述循环装置与所述槽体装置连接；所述控制模块适于控制所述循环装置对槽体装置内的溶液进行循环；所述控制模块适于在所述槽体装置内的溶液不足时控制所述补液装置对槽内装置内进行补液。2.如权利要求1所述的新型的链式槽体的配液系统，其特征在于，所述槽体装置包括：主槽体；所述主槽体的两侧设置有溢流槽，所述主槽体与所述溢流槽之间设有挡水板；所述溢流槽适于承接主槽体中溢流的溶液；所述主槽体设有连通口，用于连通所述补液装置。3.如权利要求2所述的新型的链式槽体的配液系统，其特征在于，所述循环装置包括：副槽体，与所述溢流槽连通；泵浦，设置在所述副槽体与所述主槽体之间，所述泵浦与所述控制模块电性连接；以通过控制模块控制泵浦将副槽体内的溶液泵入所述主槽体中。4.如权利要求3所述的新型的链式槽体的配液系统，其特征在于，所述循环装置还包括：旁通管和液位检测器；所述旁通管与所述副槽体连通；所述液位检测器设置在所述旁通管内；所述液位检测器与所述控制模块电性连接；所述液位检测器适于检测所述旁通管内液位高度，以获取副槽体内的液位高度。5.如权利要求4所述的新型的链式槽体的配液系统，其特征在于，所述旁通管设置在所述副槽体的一侧，并且所述旁通管的底面与所述副槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：左国军，刘洪勇，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：